专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体晶片表面保护用胶带-CN201080054015.6有效
  • 横井启时;冈祥文;矢野正三 - 古河电气工业株式会社
  • 2010-12-21 - 2012-10-24 - H01L21/683
  • 本发明涉及半导体晶片表面保护用胶带,其具有基材树脂膜和隔着中间树脂层位于该基材树脂膜上的直接粘合剂层,所述中间树脂层是由含有丙烯酸聚合物和/或聚氨酯丙烯酸酯的基础树脂成分交联而成的,其中,在特定的条件下对该半导体晶片表面保护用胶带进行测定,由测得的环刚度的负载荷重求出反弹力α,反弹力α为13mN/mm以下,每单位宽度的反弹力α除以基材厚度β的平方所得到的反弹系数γ为100mN/mm3以上,并且,纵向与横向的拉伸断裂伸长率之差为35%以下。
  • 半导体晶片表面保护胶带
  • [发明专利]半导体晶片加工用粘合片-CN201180005830.8无效
  • 矢吹朗;矢野正三;玉川有理 - 古河电气工业株式会社
  • 2011-03-29 - 2012-10-03 - H01L21/301
  • 本发明的课题在于提供一种半导体晶片加工用粘合片,该半导体晶片加工用粘合片即使是在晶片背面直接贴合有切割片的装置中,也能够在切割工序结束后容易地进行剥离,并且可显著减少污染物质的附着。本发明的半导体晶片加工用粘合片为由放射线透过性的基材树脂膜与该基材树脂膜上的粘合剂层形成的半导体晶片加工用粘合片,其中,该粘合剂层是由使用了下述放射线固化性树脂组合物(I)或放射线固化性树脂组合物(II)中的任意之一的层而构成的,所述放射线固化性树脂组合物(I)中,相对于以聚合物(a)为主成分的基础树脂100质量份,含有由凝胶渗透色谱法测定并以聚苯乙烯为标准物质进行换算的重均分子量小于1000的光聚合引发剂(b)0.1质量份~10质量份,该聚合物(a)中,对于主链的重复单元结合了具有(甲基)丙烯酸系单体部分的残基,所述(甲基)丙烯酸系单体部分具有包含放射线固化性碳-碳双键的基团;所述放射线固化性树脂组合物(II)中,相对于基础树脂100质量份,含有在分子内至少具有2个光聚合性碳-碳双键且重均分子量为10,000以下的化合物1质量份~300质量份、由凝胶渗透色谱法测定并以聚苯乙烯为标准物质进行换算的重均分子量小于1000的光聚合引发剂0.1质量份~10质量份。
  • 半导体晶片工用粘合

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