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[发明专利]等离子体处理装置以及等离子体处理方法-CN202080004645.6有效
发明人： 江藤宗一郎 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2020-03-11 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置，为了提供提高了处理的成品率的等离子体处理装置或等离子体处理方法，对配置在真空容器内部的处理室内的晶片上的处理对象的膜层使用在该处理室内形成的等离子体进行处理，所述等离子体处理装置具备：检测器，在所述晶片的处理中，对接受从配置在所述处理室外部的光源照射到所述处理室内并在所述晶片上表面反射的光而得到的第1波长的范围内的多个波长的第1光以及从所述光源不经由所述处理室而传递的光的第2波长的范围内的多个波长的第2光的强度进行检测；以及判定器，将使用作为在所述处理中得到的所述光的强度的所述第2光的强度的变化率而修正的所述第1光的强度与预先得到的表示以波长为参数的光的强度和所述膜层的剩余膜厚度的相关性的模式进行比较而判定该膜层的剩余膜厚度。
等离子体处理装置以及方法

[发明专利]蚀刻处理装置、蚀刻处理方法及检测器-CN201980004087.0有效
发明人： 江藤宗一郎;峯邑浩行;臼井建人 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2019-02-08 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：在蚀刻处理中的晶片的膜厚/深度测定中，由于光源的光量波动、光通过的区域的空气的波动等而在检测光量中产生变动，膜厚/深度的测定精度下降，因此，根据在蚀刻处理中的各时刻测定的分光光谱而算出任意的波长的总光量或平均光量，算出使用比当前时刻靠前测定出的总光量或平均光量而推断的当前时刻的推断总光量或推断平均光量，算出当前时刻的总光量与推断总光量之比或者平均光量与推断平均光量之比，即变化率，使用算出的变化率来修正当前时刻的各波长的光量，使用修正后的各波长的光量来实施膜厚/深度测定。
蚀刻处理装置方法检测器

[发明专利]等离子处理装置以及等离子处理方法-CN202180005331.2在审
发明人： 江藤宗一郎;冈本翔;中元茂;臼井建人 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2021-03-15 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：等离子处理装置以及方法对配置于真空容器内部的处理室内的处理对象的晶片使用在该处理室内形成的等离子进行处理，在该等离子处理装置以及方法中，在所述处理对象的晶片的处理中的给定的多个时刻从所述晶片表面接受多个波长的光，在使用将表示该接受到多个波长的光的强度的信息和表示预先取得的所述多个波长的光的强度的数据进行比较的结果来检测所述处理对象的晶片的处理中的处理的量的情况下，基于表示预先在多个晶片各自的所述处理中取得的来自各个该晶片的表面的光的所述多个波长的光的强度的数据，将各晶片彼此之间的相似度数值化，将对应于被数值化的所述相似度而选择的至少1个数据和表示在所述处理对象的晶片的处理中得到的所述多个波长的光的强度的数据进行比较，来检测所述处理的量。
等离子处理装置以及方法

[发明专利]等离子处理装置以及等离子处理方法-CN202080020834.2在审
发明人：永泽充;江藤宗一郎;臼井建人;中元茂 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2020-09-17 - 公布日： 2022-05-20 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：为了提供以高精度检测处理对象的膜的蚀刻量并提高处理的成品率的等离子处理装置或者等离子处理方法，具备如下工序：使用在从形成等离子起到所述蚀刻结束为止的多个时刻检测出表示在晶片表面反射而形成的多个波长的干涉光的强度的信号的结果，来检测所述处理对象的膜层的厚度或者蚀刻的深度，使用在该工序的刚形成所述等离子之后的初始的期间中得到的多个波长的干涉光的强度的变化的量，来检测所述处理对象的膜层的蚀刻处理开始的时刻，根据比较表示该开始的时刻以后的所述处理中的任意时刻的所述多个波长的干涉光的强度的实际数据和预先得到的与多个所述膜厚或者蚀刻深度的值对应的所述多个波长的干涉光的强度的检测用的多个数据的结果，来检测所述任意时刻的所述剩余膜厚或者蚀刻量。
等离子处理装置以及方法

[发明专利]等离子处理装置以及等离子处理方法-CN202111084850.0在审
发明人：福地功祐;朝仓凉次;江藤宗一郎;冈本翔;臼井建人;中元茂 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2021-09-14 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供等离子处理装置以及等离子处理方法。即使是在半导体晶片表面的微细形状中发生偏差的情况，也能精度良好地检测被处理膜的厚度。在具备检测在真空处理室的内部中被处理的被处理件的被处理膜的状态的处理状态检测组件的等离子处理装置中，具备如下要素而构成处理状态检测组件：检测等离子的发光的发光检测部；求取等离子的发光的微分波形数据的运算部；存储多个微分波形图案数据的数据库部；赋予基于运算部中求得的微分波形数据与存储于数据库部的多个微分波形图案数据的差的权重来算出在被处理件被处理的被处理膜的膜厚的估计值的膜厚算出部；和基于由膜厚算出部算出的被处理膜的膜厚的估计值来判定等离子处理的终点的终点判定部。
等离子处理装置以及方法

