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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]图案生成方法以及信息处理装置-CN201510434239.4有效
发明人： 石井弘之;中山谅;荒井祯 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2015-07-22 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供一种图案生成方法以及信息处理装置。所述图案生成方法包括：限定步骤，在各单元中限定主图案的占有区；布置步骤，相邻布置第一单元和具有在所述主图案的占有区外部的辅助图案的第二单元，使得所述第二单元的所述占有区外部的辅助图案存在于所述第一单元的主图案的占有区中；以及生成步骤，通过在相邻布置的所述第一单元和所述第二单元中的、所述第二单元的所述占有区外部的辅助图案的图案元素与所述第一单元中的所述主图案接近或交叠的部分中，去除所述辅助图案的图案元素，来生成所述掩模的图案。
图案生成方法以及信息处理装置

[发明专利]掩模图案生成方法、记录介质和信息处理装置-CN201410256948.3有效
发明人： 石井弘之;山添贤治 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2014-06-11 - 公布日： 2018-02-23 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种掩模图案生成方法、记录介质和信息处理装置。还涉及一种用于通过处理器进行的计算来生成用于曝光装置的掩模的图案的方法，包括在代表性辅助图案的位置相对于代表性主图案改变的同时对目标主图案应用对于多个位置中的每一个所计算出的、代表性主图案的图像的特性值相对于代表性辅助图案的位置的参考图，并且计算目标主图案的图像的特性值相对于辅助图案的位置的图，并且通过使用目标主图案的图像的特性值的图的数据来确定辅助图案的位置和生成包括目标主图案和所确定的辅助图案的掩模的图案。
图案生成方法记录介质信息处理装置

[发明专利]图案生成方法-CN201310226984.0无效
发明人：三上晃司;荒井祯;石井弘之 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2013-06-08 - 公布日： 2014-01-01 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种图案生成方法，用于使用计算机来生成用于生成掩模的图案的单元的图案，包括：获得单元的图案的数据；通过重复改变当具有单元的图案的掩模受照射以将单元的图案的图像投影到基板上以使基板曝光时的曝光条件的参数值、以及单元的图案的参数值来计算单元的图案的图像以获得图像的评价值；以及确定当评价值满足预定的评价标准时的单元的图案的参数值。
图案生成方法

[发明专利]产生掩模数据的方法、制造掩模的方法和曝光方法-CN201110333535.7有效
发明人： 石井弘之;辻田好一郎 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2011-10-28 - 公布日： 2012-07-18 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本申请涉及产生掩模数据的方法、制造掩模的方法和曝光方法。掩模包括用于解析将形成在衬底上的目标图案的主图案和不进行解析的辅助图案。设置主图案和辅助图案的参数的值。计算在通过投射光学系统投射由主图案和辅助图案的参数值确定的主图案和辅助图案的情况下形成的图像。基于通过修改主图案和辅助图案的参数值而执行的计算的结果，确定主图案和辅助图案的参数值，以产生包括所确定的主图案和辅助图案的掩模的数据。
产生数据方法制造曝光

[发明专利]抗蚀剂图案计算方法-CN201110310483.1有效
发明人：中山谅;辻田好一郎;三上晃司;石井弘之 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2011-10-14 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本申请涉及抗蚀剂图案计算方法。一种使用计算机计算形成在衬底上的抗蚀剂图案的方法包括：第一步，基于中间掩模图案和曝光条件来计算形成在抗蚀剂上的光学图像的光强度分布；第二步，使用第一扩散长度对计算的光强度分布进行卷积；第三步，从计算的光强度分布或者卷积的光强度分布计算代表性光强度；第四步，通过将校正函数与卷积的光强度分布相加来对卷积的光强度分布进行校正，所述校正函数包括由下式给出的第一函数：其中，J是代表性光强度的分布；和第五步，基于校正的光强度分布和预先设置的限幅水平来计算抗蚀剂图案。
抗蚀剂图案计算方法

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