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[发明专利]有机发光器件和包括其的电子设备-CN202310152536.4在审
发明人：沈明善;郭丞燕;权五炫;V·K·莱;朴范雨;崔炳基;崔钟元;洪成勋 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2023-02-22 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： H10K50/11 文献下载
摘要：公开有机发光器件和包括其的电子设备。所述有机发光器件包括：第一电极；第二电极；以及布置在所述第一电极和所述第二电极之间的有机层，所述有机层包括发射层，其中所述有机层进一步包括布置在所述第一电极和所述发射层之间的空穴传输区域，所述空穴传输区域包括发射辅助层，所述发射层包括作为由式1表示的有机金属化合物的第一化合物，所述发射辅助层包括作为由式2表示的杂环化合物的第二化合物，其中，在式1和2中，Y2为C，环A2为C5‑C30碳环基团或C1‑C30杂环基团，并且R1‑R8、R13‑R20、R31‑R37、d2、X30和Z1如详述的说明书中所描述的。
有机发光器件包括电子设备

[发明专利]组合物、包括组合物的层、包括组合物的发光器件、和包括发光器件的电子设备-CN202211132142.4在审
发明人：金昭延;沈明善;曹勇硕;崔钟元;D.克拉夫丘克;李晟熏;洪成勋 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2022-09-16 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： C09K11/06 文献下载
摘要：公开组合物、包括组合物的层、包括组合物的发光器件、和包括发光器件的电子设备。所述组合物包括由式1表示的第一化合物、和由式2表示的第二化合物，其中所述第一化合物和所述第二化合物彼此不同，其中式1和式2如说明书中所定义的。式1Ir(L11)n11(L12)n12(L13)n13式2Ir(L21)n21(L22)n22(L23)n23
组合包括发光器件电子设备

[发明专利]图像处理方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质-CN202011359407.5在审
发明人：马林;何宝;姜东雨;李炜明;洪成勋;王强 -专利权人：北京三星通信技术研究有限公司;三星电子株式会社
申请日： 2020-11-27 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： G06V40/16 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种图像处理方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质，涉及图像处理技术领域。该图像处理方法包括：获取图像的特征图；根据特征图，确定关键点。本申请实施例提供的图像处理方法可以基于人工智能的方式实现，可以提高关键点位置检测的准确率。
图像处理方法装置电子设备计算机可读存储介质

[发明专利]样品前处理系统-CN201680051212.X有效
发明人：李炯燮;洪成勋 -专利权人：纳恩泰株式会社
申请日： 2016-08-30 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： G01N1/28 文献下载
摘要：公开样品前处理系统及其控制方法。本发明的样品前处理系统及其控制方法能够最小化作业人员直接手动操作的情况下可能发生的失误，确保样品前处理及测试结果的准确性及均匀性，能够通过简便地执行样品的混合和排出提高作业便利性，提供用户亲和性的实验环境。并且，能够均匀地保持及调节腔体内的压力使得即使腔体内的压力急剧变化也能够防止样品破出来，通过提高对收容于腔体内的样品的热传递能力在短时间内加热至所需温度，因此能够提高样品的混合及反应效率。并且，能够利用磁力提高样品混合效果，最小化机械驱动，能够在样品前处理之后定量吐出样品。
样品处理系统

[发明专利]表面涂覆材料、膜、堆叠结构、显示设备、和制品-CN201911248418.3在审
发明人： F.卡利尼纳;朴炳夏;D.安德罗索夫;房非非;洪成勋 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2019-12-09 - 公布日： 2020-09-22 - 主分类号： C03C17/30 文献下载
摘要：公开表面涂覆材料、膜、堆叠结构、显示设备和制品，所述表面涂覆材料包括由化学式1表示的化合物，所述制品包括涂覆有所述表面涂覆材料的玻璃基板。在化学式1中，各取代基与详细说明书中定义的相同。[化学式1]
表面材料堆叠结构显示设备制品

[发明专利]用于获得设备位姿的方法、装置和存储介质-CN201810148359.1在审
发明人：王光伟;高天豪;王淳;王强;安敏洙;金允泰;宋基英;李洪硕;刘志花;洪成勋;马林 -专利权人：北京三星通信技术研究有限公司;三星电子株式会社
申请日： 2018-02-12 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： G06T7/70 文献下载
摘要：本公开提出了获得设备位姿的方法。该方法包括：获取惯性测量单元IMU数据；采用集束优化的方法，基于IMU数据来估计设备的基础位姿以及IMU参数；其中，采用以下操作中的任一项或任意多项的组合进行处理：采用设备的静止状态对设备的基础位姿进行约束；采用松耦合集束优化的方法对IMU参数进行优化；对IMU数据进行积分得到位姿变化，根据位姿变化和基础位姿得到设备的第二位姿，在基础位姿更新后，对第二位姿与更新的基础位姿之间的差异进行补偿；利用深度学习网络来预测设备的未来位姿；根据历史图像帧对应的设备的位姿和当前图像帧对应的设备的位姿，对历史图像帧进行变形得到当前图像帧。本公开还提出了对应设备和存储介质。
位姿存储介质获得设备历史图像图像帧集束优化惯性测量单元估计设备静止状态位姿变化预测设备对设备松耦合更新变形网络学习

[发明专利]用于显示装置的窗和显示装置-CN201710849968.5在审
发明人：朴炳夏;权明钟;金洛铉;徐圣镇;丁贤雄;咸喆;洪成勋 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2017-09-20 - 公布日： 2018-04-03 - 主分类号： B32B27/06 文献下载
摘要：公开了用于显示装置的窗和显示装置。所述用于显示装置的窗包括聚合物基底、在所述聚合物基底下面并且具有约7兆帕斯卡‑约30兆帕斯卡的弹性模量的第一缓冲层、在所述聚合物基底与所述第一缓冲层之间的第一透明粘附层、和在所述聚合物基底上的保护层，且所述显示装置包括所述用于显示装置的窗。
用于显示装置