|
|
钻瓜专利网为您找到相关结果 25个，建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [实用新型]一种分级双面磨床-CN202320995642.4有效
-
赵强;黄嘉麒
-
深圳市海德精密机械有限公司
-
2023-04-25
-
2023-09-19
-
B24B27/00
- 本实用新型公开了一种分级双面磨床，包括机架、上支撑板、下支撑板、限位机构、至少两级上磨削模组以及至少一级下磨削模组，限位机构安装于机架并用于限制工件按预定方向进给，上磨削模组和下磨削模组固定安装于机架并分别具有水平设置的上磨轮和下磨轮，下磨削模组位于相邻两上磨削模组之间，上支撑板和下磨轮分别对应位于工件的上方和下方，且上支撑板固定于机架并与下磨轮正对，下支撑板和上磨轮分别对应位于工件的下方和上方，且下支撑板固定于机架并与上磨轮正对。本实用新型能实现在线式的分级磨削，使用寿命长，工作效率高。
- 一种分级双面磨床
- [发明专利]一种蓝宝石镜面的双面抛光装置-CN202210267580.5在审
-
赵强;黄伟雄
-
深圳市海德精密机械有限公司
-
2022-03-18
-
2022-06-14
-
B24B29/02
- 本发明属于抛光装置技术领域，且公开了一种蓝宝石镜面的双面抛光装置，包括底板，所述底板的顶端传动连接有顶板，所述顶板的顶面固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端固定套接有驱动轴，所述驱动轴的底面固定安装有驱动齿轮，所述底板的顶面粘贴有下抛光垫。本发明通过将外界空气抽入固定盒内，并通过延伸管向电磁通断组件运输，通过电磁通断组件连通电磁环内的电路，使电磁环产生与永磁轴相同的磁力，进而带动上抛光垫下移，通过永磁轴与电磁环之间的磁力驱动上抛光垫移动，当上抛光垫与蓝宝石接触后，上抛光垫不在向下移动，从而避免对蓝宝石造成压紧力度过大或过小的情况，可以实现不同厚度的蓝宝石进行压紧，提高了装置的使用范围。
- 一种蓝宝石双面抛光装置
- [发明专利]一种单晶硅片的液体抛光装置-CN202210267592.8在审
-
赵强;黄伟雄
-
深圳市海德精密机械有限公司
-
2022-03-18
-
2022-06-10
-
B24B29/02
- 本发明属于单晶硅片加工设备技术领域，且公开了一种单晶硅片的液体抛光装置，包括抛光箱，所述抛光箱的背面固定连接有侧板，所述侧板的顶面固定安装有一号伸缩杆，所述一号伸缩杆的顶面固定安装有顶部板。本发明通过在横板的顶面增设抽吸泵，并在连接杆的内侧面增设二号伸缩杆，使得二号伸缩杆带动吸附板，并利用曲管和控制阀，使得通过调节控制阀实现两组吸附板同时吸气以及便捷切换两组吸附板单独吸气，从而在完成底面抛光后，通过调节控制阀并配合二号伸缩杆实现两组吸附板的滑动调节，从而使得单晶硅片的顶面再次切换后有效进行抛光，实现单晶硅片的彻底抛光，避免重新安装调节，提高实际抛光效率，使用效果好。
- 一种单晶硅液体抛光装置
- [发明专利]一种半导体晶硅片平面研磨设备-CN202210267712.4在审
-
赵强;黄伟雄
-
深圳市海德精密机械有限公司
-
2022-03-18
-
2022-06-10
-
B24B37/10
- 本发明属于平面研磨技术领域，且公开了一种半导体晶硅片平面研磨设备，包括机床，所述机床顶部的后端固定安装有固定架，所述机床的上方设置有位于固定架正前方的活动套,所述活动套的内部活动卡接有活动块，所述活动块的顶部固定连接有挤压弹簧。本发明通过活动套、挤压弹簧、限位块和支撑套，通过活动套和连接套可以使得电力电机和传动轴能够通过连接轴带动研磨盘旋转，进而达到研磨的效果，而由于挤压弹簧的弹力恢复作用可以在研磨过程中逐渐降低，从而可以达到连续研磨的效果，进而在限位块对活动块的阻挡作用可以避免连接轴和研磨盘在挤压弹簧的弹力恢复作用下继续向下研磨，从而达到连续研磨至工艺所需程度的效果。
- 一种半导体硅片平面研磨设备
|
