专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]场效应晶体管-CN202010715844.X在审
  • S·M·朔贝尔;R·C·朔贝尔 - 电路种子有限责任公司
  • 2016-07-29 - 2020-10-23 - H01L21/8238
  • 本发明涉及一种场效应晶体管,其包括:a.源极扩散,其连接于源极端子;b.漏极扩散,其连接于漏极端子;c.第三扩散,其连接于双向电流端口,介于所述源极扩散和所述漏极扩散之间,用于在所述源极扩散和所述第三扩散之间界定源极沟道部分并且在所述漏极扩散和所述第三扩散之间界定漏极沟道部分;d.栅极,其与所述源极沟道部分和所述漏极沟道部分电容耦合;其中,所述源极沟道部分的宽度与长度之比不同于所述漏极沟道部分的宽度与长度之比。
  • 场效应晶体管
  • [发明专利]过饱和电流场效应晶体管和跨阻抗MOS装置-CN201680056648.8有效
  • S·M·朔贝尔;R·C·朔贝尔 - 电路种子有限责任公司
  • 2016-07-29 - 2020-07-28 - H01L21/8238
  • 本发明涉及对基于新颖及创造性复合装置结构的电流场效应晶体管和跨阻抗MOS装置的改进,所述复合装置结构实现基于电荷的利用亚阈值操作的方法,所述方法用于设计模拟CMOS电路。本发明进一步涉及过饱和电流场效应晶体管(xiFET),其具有源极、漏极、扩散、第一栅极和第二栅极端子,其中源极沟道界定于所述源极端子与所述扩散端子之间,漏极沟道界定于所述漏极端子与所述扩散端子之间。所述第一栅极端子电容耦合到所述源极沟道;且所述第二栅极端子电容耦合到所述漏极沟道。所述扩散端子接收引起整个所述源极和漏极沟道中的扩散电荷密度的改变的电流。所述xiFET提供用于设计各种模拟电路的基本构建块。
  • 过饱和电流场效应晶体管阻抗mos装置
  • [发明专利]固态装置-CN201910936750.2在审
  • R·C·朔贝尔;S·M·朔贝尔 - 电路种子有限责任公司
  • 2015-07-29 - 2020-03-27 - H03K19/094
  • 本发明涉及一种固态装置,其是新颖及发明性复合装置结构,从而实现利用亚阈值操作的基于电荷的方法,以用于设计模拟CMOS电路。确切地说,本发明涉及基于一对互补n型及p型电流场效应晶体管的固态装置,所述电流场效应晶体管中的每一个具有两个控制端口,亦即低阻端口和栅控端口,而常规固态装置具有一个控制端口,亦即栅控端口。这种新颖固态装置提供优于所述常规装置的各种改良。
  • 固态装置

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