专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种基于硫系化合物的浪涌保护阵列及制备方法-CN202110314789.8有效
  • 王玉婵;袁一鸣;张文霞;戚飞;张楠;袁素真 - 重庆邮电大学
  • 2021-03-24 - 2023-02-17 - H02H9/04
  • 本发明涉及一种基于硫系化合物的浪涌保护阵列及制备方法,属于半导体技术领域。该述浪涌保护阵列包括:PN二极管、下电极、下加热电极、硫系化合物层、上电极、衬底和绝热材料层;PN二极管呈栓状,等间距阵列式排布在硅衬底上;下电极位于PN二极管之上;下加热电极位于下电极之上;硫系化合物层位于下加热电极之上;上电极位于硫系化合物层之上;上电极呈条状等间距排布,且与硫系化合物层相互垂直。硫系化合物层上部与上电极构成电性连接;硫系化合物层下部通过下加热电极与下电极构成电性连接。本发明利用硫系化合物所特有的阈值导通特性实现过电压保护,是一种过压保护响应速度极快,抑制过压能力极强的浪涌保护阵列。
  • 一种基于化合物浪涌保护阵列制备方法
  • [实用新型]一种切片装置-CN202221997939.6有效
  • 王玉婵;陈鑫;孙倩;包英;安婷 - 甘肃迪安同享医学检验中心有限公司
  • 2022-07-29 - 2023-01-24 - B26D1/06
  • 本实用新型公开了一种切片装置,属于样本切片技术领域,包括:外壳体,所述外壳体的操作壁装配有控制器,所述外壳体的内部设置有切片台,所述切片台与外壳体间装配有使切片台具有升降功能的升降机构,所述切片台的顶端一侧对称连接有两个连接板,所述连接板的顶端连接有顶板;本实用新型设置外壳体,外壳体上设置杀菌机构,外壳体内升降设置切片台,切片台上设置夹持机构以及可移动升降的切片机构,同时切片台上通过连接板设置顶板,该种组合式装置不仅具有样本切片功能,而且具有使用前后消毒以及防尘功能,解决现有装置在切片后已经清洗但切片前同样需要工作人员进行清洁导致费时费力的问题。
  • 一种切片装置
  • [实用新型]一种物品辅助放置装置-CN202221998023.2有效
  • 王玉婵;孙倩;陈鑫;包英;安婷 - 甘肃迪安同享医学检验中心有限公司
  • 2022-07-29 - 2023-01-24 - B25B11/00
  • 本实用新型公开了一种物品辅助放置装置,属于物品放置技术领域,包括:一端开口结构设置的手持壳体,所述手持壳体的开口端内对称设置有两个夹持臂,两个所述夹持臂与手持壳体间装配有驱动两个夹持臂相互靠近夹持或相互远离松懈的驱动机构,所述夹持臂上连接有弧形夹持块,两个弧形夹持块对称设置且在两个夹持臂接触时可形成夹持试管的圆形夹持口;本实用新型通过具有相互靠近以及相互远离功能的两个夹持臂帮助试管进行取出和放置,避免工作人员皮肤直接接触,杜绝烫伤事故的发生,使用安全性能高,同时该装置的两个夹持臂仅通过挤压两个连接杆即可实现试管的夹持取出,松开两个连接杆即可实现试管的松懈放置,操作简单,使用方便。
  • 一种物品辅助放置装置
  • [发明专利]一种量子除法器的设计方法-CN202011358674.0有效
  • 袁素真;高胜威;文超;卿显荣;乔治钦;王艳;王玉婵;胡泽锐 - 重庆邮电大学
  • 2020-11-27 - 2022-11-08 - G06F7/535
  • 本发明涉及一种量子除法器的设计方法,属于量子运算领域。该方法包括以下步骤:S1:利用量子门设计n位量子比较器,实现两个n位二进制数的比较运算;S2:利用量子门设计等位和不等位量子减法器;S3:将步骤S1和S2中的比较器和减法器综合设计得到量子除法器;S4:采用经典计算机与IBM实验室提供的开源量子云模拟器搭建实验平台并进行仿真模拟实现量子除法运算。本发明通过加入辅助量子比特并进行复用,使得量子除法运算得以实现,并提高了量子除法运算的性能,为处理更复杂的量子计算打下了基础。
  • 一种量子法器设计方法
  • [发明专利]一种集成沟槽和体平面栅的SiC MOSFET器件-CN202110924156.9在审
  • 陈伟中;许峰;秦海峰;王玉婵 - 重庆邮电大学
  • 2021-08-12 - 2021-11-09 - H01L29/16
  • 本发明涉及一种集成沟槽和体平面栅的SiC MOSFET器件,属于半导体技术领域。该MOSFET是在传统沟槽栅的基础上,在沟槽栅底部引入体平面栅结构。该体平面栅由源金属﹑栅绝缘介质层﹑栅底部N+源﹑栅底部P电场屏蔽区以及栅底部沟道区组成,且栅底部N+源﹑栅底部P电场屏蔽区与源金属短接。该体平面栅不但引入新的沟道,且在P电场屏蔽区/N‑漂移区之间集成了新PN结型二极管。与传统沟槽型SiC MOSFET相比,槽栅底部峰值电场下降了75.3%;栅漏电荷下降了91.5%;开启损耗在1MHZ频率下降了66.6%;关断损耗下降了78.0%。
  • 一种集成沟槽平面sicmosfet器件

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