[发明专利]等离子处理装置以及晶片处理方法-CN201980015454.7在审
发明人：小林浩之;关口笃史;臼井建人;江藤宗一郎;中元茂;篠田和典;三好信哉 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：提供使处理的成品率提升的等离子处理装置以及晶片处理方法。晶片处理方法具备如下工序：对载置在配置于处理室内的样品台的上表面的处理对象的晶片照射光或电磁波，来加热预先形成于该晶片上表面的膜层的上表面的该膜层的化合物层，从而将其去除，在所述晶片处理方法中，在所述工序中，接受由所述晶片的上表面反射的所述光或所述电磁波，对于表示该光或该电磁波的以波长为参数的强度的时间变化的信号，使用在所述样品台的所述上表面的外周侧的部位接受所述光或所述电磁波而检测到的该光或该电磁波的强度的信息进行补正，从而判定所述膜层的剩余膜厚或所述工序的终点。
等离子处理装置以及晶片方法

[发明专利]品质评价方法、信息记录介质、光盘装置和记录再现系统-CN201410042437.1无效
发明人：森本义谦;江藤宗一郎;渡边康一 -专利权人：日立民用电子株式会社;日立乐金资料储存股份有限公司
申请日： 2014-01-28 - 公布日： 2014-08-06 - 主分类号： G11B20/10 文献下载
摘要：本发明提供品质评价方法、信息记录介质、光盘装置和记录再现系统。当在光盘上记录数据并长期保存时，需要定期地对所记录的数据的品质是否产生经时劣化进行评价。根据评价结果，在信号品质比规定的标准差的情况下，需要进行将数据转移至新光盘的操作。但是，在进行定期检查时，在光盘数量庞大的情况下，对光盘上的所有记录数据进行评价需要大量的时间。本发明中，在将用户数据记录到光盘上时，在光盘的规定的区域记录寿命比用户数据的基准寿命短的特定图案的信号，按规定的时间间隔对特定图案信号进行再现，根据其信号品质的评价结果，决定对用户数据的处理。
品质评价方法信息记录介质光盘装置再现系统

[发明专利]信息再现性能的评价方法、信息再现装置和信息记录介质-CN201310665343.5在审
发明人： 江藤宗一郎;森本义谦 -专利权人：日立乐金资料储存股份有限公司
申请日： 2013-12-10 - 公布日： 2014-06-18 - 主分类号： G11B7/007 文献下载
摘要：本发明提供一种信息再现性能的评价方法，信息再现装置和信息记录介质。在光盘中，为了使再现信号品质总是保持良好，保证光盘装置的再现性能和光盘介质的信号品质，需要再现性能的评价。本发明的再现性能的评价方法中，再现特定模式的记录信号，测定再现信号噪声，基于测定出的再现信号噪声的频率特性计算再现性能的评价值。
信息再现性能评价方法装置记录介质

[发明专利]记录调整方法、信息记录再生装置以及信息记录介质-CN201110451476.3有效
发明人： 江藤宗一郎;黑川贵弘 -专利权人：日立民用电子株式会社
申请日： 2011-12-29 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： G11B7/0045 文献下载
摘要：本发明提供一种记录调整方法、信息记录再生装置以及信息记录介质。在无槽光盘中能够进行使用记录信号的循轨伺服。在多个记录条件下进行试写，决定根据试写信号得到良好的再生信号品质和循轨误差信号品质的推荐记录条件，使用推荐记录条件进行记录。另外，使用在记录之前实施的OPC中决定的记录条件，以使信号在至少两个轨道以上相邻的方式进行记录，在从记录信号得到的循轨误差信号品质与该介质的循轨误差信号品质的目标值一致的情况下，使用所决定的记录条件进行记录。
记录调整方法信息再生装置以及介质

[发明专利]记录功率调整方法以及信息记录方法-CN201080056892.7有效
发明人： 江藤宗一郎;渡边康一;宫本治一 -专利权人：日立民用电子株式会社
申请日： 2010-03-02 - 公布日： 2012-09-05 - 主分类号： G11B7/1267 文献下载
摘要：在具有多个信息记录层的光盘的记录功率调整中，由于该层以外的层的影响而导致试写的数据变动，因此难以决定最佳的记录功率。使用多种记录功率Pw[m]，根据试写后的信号的再生信号振幅来求出调制度M[m]，通过将渐近调制度Masy、记录功率截距Pint以及渐近记录功率Pasy作为参数而具有的调制度特性公式M＝Masy×（1-（Pint-Pasy）/（Pw-Pasy）来拟合所述Pw[m]和所述M[m]的关系，由此至少决定最佳记录功率截距Pint_opt，至少使用所述M[m]、所述调制度特性公式以及所述Pint_opt来评价所述拟合的近似精度及/或所述试写信号的品质，通过至少使用了所述Pint_opt的预定的运算来计算最佳记录功率Pw_opt，其中，m为整数。
记录功率调整方法以及信息

