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本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]移转设备及移转方法-CN202011023766.3在审
发明人：金戊一;白圣焕;金镐岩;金炯俊 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2020-09-25 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明提供一种将设置到移转基板的芯片移转到被移转基板的移转设备以及移转方法。所述移转设备包括：第一载台，支撑所述被移转基板；第二载台，支撑所述移转基板，使得所述移转基板面对所述被移转基板并与所述被移转基板间隔开；激光辐照单元，其至少一部分在所述移转基板及所述被移转基板彼此面对的方向上与所述第二载台间隔开，以使激光束辐照到所述移转基板；以及移动单元，支撑所述激光辐照单元，并在使所述激光束辐照的状态下移动所述激光辐照单元。
移转设备方法

[发明专利]芯片转移方法及设备-CN202011046014.9在审
发明人： 白圣焕;金戊一;金镐岩;金炯俊 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2020-09-29 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： H01L27/15 文献下载
摘要：本发明提供一种芯片转移方法及使用所述方法的芯片转移设备，所述方法包含：在被转移衬底上制备其上设置有多个芯片的转移衬底；发射线光束；通过使用设置在线光束的路径上的掩模从线光束塑形多个图案光束；通过将图案光束照射到转移衬底来将多个芯片与转移衬底分隔开；以及将与转移衬底分隔开的多个芯片安放在被转移衬底上。芯片转移方法及设备能够通过使用具有图案的掩模来将多个芯片转移到被转移衬底上的预定位置处。
芯片转移方法设备

[发明专利]用于修正掩模的倾角的设备以及基质处理设备-CN201410412432.3有效
发明人：梁相熙;白圣焕;金戊一;金镐岩 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2014-08-20 - 公布日： 2019-10-01 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明提供一种用于修正掩模的倾角的设备。所述设备包含：掩模支撑主体，其经配置以支撑其上形成有图案的掩模；掩模支撑主体移动单元，其经配置以改变掩模支撑主体的XY平面的倾角；照相机单元，其为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激光束穿透图像；以及控制单元，其经配置以控制掩模支撑主体移动单元，由此改变掩模的XY平面的倾角，以使得当激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，激光束穿透图像与参考焦点图像匹配。
用于修正倾角设备以及基质处理

[发明专利]衬底处理设备-CN201410563117.0有效
发明人： 白圣焕;李周薰;金镐岩;金炳秀 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2014-10-21 - 公布日： 2019-04-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理设备，其能够去除衬底处理空间内的颗粒。衬底处理设备包含:具有衬底处理空间的腔壳，所述衬底处理空间由底壁、上壁，以及将底壁连接到上壁的侧壁界定；经配置衬底平台，所述衬底平台是在衬底处理空间内在第一轴向方向以及与第一轴向方向交叉的第二轴向方向上可移动的；以及下部排气单元，所述下部排气单元经配置以排出存在于衬底平台与腔壳的底壁之间的气体。
衬底处理设备

[发明专利]光照射设备-CN201410831829.6在审
发明人：沈亨基;白圣焕;金圣进;车恩熙 -专利权人： AP系统股份有限公司;三星显示有限公司
申请日： 2014-12-26 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种用于将光照射到衬底上以处理所述衬底的光照射设备。所述光照射设备包含透射窗，光透射穿过所述透射窗；收集器，设置在透射窗上方并且向上倾斜到透射窗的外部，收集器使在从所述衬底反射之后透射穿过透射窗的反射光偏移；以及冷却块，在冷却块中制冷剂在其中循环，冷却块设置在收集器中以冷却所述收集器。因此，根据实施例，因为收集器设置在透射窗上方并向上倾斜到透射窗的外部，并且在收集器的底表面上形成了突出部，所以可抑制或最小化反射光的漫反射。并且，收集器可将反射光朝所述透射窗的外部引导以防止从衬底S反射的反射光再入射到透射窗中。因此，可抑制由所述透射窗的温度失衡和温度升高造成的不均和光移位的产生。
照射设备

[发明专利]用于固持衬底的设备-CN201410412139.7在审
发明人：梁相熙;白圣焕;金戊一;金钟元 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2014-08-20 - 公布日： 2015-03-18 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种用于固持衬底的设备。所述设备包含：多个抽吸通道，垂直地穿过固持台的至少一个部分，并且所述多个抽吸通道布置在所述固持台的宽度方向上以通过使用真空吸力来支撑所述衬底；多个通风通道，垂直地穿过所述固持台的至少一个部分，所述多个通风通道布置在所述固持台的所述宽度方向上，使得所述多个通风通道位于所述多个抽吸通道之间，以通过所述多个通风通道释放衬底与固持台之间的气体。根据本发明的实施例，所述衬底固持设备可以防止当在固持台上固持大型衬底时大型衬底由于其自身的重量而发生滑动。
用于衬底设备

[发明专利]可控制激光束长度及强度的激光加工设备-CN201010196885.9无效
发明人：金相午;金踵明;白圣焕;金圣进 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2010-06-10 - 公布日： 2010-12-29 - 主分类号： C23C16/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种激光加工设备，具备：在内部安装基板并在上方安装石英窗的反应室；安装于反应室的外部，使其位于石英窗的顶部，并将帘状激光束照射于基板的激光装置；安装于激光装置和石英窗之间，并隔离激光束的侧面，为使沿着激光束的纵向水平移动，并在激光束的两端中至少安装于一端的光束隔离手段。反馈手段的光电探测器接受由光束隔离手段反射的激光束，并测量其强度后反馈给激光装置，从而控制激光装置输出的激光束强度。根据本发明，可控制入射于基板的激光束长度，而且还能在实施过程中实时控制激光束的强度。
控制激光束长度强度激光加工设备

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