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[发明专利]一种直拉单晶硅炉热场的三相交流加热器及其加热方法-CN202110941930.7有效
发明人：潘金平;肖世豪;沈益军;张立安;饶伟星;王伟棱;郑春松;冯小娟;苏文霞 -专利权人： 浙江海纳半导体有限公司
申请日： 2021-08-17 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： C30B15/14 文献下载
摘要：本发明属于直拉单晶炉热场技术领域，具体的说是一种直拉单晶硅炉热场的三相交流加热器及其加热方法，包括加热器本体和连接环，所述加热器本体包括三个弧形加热板，且三个弧形加热板能够拼接成完整的圆筒，所述弧形加热板的底部固连有引脚，所述弧形加热板底部两侧位置均开设有插槽。本发明通过设有推动装置，当坩埚长期使用发生变形或对中跑偏，以及受热膨胀时，坩埚的外壁会与推动装置接触，从而使得推动装置带动其两侧的偏转装置进行工作，当偏转装置工作时，弧形加热板在偏转装置的作用下向远离坩埚的方向运动，从而使得弧形加热板与坩埚之间的距离始终能够保持不变，进而避免了弧形加热板因坩埚的挤压而损坏。
一种单晶硅炉热场三相交流加热器及其加热方法

[实用新型]晶片边缘轮廓测试仪-CN202122878540.8有效
发明人：许琴;张立安;余求俊;白超;王志雄;苏文霞;冯小娟;潘金平 -专利权人： 浙江海纳半导体有限公司
申请日： 2021-11-23 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了晶片边缘轮廓测试仪，属于检测设备技术领域，包括底座，所述底座顶部的一侧设有可移动物料固定组件，所述底座的顶部且位于可移动物料固定组件的一侧设有采像组件，所述采像组件通过升降组件与底座连接在一起，所述采像组件包括两组支撑臂和一组主相机，每组所述支撑臂顶部的两侧均轴承支撑有支撑杆，所述支撑杆的顶部固定安装有支架；本实用新型通过采像组件的设置，采像组件采用一组主相机可四组副相机配合使用，可以全方位多角度对待测试晶片进行图像采集，通过可移动物料固定组件的设置，可以对晶片进行固定，同时可对晶片与采像组件的距离进行调节，以便于采像组件对晶片进行图像采集。
晶片边缘轮廓测试仪

[实用新型]一种提高硅片表面金属含量测试效率的治具载台-CN202121339792.7有效
发明人：张立安;吴雄杰;王志雄;白超;沈益军;肖世豪;潘金平;许琴;陈伯弘;任蔓青 -专利权人： 浙江海纳半导体有限公司
申请日： 2021-06-16 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： G01N33/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种提高硅片表面金属含量测试效率的治具载台，本实用新型，包括转盘底座，所述转盘底座外表面的底部通过转轴转动安装有支撑腿，所述支撑腿的外表面安装有透明橡胶套，所述转盘底座外表面的顶部转动安装有轴承，所述转盘底座的内部安装有小型电机，所述小型电机的输出端安装有载台。本实用新型，在转盘底座设置有小型电机，同时载台和转盘底座的连接处设置有轴承，通过小型电机输出端的转动，带动载台旋转，从而实现载台内部的硅片与试剂充分混合目的，不用手工摇片的方法，也能达到硅片与试剂充分混合目的，同时提高了产品进行金属含量检测的效率，也避免出现人为因素造成检测结果数据不准确的问题。
一种提高硅片表面金属含量测试效率治具载台

[实用新型]一种双面抛光机刷盘结构-CN202120994397.6有效
发明人：吴雄杰;张立安;肖世豪;肖春柳;潘金平;余求俊;王伟棱;许琴;沈益军;饶伟星 -专利权人： 浙江海纳半导体有限公司
申请日： 2021-05-11 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及抛光机刷盘技术领域，具体为一种双面抛光机刷盘结构，在刷盘上分布设置安装孔，双头毛刷由尼龙刷毛和不锈钢片构成，不锈钢片围绕若干尼龙刷毛的中部，包裹住尼龙刷毛，形成一个不锈钢管，不锈钢管与安装孔适配，不锈钢管与安装孔紧密插接，不锈钢管的直径大于安装孔的孔径，尼龙刷毛两端露在刷盘外。上述结构整个结构紧凑稳定，如果在使用过程中，不易掉毛，更耐腐蚀，不易生锈、腐烂，如果在抛光过程中，尼龙刷毛上沾上抛光物或者有损坏导致抛光不均匀，只要修剪尼龙刷毛头部即可，使用也更方便，大大节省了成本。
一种双面抛光机盘结

