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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种感光型集成电路堆积绝缘膜的制备方法-CN202310516365.9在审
发明人：王继宝;叶淑兰;周翠苹 -专利权人： 深圳市撒比斯科技有限公司
申请日： 2023-05-09 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： H05K3/28 文献下载
摘要：本发明涉及绝缘膜技术领域，尤其涉及IPC G03F领域，更具体地，涉及一种感光型集成电路堆积绝缘膜的制备方法。本发明从实际市场需求出发，通过基础研究与产业开发相结合的形式对堆积绝缘膜材料配方进行科学地设计，实现低热膨胀系数、高频低介电、低损耗、高结合力的精细线路积层胶膜的制造，本材料在绝缘、力学、导热等方面具有良好的性能，而且不依赖进口的昂贵的精密钻孔设备，这些性能使它能够替代ABF在微型芯片集成绝缘技术等电子领域具有广阔的应用前景。
一种感光集成电路堆积绝缘制备方法

[发明专利]一种无介质空中成像高分子材料及光学晶格器件成型工艺-CN202210686895.3有效
发明人：高玉珍;叶淑兰;王继宝;周浩宇 -专利权人： 深圳市撒比斯科技有限公司
申请日： 2022-06-16 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C08F220/20 文献下载
摘要：本发明涉及G02B1/04领域，具体为一种无介质空中成像高分子材料及光学晶格器件成型工艺，透镜材料在电子显示领域的应用过程中，不但固化成型快，而且安全环保，价格低廉，采用该透镜材料得到的高分子光学晶格器件具有极低的热膨胀系数、良好耐候性和耐老化性能的同时具有高硬度、高韧性、良好的抗冲击性；器件材料具有特殊的光学结构，其用于反射投影成像的结构侧壁可达12k超镜面，完全满足了光线反射传导的条件，可以将二维图像转换为三维立体图像清晰地呈现在空气中，从而实现无介质空中成像，主要应用于商业展示、车载显示、科技馆等电子显示领域。
一种介质空中成像高分子材料光学晶格器件成型工艺

[发明专利]一种单组分气密胶粘剂及其制备方法-CN202110636586.0有效
发明人：王继宝;周翠苹 -专利权人： 深圳市撒比斯科技有限公司
申请日： 2021-06-08 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C09J163/04 文献下载
摘要：本发明涉及胶粘剂技术领域，尤其涉及一种单组分气密胶粘剂及其制备方法。所述气密胶粘剂的原料包括，按重量份计，环氧树脂25‑55份、多官能环氧单体3‑10份、丁腈橡胶5‑15份、固化剂12‑40份、偶联剂0.5‑5份、无机填料10‑30份、气相二氧化硅0.5‑5份、稳定剂0.1‑1份。本发明的气密胶粘剂具有优异的力学、电学、耐化学品等性能，这些性能使它表现出来优异的稳定性和耐久性，也使其在电子、航空、航天等领域都得到了广泛的应用。
一种组分气密胶粘剂及其制备方法

[发明专利]一种膨胀型UV交联低应力胶黏剂及其制备方法-CN202111294585.9有效
发明人：王继宝;王新刚 -专利权人： 深圳市撒比斯科技有限公司
申请日： 2021-11-03 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C09J4/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种胶黏剂(IPC分类号：C09J163/00)，尤其涉及一种膨胀型UV交联低应力胶黏剂及其制备方法。按重量百分比计，原料至少包含：膨胀聚合物的预聚物40‑60％，环氧树脂10‑20％，环状单体10‑20％，球形硅粉10‑20％，玻纤粉5‑10％，光引发剂1‑5％，架桥剂1‑3％，气相二氧化硅1‑3％，离子捕捉剂0.1‑1％。本发明制备的胶黏剂实现了UV光固化高效环保的同时，又具有低应力，高粘接强度，高韧性以及低固化收缩率等优点，并且固化后没有氧阻聚和黄变等问题。可用于电子器件中，特别适合迅速粘接和密封对温度敏感或不方便耐受长时间固化的电子器件或光电子器件。
一种膨胀 uv 交联应力胶黏剂及其制备方法

[发明专利]一种具有气密性的UV弹性密封垫圈胶及其制备方法-CN202210689014.3有效
发明人：叶淑兰;高玉珍;王继宝 -专利权人： 深圳市撒比斯科技有限公司
申请日： 2022-06-16 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C09J123/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有气密性的UV弹性密封垫圈胶及其制备方法，按质量份计，制备原料包括：改性聚烯烃树脂55‑75份、聚氨酯丙烯酸酯低聚物30‑60份、协同引发剂0.2‑1份、活性单体10‑40份、光引发剂1‑5份、气相二氧化硅1‑5份、助剂1‑10份。本发明公开的弹性密封垫圈胶，弹性高、耐伸长性能好、耐冲击性能好、有良好的耐热老化性、耐低温性能和加工流变性，使用多年，柔软的胶液性质不变，对组件起到很好的保护作用。
一种具有气密性 uv 弹性密封垫圈及其制备方法