[发明专利]评价方法及信息记录方法-CN201110378749.6有效
发明人： 江藤宗一郎;渡边康一;宫本治一 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2009-09-01 - 公布日： 2012-04-18 - 主分类号： G11B7/1267 文献下载
摘要：本发明提供一种能够高精度地设定记录功率的记录功率调节方法、信息记录方法以及光信息记录介质。使用多种记录功率Pw，m(m是整数)进行试写，计算与各记录功率Pw，m对应的调制度M，m。通过使用预先对每个介质决定的参考渐近功率Pasy-ref以及参考记录开始功率Pws-ref进行规定的运算，来计算最佳渐近功率Pasy-opt。使用最佳渐近功率Pasy-opt计算评价值S，m＝M，m×(Pw，m-Pasy-opt)。在对记录功率Pw，m和评价值S，m的关系进行了直线逼近时，计算评价值S成为零时的记录功率Pw来作为最佳记录开始功率Pws-opt。通过对最佳记录开始功率Pws-opt进行规定的运算来求出最佳记录功率Pw-opt。
评价方法信息记录

[发明专利]功率设定方法以及信息记录装置-CN201110237923.5无效
发明人： 江藤宗一郎;渡边康一;黒川贵弘 -专利权人：株式会社日立制作所;日立乐金资料储存股份有限公司
申请日： 2007-01-29 - 公布日： 2011-12-07 - 主分类号： G11B7/0045 文献下载
摘要：本发明提供一种用于设定对光学信息记录介质记录信息时的照射光的功率的功率设定方法，其特征在于，具有：根据使用多种记录功率Pwm记录到所述光学信息记录介质的信号的再生信号振幅求出调制度Mm的步骤；在将Pcn设为记录功率修正项，将An、Bn设为常数时，求出作为直线近似式Mm×(Pwm-Pcn)＝An×(Pwm-Pcn)+Bn的参数Pcn、An、Bn的最佳值的Pc0、A0、B0，将记录功率阈值作为Pth，利用从Pth＝-B0/A0+Pc0计算出的Pth求出最佳记录功率Popt的步骤。
功率设定方法以及信息记录装置

[发明专利]功率调节方法、信息记录方法及信息记录介质-CN200910171585.2有效
发明人： 江藤宗一郎;渡边康一;宫本治一 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2009-09-01 - 公布日： 2011-01-12 - 主分类号： G11B7/125 文献下载
摘要：本发明提供一种能够高精度地设定记录功率的记录功率调节方法、信息记录方法以及光信息记录介质。使用多种记录功率Pw，m(m是整数)进行试写，计算与各记录功率Pw，m对应的调制度M，m。通过使用预先对每个介质决定的参考渐近功率Pasy-ref以及参考记录开始功率Pws-ref进行规定的运算，来计算最佳渐近功率Pasy-opt。使用最佳渐近功率Pasy-opt计算评价值S，m＝M，m×(Pw，m-Pasy-opt)。在对记录功率Pw，m和评价值S，m的关系进行了直线逼近时，计算评价值S成为零时的记录功率Pw来作为最佳记录开始功率Pws-opt。通过对最佳记录开始功率Pws-opt进行规定的运算来求出最佳记录功率Pw-opt。
功率调节方法信息记录介质

[发明专利]再现功率调整方法、光信息记录再现装置和信息记录介质-CN201010178264.8无效
发明人： 江藤宗一郎;新谷俊通;峯邑浩行 -专利权人：日立民用电子株式会社
申请日： 2010-05-12 - 公布日： 2010-11-17 - 主分类号： G11B7/125 文献下载
摘要：本发明提供一种再现功率调整方法、光信息记录再现装置和信息记录介质。在光盘的超分辨技术中，随着介质的光吸收率的不均匀、再现线速度、周围的温度这样的再现条件的不同，最佳再现功率也不同，所以为了总能得到最佳的再现信号，在再现动作中需要进行再现功率调整。再现功率调整是使用能够在再现动作中取得的信号和介质固有的参数进行的方法，在以介质固有的参数作为固定值进行再现功率调整的情况下，可能会不能够实现最佳的再现。参照保存在光盘或光盘装置中的、和/或光盘装置生成的再现条件和介质固有的参数的表，按照再现条件变更用于再现功率调整的介质固有的参数，执行再现功率调整。
再现功率调整方法信息记录装置介质

[发明专利]光信息记录再生方法、装置以及介质-CN201010115666.3有效
发明人：新谷俊通;峰邑浩行;江藤宗一郎 -专利权人：日立民用电子株式会社
申请日： 2010-02-11 - 公布日： 2010-09-22 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：本发明提供一种光信息记录再生方法、装置以及介质。在通常的光盘中，由于环境温度、激光器温度或介质的记录灵敏度的变化等，有时需要在记录过程中再次设定记录条件。在对比光学分辨率小的记录标记进行再生，以记录数据的高密度化为目的的超分辨率光盘中，由于再生信号品质较大地取决于超分辨率再生功率，所以需要与记录条件的再设定一同再设定超分辨率再生条件。在检测记录条件从最佳值的偏移，求出最佳记录功率的测试记录的过程中，在变更记录功率的同时变更超分辨率再生功率。此时，希望与记录功率成比例地变更超分辨率再生功率。
信息记录再生方法装置以及介质

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