[实用新型]显微镜架-CN202122177585.2有效
发明人：余俊军;张立安;吴晓琦;郑明;高海军;杨国梁;程洪波;胡恩华;金裕隆;潘金平 -专利权人： 浙江海纳半导体有限公司
申请日： 2021-09-09 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： G02B21/24 文献下载
摘要：本实用新型涉及显微镜架技术领域，且公开了一种显微镜架，包括底板，所述底板的顶部设置有硅片架，所述底板的顶部固定连接有连杆，所述连杆的顶端与硅片架的底部固定连接，所述硅片架的内部开设有定位孔。该显微镜架，通过底板、硅片架、连杆、定位孔、定位钉和弧形槽之间的相互配合，只需要改变定位钉的位置便可以切换不同尺寸的硅片，并且使放置在硅片架上的不同尺寸硅片的观察点位于同一高度，达到了便于快速完成显微镜架调节工作和保证不同尺寸硅片的观察点高度不变的效果，解决了现有显微镜架在盛放不同尺寸硅片时，调节步骤较为繁琐和显微镜架在切换不同尺寸的硅片后，硅片观察点高度会发生变化，从而导致焦距变化的问题。
显微镜架

[实用新型]一种酸腐蚀废气处理装置-CN202120153630.8有效
发明人：饶伟星;张立安;吴雄杰;高海军;潘金平;肖世豪;沈益军;杨国梁;苏文霞;余天威 -专利权人： 浙江海纳半导体有限公司
申请日： 2021-01-20 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： B01D53/75 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种酸腐蚀废气处理装置，包括酸腐蚀机，所述酸腐蚀机上设置有若干酸雾槽，所述酸雾槽上设置有可拆卸的集气盖，所述集气盖通过管道连接有废酸雾预处理系统，所述废酸雾预处理系统通过管道连接有酸腐蚀废气处理塔，所述废酸雾预处理系统用于预处理酸腐蚀废气。通过设置本处理系统，能更加高效的处理酸腐蚀废气，降低处理废气时的能量消耗，降低废气处理所需的药品。通过采用本方法，预处理废气浓度高、总量少，处理效果更好，使用成本更经济；整体药剂使用量大约会下降20％。
一种酸腐废气处理装置

[实用新型]一种快速高效的抛光机陶瓷盘搬运装置-CN202121534549.0有效
发明人：吴雄杰;张立安;肖春柳;高海军;郑欢欣;朱贞军;许琴;王伟棱;余求俊;饶伟星 -专利权人： 浙江海纳半导体有限公司
申请日： 2021-07-07 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种快速高效的抛光机陶瓷盘搬运装置，包括驱动组件、第一搬运手组件、第二搬运手组件以及与第一搬运手组件、第二搬运手组件相适配使用的两组放置盘组件，驱动组件包括驱动电机和第一传动齿轮，第一传动齿轮键连接于驱动电机的输出轴端，放置盘组件对称设置有两组，且两组放置盘组件之间设置有支撑板，驱动电机通过固定架固定安装于支撑板的下端。本实用新型通过采用一个驱动电机同时驱动第一搬运手组件和第二搬运手组件，并使第一搬运手组件和第二搬运手组件的运行角度完全一致，并且采用摆动式搬运，搬运行程得到缩减，不仅提高了搬运效率，同时采用第一搬运手组件和第二搬运手组件进行搬运，还能增强搬运中平衡性。
一种快速高效抛光机陶瓷搬运装置