[发明专利]一种果冻胶、制备方法及其制备的光学微透镜阵列-CN202210981987.4在审
发明人：叶淑兰;高玉珍;王继宝 -专利权人： 深圳市撒比斯科技有限公司
申请日： 2022-08-16 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： C09J4/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种果冻胶，按质量份计，所述果冻胶包括：35‑60份树脂粉、35‑90份活性单体、2‑10份光引发剂、5‑15份光稳定剂。本发明公开的果冻胶可替代塑料透镜，固化前可任意塑形且不粘于各类金属塑料模具，固化后对金属油墨粘接力强，胶体坚韧，抗形变。本发明所述果冻胶制备得到一次成型的光学微透镜阵列透过率好，雾度好，抗黄变性能好，应用于min LED芯片，可同时完成封装与成镜，并且生产效率可以大大提高，从而降低生产成本。
一种果冻制备方法及其光学透镜阵列

[发明专利]一种PDLC电致变色薄膜用UV胶黏剂及其制备方法-CN202110668790.0有效
发明人：王继宝;王新刚;周子良 -专利权人： 深圳市撒比斯科技有限公司
申请日： 2021-06-16 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： C09J163/10 文献下载
摘要：本申请属于PDLC调光膜技术领域，具体涉及一种PDLC电致变色薄膜用UV胶黏剂及其制备方法。所述PDLC电致变色薄膜用UV胶黏剂，按重量份计，其制备原料包括液晶单体50‑70份、染料液晶5‑15份、丙烯酸酯低聚物8‑12份、改性环氧丙烯酸酯低聚物5‑8份、丙烯酸酯单体5‑15份、光引发剂0.4‑0.6份、架桥剂0.5‑0.8份和乳化剂3‑4份。本申请制备的PDLC电致变色薄膜用UV胶黏剂，提高了PDLC电致变色薄膜用UV胶黏剂的开关液晶转动效率，同时在对折、弯曲或高温下不易变透明，使用电压低，断电下雾度高，通电下雾度低。
一种 pdlc 变色薄膜 uv 胶黏剂及其制备方法

[发明专利]用于集成电路的3D激光光敏打印阻焊墨水及其制备方法-CN202110669526.9有效
发明人：王继宝;周翠苹;周子良 -专利权人： 深圳市撒比斯科技有限公司
申请日： 2021-06-16 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： C09D11/101 文献下载
摘要：本申请涉及集成电路打印技术领域，具体涉及用于集成电路的3D激光光敏打印阻焊墨水及其制备方法。按重量份计，所述用于集成电路的3D激光光敏打印阻焊墨水的制备原料包括顺丁烯二酸酐改性聚酰亚胺光敏低聚物20‑80份、乙烯氧基丙烯酸酯5‑30份、多环丙烯酸酯10‑60份、荧光识别剂0.1‑1份、增感剂1‑5份、光引发剂1‑5份和界面剂0.1‑1份。本申请提供的用于集成电路的3D激光光敏打印阻焊墨水，阻焊性能好，对酸、碱和异丙醇的耐受性好，阻焊墨水在Cu基材上具有优良的附着牢度，阻焊墨水涂膜的硬度较高，且VOC含量低。
用于集成电路激光光敏打印墨水及其制备方法

[发明专利]一种具有光开关光热响应型胶黏剂及其制备方法-CN202210834087.7在审
发明人：叶淑兰;高玉珍;王继宝 -专利权人： 深圳市撒比斯科技有限公司
申请日： 2022-07-14 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： C09J163/00 文献下载
摘要：本发明涉及胶黏剂技术领域，尤其涉及IPC C09J7领域，更具体地，涉及一种具有光开关光热响应型胶黏剂及其制备方法。所述具有光开关光热响应型胶黏剂，按重量份计，其制备原料包括：30‑60份主体原料、15‑35份活性单体、5‑20份导光助剂、1‑10份光引发剂、1‑10份热引发剂、5‑20份导热剂、0.1‑0.3份消泡剂。本发明所制备的具有光开关光热响应型胶黏剂针对无法照光的阴影面积，通过导光加导热传递从而达到彻底固化的效果，性能与直接光照并无明显差异，可应用于半导体工业、半导体技术等现代工业领域。
一种有光开关光热响应型胶黏剂及其制备方法

[发明专利]用于集成电路的3D激光光敏打印导电墨水及其制备方法-CN202110668796.8有效
发明人：王继宝;周翠苹;周子良 -专利权人： 深圳市撒比斯科技有限公司
申请日： 2021-06-16 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： C09D11/102 文献下载
摘要：本申请属于导电墨水领域，具体涉及用于集成电路的3D激光光敏打印导电墨水及其制备方法。按重量份计，所述用于集成电路的3D激光光敏打印导电墨水的制备原料包括导电浆料70‑90份、环氧树脂组合物5‑25份、调节剂1‑10份、分散剂1‑5份、光引发剂1‑5份、催化剂0.5‑2份；所述导电浆料的制备原料包括导电剂、改性聚脲的N‑甲基吡咯烷酮溶液、氧杂环丁烷、纤维素丙烯酸酯、界面剂和N‑甲基吡咯烷酮。本申请提供的用于集成电路的3D激光光敏打印导电墨水，导电稳定性好、附着力强。
用于集成电路激光光敏打印导电墨水及其制备方法

