专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种抛光垫-CN201611011643.1有效
  • 朱顺全;梅黎黎 - 湖北鼎龙控股股份有限公司
  • 2016-11-17 - 2018-10-19 - B24B37/26
  • 本发明公开了一种抛光垫,解决了现有抛光垫存在的抛光液分布不均、抛光速率和平整化程度有待进一步提高的问题。技术方案至少包括圆形的抛光层,所述抛光层上表面开有供抛光液流动的沟槽,所述沟槽由圆周走向型沟槽和径向走向型沟槽组成,所述圆周走向型沟槽是以抛光层圆心为中心的圆周走向的几何中心对称图形,所述图形的边m≥3,所述径向走向型沟槽是沿圆心向圆周方向散射出来的直线或/和曲线,且与圆周走向型沟槽具有交叉点。本发明结构简单、能使抛光液在抛光区均匀分布和流动,最大程度保持抛光区内抛光液中反应物和产物的浓度均匀、提高抛光速率、提高晶片平面化程度。
  • 一种抛光
  • [发明专利]耐候性化学机械抛光垫-CN201510488969.2有效
  • 朱顺全;梅黎黎;李云峰 - 湖北鼎龙控股股份有限公司
  • 2015-08-11 - 2017-12-26 - B24B37/24
  • 本发明公开了一种耐候性化学机械抛光垫,解决了现有抛光垫存在的耐候性较差的问题,本发明抛光垫由上至下至少包括有抛光层、缓冲层和透明底垫,各层之间通过压敏胶或胶粘剂粘接,其特征在于,所述抛光层由耐候性聚氨酯预聚体、固化剂以及功能填料三者混合固化而成,所述耐候性聚氨酯预聚体由多元醇和耐候性多官能异氰酸酯反应而成,所述耐候性多官能异氰酸酯的分子结构中不含有苯环,或者分子结构中的异氰酸酯基团与苯环间接相联。本发明工艺简单、成本低、具有优异耐候性能。
  • 耐候性化学机械抛光
  • [发明专利]化学机械抛光垫-CN201410341023.9有效
  • 朱顺全;梅黎黎;李云峰 - 湖北鼎龙化学股份有限公司
  • 2014-07-17 - 2014-11-19 - B24B37/24
  • 本发明公开一种化学机械抛光垫,解决了现有抛光垫容易擦伤,抛光效率低的问题。技术方案至少包括有抛光层,所述抛光层的抛光面上开有多个孔,以所述抛光面的中心为圆心,所述多个孔排列成多排不同径长的同心的圆环;并且,以抛光面的中心为端点,均匀散射出多条延至抛光面边缘的沟槽;所述抛光面的表面粗糙度处于15μm以下。本发明抛光垫结构简单、能有效提高抛光去除效率且能抑制擦伤产生、使用寿命长。
  • 化学机械抛光

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