[实用新型]一种单晶炉观察窗-CN202120757464.2有效
发明人：肖世豪;潘金平;张立安;吴雄杰;任蔓菁;苏文霞;冯小娟;余求俊;沈益军;饶伟星 -专利权人： 浙江海纳半导体有限公司
申请日： 2021-04-14 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： C30B15/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及单晶炉技术领域，且公开了一种单晶炉观察窗，包括观察窗，观察窗的窗口上设有的一个安装座，密封圈放置在安装座上，所述的镀金玻璃，一面为全镀面，另一面压在密封圈上。上述结构在使用的时候，炉内清洗就不会磨损镀金面，保证了镀金面的防辐射效果，延长了观察窗的使用寿命，并且结构稳定，使用很方便，适用性强。
一种单晶炉观察窗

[实用新型]一种硅片研磨机用测厚装置-CN202120153614.9有效
发明人：沈益军;吴雄杰;张立安;潘金平;饶伟星;肖世豪;苏文霞;梁奎;冯小娟;孟柱;余天威 -专利权人： 浙江海纳半导体有限公司
申请日： 2021-01-20 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：本实用新型涉及硅片加工技术领域，且公开了一种硅片研磨机用测厚装置，包括打磨机台面，所述打磨机台面顶部设置有下磨盘，所述下磨盘顶部设有上磨盘，所述上磨盘上开设有圆孔，所述圆孔内部设有圆板，所述圆板通过轴承与圆孔活动连接，所述圆板顶部边缘固定套接有蜗轮，所述蜗轮一侧设置有操作装置，所述圆板上开设有安装孔，所述安装孔设置在圆板表面靠近边缘处，所述圆板顶部设有固定板，所述固定板顶面开设有限位槽。该硅片研磨机用测厚装置，通过拧动旋钮可以带动蜗杆转动，进而通过蜗轮带动圆板转动，有利于调节电极的位置，进而匹配不同规格硅片中心的运动轨迹，提高了适用性，调节精度高，操作方便。
一种硅片研磨机用测厚装置

[发明专利]一种快速高效的抛光机陶瓷盘搬运装置-CN202110766980.6在审
发明人：吴雄杰;潘金平;肖世豪;沈益军;饶伟星;张立安;肖春柳;高海军;郑欢欣;朱贞军 -专利权人： 浙江海纳半导体有限公司
申请日： 2021-07-07 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种快速高效的抛光机陶瓷盘搬运装置，包括驱动组件、第一搬运手组件、第二搬运手组件以及与第一搬运手组件、第二搬运手组件相适配使用的两组放置盘组件，驱动组件包括驱动电机和第一传动齿轮，第一传动齿轮键连接于驱动电机的输出轴端，放置盘组件对称设置有两组，且两组放置盘组件之间设置有支撑板，驱动电机通过固定架固定安装于支撑板的下端。本发明通过采用一个驱动电机同时驱动第一搬运手组件和第二搬运手组件，并使第一搬运手组件和第二搬运手组件的运行角度完全一致，并且采用摆动式搬运，搬运行程得到缩减，不仅提高了搬运效率，同时采用第一搬运手组件和第二搬运手组件进行搬运，还能增强搬运中平衡性。
一种快速高效抛光机陶瓷搬运装置

[发明专利]一种酸腐蚀废气处理装置及处理方法-CN202110076651.9在审
发明人：沈益军;潘金平;高海军;肖世豪;饶伟星;张立安;杨国梁;吴雄杰;苏文霞;余天威 -专利权人： 浙江海纳半导体有限公司
申请日： 2021-01-20 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： B01D53/75 文献下载
摘要：本发明公开了一种酸腐蚀废气处理装置及处理方法，包括酸腐蚀机，所述酸腐蚀机上设置有有若干酸雾槽，所述酸雾槽上设置有可拆卸的集气盖，所述集气盖通过管道连接有废酸雾预处理系统，所述废酸雾预处理系统通过管道连接有酸腐蚀废气处理塔，所述废酸雾预处理系统用于预处理酸腐蚀废气。通过设置本处理系统，能更加高效的处理酸腐蚀废气，降低处理废气时的能量消耗，降低废气处理所需的药品。通过采用本方法，预处理废气浓度高、总量少，处理效果更好，使用成本更经济；整体药剂使用量大约会下降20％。
一种酸腐废气处理装置方法