[发明专利]一种螺环碳原酸酯及其制备方法-CN202111295808.3在审
发明人：王继宝;王新刚 -专利权人： 深圳市撒比斯科技有限公司
申请日： 2021-11-03 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： C07D493/10 文献下载
摘要：本发明涉及C07D膨胀单体技术领域，更具体地，本发明提供了一种螺环碳原酸酯及其制备方法。本发明提供了一种螺环碳原酸酯，制备原料包括多元醇类化合物、催化剂、有机溶剂。制备得到的螺环碳原酸酯具有一定密度的芳环结构和极性基团，与现有技术相比，在保证消除复合材料体积收缩率的同时，向复合材料中引入一定密度的刚性结构，提升复合材料的力学性能，同时延长复合材料的使用寿命，提升复合材料的应用范围。
一种螺环碳原酸酯及其制备方法

[发明专利]一种低收缩、高韧性、低应力的改性环氧树脂及其制备方法-CN202111295820.4在审
发明人：王继宝;王新刚 -专利权人： 深圳市撒比斯科技有限公司
申请日： 2021-11-03 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： C09J163/02 文献下载
摘要：本发明涉及C08L7/00领域，具体为一种低收缩、高韧性、低应力的改性环氧树脂及其制备方法。本发明采用环氧树脂30～50份、稀释剂10～15份、螺环原酸酯10～20份、固化剂10～15份、偶联剂1～3份、促进剂1～3份，通过特定制备工艺得到低收缩、高韧性、低应力的改性环氧树脂，不仅具有优异的力学性能，而且有效改善改性环氧树脂的耐热性和耐候性，且通过控制环氧树脂、螺环原酸酯的质量比为(2.5‑5)：1有效提高改性环氧树脂的体积膨胀率，降低热胀冷缩应力，尤其适用于制备低应力电子胶粘剂领域，满足高端电子器元器件的可靠粘接要求。
一种收缩韧性应力改性环氧树脂及其制备方法

[发明专利]一种UV胶粘剂及含UV胶粘剂的电控PDLC功能膜-CN202110444686.3有效
发明人：王继宝;周翠苹 -专利权人： 深圳市撒比斯科技有限公司
申请日： 2021-04-24 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： C09J175/14 文献下载
摘要：本申请涉及电控PDLC功能膜领域，具体涉及一种UV胶粘剂及含UV胶粘剂的电控PDLC功能膜。所述UV胶粘剂的制备原料包括如下重量份的物质：折射率为1.57‑1.62的丙烯酸酯类单体10‑30份、羟基丙烯酸酯类单体10‑30份、甲基丙烯酸酯类单体5‑15份、聚氨酯丙烯酸酯5‑15份、柔性丙烯酸树脂1‑5份、光引发剂1‑3份；所述聚氨酯丙烯酸酯选自CN964、MIRAMER M130和CN975中的任意两种。本申请提供的UV胶粘剂，粘结性能好，使电控PDLC功能膜长时间使用后不易开胶，同时可以提高电控PDLC功能膜的开态透光率。
一种 uv 胶粘剂 pdlc 功能

[发明专利]一种高耐水性的光敏电子墨水-CN202110444622.3有效
发明人：王继宝;周翠苹 -专利权人： 深圳市撒比斯科技有限公司
申请日： 2021-04-24 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： C09D11/30 文献下载
摘要：本申请涉及墨水领域，具体公开了一种高耐水性的光敏电子墨水。一种高耐水性的光敏电子墨水，包括导电固体和光固化剂，其中导电固体在光固化剂中的固含量为30～40wt%，所述光固化剂由包括如下重量份的原料制得：改性松香基超支化聚酰胺10～20份、溶剂30～60份、光引发剂0.2～0.4份；所述改性松香基超支化聚酰胺是由含有端羧基的松香基超支化聚酯和ω‑烯烃基胺进行酰胺化反应制得。本申请的光敏电子墨水具有较好的耐水性。
一种耐水性光敏电子墨水

[发明专利]一种高抛光度CMP抛光液及其制备方法-CN202110445740.6有效
发明人：王继宝;周翠苹 -专利权人： 深圳市撒比斯科技有限公司
申请日： 2021-04-24 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本申请涉及化学机械抛光的领域，具体公开了一种高抛光度CMP抛光液及其制备方法。高抛光度CMP抛光液，每100重量份的抛光液中包括磨料10‑45份、pH调节剂2‑7份、表面活性剂0.03‑0.3份、水溶性环糊精0.5‑2.5份、聚乙二醇0.03‑0.15份、水补足100份；其制备方法为：将磨料与水混合均匀后依次投入水溶性环糊精和聚乙二醇混合均匀，接着投入pH调节剂和表面活性剂混合均匀制得高抛光度CMP抛光液。本申请的高抛光度CMP抛光液具有抛光度高的优点。
一种抛光 cmp 及其制备方法

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