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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]含硅膜的蚀刻方法、计算机存储介质和含硅膜的蚀刻装置-CN201811523845.3有效
发明人：高桥信博;竹谷考司;田内启士 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-12-13 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明提供一种含硅膜的蚀刻方法、计算机存储介质和含硅膜的蚀刻装置。在对基板上的含硅膜进行蚀刻之际，对该含硅膜的蚀刻量的面内分布恰当地进行控制。在对晶圆(W)上的SiGe膜进行蚀刻之际，向SiGe膜供给含有小于ClF3的分子量的含氟气体的蚀刻气体，通过对蚀刻气体的流速进行控制，来对SiGe膜的中心部和外周部的蚀刻量进行控制。通过将蚀刻气体的流速设为低速，SiGe膜的外周部的蚀刻量比中心部的蚀刻量大。通过将蚀刻气体的流速设为高速，SiGe膜的中心部的蚀刻量比外周部的蚀刻量大。
含硅膜蚀刻方法计算机存储介质装置

[发明专利]基板清洗方法、基板清洗系统和存储介质-CN201910202521.8有效
发明人：金子都;田内启士;折居武彦;菅野至;相原明德;田中晓 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-11-13 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种基板清洗方法、基板清洗系统和存储介质。不给基板的表面带来影响就能够去除已附着于基板的粒径较小的异物。实施方式的基板清洗方法包括成膜处理液供给工序、剥离处理液供给工序和溶解处理液供给工序。在成膜处理液供给工序中，将含有挥发成分并用于在基板上形成膜的成膜处理液向基板供给。在剥离处理液供给工序中，向处理膜供给用于使处理膜自基板剥离的剥离处理液，该处理膜是成膜处理液因挥发成分挥发而在基板上固化或硬化而成的。溶解处理液供给工序在剥离处理液供给工序后，在溶解处理液供给工序中，向处理膜供给用于使处理膜溶解的溶解处理液。
清洗方法系统存储介质

[发明专利]基板清洗方法、基板清洗系统-CN201910393879.3有效
发明人：金子都;田内启士;折居武彦;菅野至 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-11-13 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基板清洗方法、基板清洗系统。能够抑制基底膜被侵蚀并去除已附着于基板的粒径较小的异物。实施方式的基板清洗方法包括成膜处理液供给工序和剥离处理液供给工序。在成膜处理液供给工序中，向表面具有亲水性的基板供给含有挥发成分并用于在基板上形成膜的成膜处理液。在剥离处理液供给工序中，向处理膜供给用于使该处理膜自基板剥离的剥离处理液，该处理膜是成膜处理液因挥发成分挥发而在基板上固化或硬化而成的。
清洗方法系统

[发明专利]含硅膜的蚀刻方法、计算机存储介质及含硅膜的蚀刻装置-CN201910375455.4在审
发明人：折居武彦;浅田泰生;林军;萩原彩乃;入江伸次;田内启士;和田翔 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-05-07 - 公布日： 2019-11-26 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明涉及含硅膜的蚀刻方法、计算机存储介质及含硅膜的蚀刻装置。本发明的课题在于，在对基板上的含硅膜进行蚀刻时，减小蚀刻后的含硅膜的表面粗糙度；和/或，在对具有形成有孔以使蚀刻对象部分露出的图案的基板上的含硅膜进行蚀刻时，使孔的内部的蚀刻后的含硅膜的表面平坦。本蚀刻装置是对基板上的含硅膜进行蚀刻的装置，其具备如下给气部(12)：对上述含硅膜供给至少包含F₂气的第一含氟气体和至少包含ClF₃气体、IF₇气体、IF₅气体或SF₆气体的第二含氟气体两者。
含硅膜蚀刻含氟气体蚀刻装置对基板计算机存储介质表面粗糙度表面平坦给气基板减小图案

[发明专利]基板清洗方法、基板清洗系统-CN201410639940.5有效
发明人：金子都;田内启士;折居武彦;菅野至 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-11-13 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基板清洗方法、基板清洗系统。能够抑制基底膜被侵蚀并去除已附着于基板的粒径较小的异物。实施方式的基板清洗方法包括成膜处理液供给工序和剥离处理液供给工序。在成膜处理液供给工序中，向表面具有亲水性的基板供给含有挥发成分并用于在基板上形成膜的成膜处理液。在剥离处理液供给工序中，向处理膜供给用于使该处理膜自基板剥离的剥离处理液，该处理膜是成膜处理液因挥发成分挥发而在基板上固化或硬化而成的。
清洗方法系统

[发明专利]基板清洗方法、基板清洗系统-CN201410641257.5有效
发明人：相原明德;田中晓;金子都;田内启士;折居武彦;菅野至 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-11-13 - 公布日： 2019-04-09 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种基板清洗方法、基板清洗系统。不给基板的表面带来影响就能够去除已附着于基板的粒径较小的异物。实施方式的基板清洗方法包括成膜处理液供给工序、剥离处理液供给工序和溶解处理液供给工序。在成膜处理液供给工序中，将含有挥发成分并用于在基板上形成膜的成膜处理液向基板供给。在剥离处理液供给工序中，向处理膜供给用于使处理膜自基板剥离的剥离处理液，该处理膜是成膜处理液因挥发成分挥发而在基板上固化或硬化而成的。溶解处理液供给工序在剥离处理液供给工序后，在溶解处理液供给工序中，向处理膜供给用于使处理膜溶解的溶解处理液。
清洗方法系统

[发明专利]图案形成方法和加热装置-CN201380016312.5在审
发明人：村松诚;北野高广;富田忠利;田内启士 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-11-25 - 公布日： 2015-07-29 - 主分类号： B05D7/24 文献下载
摘要：在本发明中，在基板上形成图案时，在基板上形成至少包括两种聚合物的嵌段共聚物的膜，在溶剂蒸气氛围下对该嵌段共聚物的膜进行加热，使得嵌段共聚物相分离，除去被相分离的嵌段共聚物的膜中的一种聚合物，因此，能够促进嵌段共聚物的聚合物的流动化，能够促进相分离。
图案形成方法加热装置

[发明专利]药液的涂敷固化装置和涂敷固化方法-CN200910118748.0无效
发明人：高桥伸明;田内启士 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-03-04 - 公布日： 2009-11-25 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种能削减装置的设备成本和设置空间，使生产率和药液的使用效率提高的药液的涂敷固化装置。在将药液涂敷于被处理体(W)的表面并使其固化的涂敷固化装置(2)中，包括：具有利用外部搬送机构(70)对被处理体进行搬入搬出的搬入搬出口(10)的处理容器(4)；设置在处理容器内，载置被处理体的载置台(24)；打开关闭搬入搬出口的开闭闸门部(12)；设在搬入搬出口的外侧，将药液涂敷到被处理体的表面的涂敷机构(4)；和设在处理容器中，使涂敷在被处理体表面的药液固化而形成薄膜的固化单元(26)。由此能够在一体化装置中进行药液的涂敷机能和固化被涂敷的药液的固化机能，从而能削减装置的设备成本和设置空间。
药液固化装置方法

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