[实用新型]一种用于硅片散热的金刚石膜散热结构-CN202022082889.6有效
发明人：潘金平;陈洪;胡晓君;肖世豪;陈成克;张立安;李晓;蒋梅燕;沈益军;饶伟星;苏文霞 -专利权人： 浙江海纳半导体有限公司;浙江工业大学
申请日： 2020-09-22 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： H01L33/64 文献下载
摘要：本实用新型涉及散热结构技术领域，具体为一种用于硅片散热的金刚石膜散热结构，包括PCB板，PCB板表面的中部设有单晶硅片，单晶硅片的表面粘接有绝缘层，绝缘层的表面粘接有金属导电层，金属导电层的表面电性连接有多个呈矩阵式排布的LED芯片，金属导电层的外侧设有金刚石膜组件，金刚石膜组件包括金刚石薄膜板和框形金刚石膜。该用于硅片散热的金刚石膜散热结构，通过单晶硅片、绝缘层和金属导电层构成硅基板，用于安装LED芯片，通过金刚石薄膜板提高LED芯片部分的热量导出效率，通过框形金刚石膜将单晶硅片、绝缘层和金属导电层传递的热量导出，提高单晶硅片的热量导出率。
一种用于硅片散热金刚石结构

[实用新型]一种用于硅片制备的金刚石膜片-CN202022082924.4有效
发明人：潘金平;肖世豪;胡晓君;陈洪;陈成克;张立安;李晓;蒋梅燕;沈益军;饶伟星;苏文霞 -专利权人： 浙江海纳半导体有限公司;浙江工业大学
申请日： 2020-09-22 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： H05K1/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及硅片制备技术领域，具体为一种用于硅片制备的金刚石膜片，包括单晶硅片，单晶硅片的顶部设有第一金刚石膜片，第一金刚石膜片顶部的中部设有温度传感器，单晶硅片的底部设有第二金刚石膜片，第二金刚石膜片的底部还设有U形板，U形板内壁底部的中部设有微型电子风扇；还包括PCB板。该用于硅片制备的金刚石膜片，通过第一金刚石膜片对单晶硅片表面的集成电路进行封装，并配合第二金刚石膜片可以对单晶硅片起到有效的散热，当单晶硅片的温度过高时，通过温度传感器将电信号输入PCB板，并通过PCB板控制微型电子风扇开启，对第二金刚石膜片进行快速散热。
一种用于硅片制备金刚石膜片

[实用新型]提升效率的晶锭切片装置-CN202020286451.7有效
发明人：肖世豪;潘金平;陈洪;郑春松;苏文霞;黄晓东;郑欢欣;王伟棱;饶伟星;沈益军 -专利权人： 浙江海纳半导体有限公司
申请日： 2020-03-10 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： B28D5/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种提升效率的晶锭切片装置，包括两个相对称的导轮(1)，导轮(1)上设有布线槽，两个导轮(1)相对称的布线槽之间设置有切割线(2)；每个导轮(1)上沿其长度设置有2～3套槽组，每套槽组由若干个槽距相等的布线槽组成；不同槽组的槽距不相同。采用本实用新型的晶锭切片装置，可以组合不同切割厚度的产品进行同时加工，充分发挥设备的加工产能，切片效率得到提升。
提升效率切片装置

[实用新型]用于直拉单晶炉热场的三相交流加热器-CN202020288304.3有效
发明人：沈益军;潘金平;肖世豪;周永前;饶伟星;高海军;杨国梁;陈洪;苏文霞;徐斌 -专利权人： 浙江海纳半导体有限公司
申请日： 2020-03-10 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： C30B15/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于直拉单晶炉热场的三相交流加热器，包括分别位于正三角形3个端点的三个加热器脚；三个加热器叶片组件围合形成一个圆筒，相邻的加热器叶片组件之间设有间隙Ⅰ；所述三个加热器脚位于圆筒的内表面的底部；在2个相邻的加热器叶片组件之间设置一个加热器脚。本实用新型还同时公开了该三相交流加热器的使用方法。本实用新型利用三相交流加热器形成内部磁场，不仅起到横向磁场和旋转磁场的作用，而且节省了外置磁场设备的造价及运维费用，大大降低了产品的生产成本。
用于直拉单晶炉热场三相交流加热器

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