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[发明专利]基板清洗方法和基板清洗装置-CN202210137595.X在审
发明人：高桥彰吾;滝口靖史;中岛昇;小篠龙人;土师刚 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-02-15 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板清洗方法和基板清洗装置。快速地完成通过相对于基板的下表面使刷相对地滑动而进行的清洗处理。进行以下工序：利用基板保持部对在上表面形成有膜的基板的下表面进行保持；以及清洗工序，将第1刷和第2刷按压于所述基板的下表面，并使它们相对于该基板的下表面相对地向互相相同的滑动方向滑动，而进行清洗。
清洗方法装置

[实用新型]基板清洗装置-CN202220301447.2有效
发明人：高桥彰吾;滝口靖史;中岛昇;小篠龙人;土师刚 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-02-15 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及基板清洗装置，其能够快速地完成通过相对于基板的下表面使刷相对地滑动而进行的清洗处理。该基板清洗装置进行以下工序：利用基板保持部对在上表面形成有膜的基板的下表面进行保持；以及清洗工序，将第1刷和第2刷按压于所述基板的下表面，并使它们相对于该基板的下表面相对地向互相相同的滑动方向滑动，而进行清洗。
清洗装置

[发明专利]基板背面研磨构件的修整装置和修整方法-CN201810908505.6有效
发明人：冈本芳树;滝口靖史;久保明广;保坂隼斗;小篠龙人 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-08-10 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明涉及基板背面研磨构件的修整装置和修整方法。在对用于对基板的背面进行研磨的研磨构件进行清洗、修整时，不使清洗液、残渣向周围飞散。修整装置(200)具有槽构件(203)，该槽构件(203)能够从上方收容研磨垫(131)，并具有顶板部(201)和设置到顶板部(201)的下表面侧的筒状的裙部(202)。在槽构件(203)设置有：二流体喷嘴(204)，其向研磨垫的研磨面喷出清洗液和气体；修整板(205)，其可与研磨垫(131)的研磨面抵接；以及冲洗喷嘴(206)，其向研磨垫(131)的研磨面与修整板(205)之间的接触面供给冲洗液。由于裙部202，清洗液、砂轮碎屑、或者残渣不向周围飞散。
背面研磨构件修整装置方法

[发明专利]基板处理装置-CN201980080981.6在审
发明人：久保明广;滝口靖史;冈本芳树;保坂隼斗;小玉辉彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-12-10 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： B24B7/04 文献下载
摘要：基板处理装置包括研磨部，该研磨部具有：研磨头(75)，其对晶圆W的主表面进行研磨；旋转驱动部(82)，其使研磨头(75)绕轴线Ax1旋转；以及旋转驱动部(84)，其使轴线Ax1沿着绕与轴线Ax1平行的轴线Ax2的圆形轨道移动。研磨头(75)的中心位置与轴线Ax1不同。与研磨头(75)的绕轴线Ax1的可动范围的直径相比，研磨头(75)的外径较小。
处理装置

[实用新型]基板清洗装置-CN201920580539.7有效
发明人： 滝口靖史;山本太郎;京田秀治 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-04-25 - 公布日： 2019-12-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种基板清洗装置，具备：第1吸附保持部，其吸附基板背面的不与中央部重叠的区域并保持为水平；第2吸附保持部，其吸附基板背面的中央部并保持为水平；第1清洗部件及第2清洗部件，其设置为相互在横方向分离；回转机构，其设置于第1清洗部件及第2清洗部件的下方；升降机构，其设置于回转机构的下方；以及清洗液供给部，其设置于第1清洗部件及第2清洗部件的附近，其中，至少在清洗包含中央部的基板背面的区域时，回转轴配置为位于与基板重叠的位置，第1清洗部件及第2清洗部件配置为：在基板被保持于第2吸附保持部并旋转时，从回转轴观察第2吸附保持部的旋转轴，位于左侧及右侧中的一方侧的第1清洗部件朝向另一方侧回转并移动。
清洗部件吸附保持部中央部回转机构吸附基板回转轴基板清洗装置清洗液供给部基板重叠升降机构基板背旋转轴回转基板配置清洗观察移动

[发明专利]涂覆-显影装置和显影方法-CN201110039003.2有效
发明人： 滝口靖史;山本太郎;有马裕;吉原孝介;吉田勇一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-02-15 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供一种在基板整个表面形成均匀性高的显影液的液膜并且得到高的生产率的涂覆-显影装置和显影方法。涂覆-显影装置包括：显影组件；清洗组件；向上述清洗组件输送由上述显影组件进行了显影的基板的输送机构，上述显影组件包括：形成处理气氛的气密的处理容器；设于该处理容器内、用于载置并冷却基板的调温板；向上述处理容器内供给含有显影液的雾的气氛气体的蒸气供给部；用于将上述调温板调整成上述蒸气在基板上结露的温度的温度调整部。因为显影组件和清洗组件能并行地进行处理，所以得到高的生产率。
涂覆显影装置方法

[发明专利]显影装置和显影方法-CN201110039010.2有效
发明人： 滝口靖史;山本太郎;有马裕;吉原孝介;吉田勇一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-02-15 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供一种能够抑制显影液的使用量且快速地在基板的整个表面上形成显影液的液膜的显影装置和显影方法。该显影装置包括：气密的处理容器，其用于形成处理气氛；调温板，其设在上述处理容器内，用于载置基板；气氛气体供给部，其用于向上述处理容器内供给包含雾沫和蒸气的气氛气体；第1温度调整部，其用于将上述调温板的温度调整为上述显影液蒸气在基板上结露的温度，其中，上述处理容器的内壁的温度被维持为上述显影液蒸气难以在该内壁上结露的温度。
显影装置方法

[发明专利]显影装置和显影方法-CN201110039009.X有效
发明人：有马裕;吉原孝介;吉田勇一;滝口靖史;山本太郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-02-15 - 公布日： 2011-08-24 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供一种能够取得高生产率的显影装置和显影方法。该显影装置包括：气密的处理容器，其用于形成处理气氛；气氛气体供给部，其为了在搬入到上述处理容器内的基板的表面上使显影液结露而形成液膜，向该处理容器内供给显影液雾沫；干燥部，其为了使通过形成上述液膜而进行的显影停止而对基板进行干燥。因为能够使显影液与抗蚀剂的反应停止，所以能够与清洗组件所进行的清洗处理同时进行显影处理，从而能够取得高生产率。
显影装置方法