专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]曝光机除尘装置-CN202010971805.6有效
  • 松田政昭;星一成 - 上海光起电子设备有限公司
  • 2020-09-16 - 2023-05-30 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种曝光机除尘装置,包括除尘辊、粘附带支架和粘附带剥离机构,粘附带支架可回转地支承粘附带卷筒,粘附带支架与除尘辊之间可相对移动使得粘附带卷筒最外层的粘附带能够与除尘辊接触,粘附带卷筒与除尘辊之间能够相对滚动,粘附带剥离机构包括粘附带卷取机构、剥离胶带支承部件和推压机构,剥离胶带支承部件可回转地支承剥离胶带卷筒且剥离胶带通过粘附带卷取机构牵引卷绕,推压机构能够将剥离胶带支承部件与粘附带卷取机构之间的剥离胶带推压至与最外层粘附有尘埃的粘附带接触粘结并将其从粘附带卷筒上剥离拉出。本发明能够实现粘附带的自动剥离换新,能够防止运行时灰尘进入到曝光机内部,提升曝光机工作时内部温度和压力的稳定性。
  • 曝光除尘装置
  • [发明专利]曝光装置-CN201510244466.0有效
  • 森田亮;松田政昭;绿川悟 - 株式会社ORC制作所
  • 2015-05-14 - 2017-12-19 - G03F7/23
  • 提供一种曝光装置,其是卷对卷方式的曝光装置,能够在长条工件上不产生划痕疵的情况下缩短生产节拍,并且所形成的图案的连接精度良好。所述曝光装置具有曝光台(31),其保持长条工件(W);台移动部(32),其使曝光台(31)往复移动;供给侧约束辊(15),其设置在供给卷轴(11)的下游侧且曝光单元(51)的上游侧,约束长条工件(W);以及卷绕侧约束辊(25),其设置在曝光单元(51)的下游侧且卷绕卷轴(21)的上游侧,约束长条工件(W),所述供给侧约束辊(15)和卷绕侧约束辊(25)中的至少一方具有辊驱动单元。
  • 曝光装置
  • [发明专利]输送装置及具有该输送装置的曝光装置-CN201410407693.6有效
  • 松田政昭;森田亮 - 株式会社ORC制作所
  • 2014-08-19 - 2017-06-06 - B65H5/06
  • 本发明提供一种小型且低成本的输送装置及具有该输送装置的曝光装置,能够在长条状工件的输送路径的整体范围内施加适当的张力,能够在不使长条状工件弯曲行进的情况下对其进行输送,能够通过去除附着在长条状工件的表面的异物来防止曝光缺陷和显影缺陷。输送装置将架设于供给卷轴与卷取卷轴之间的长条状工件在其长度方向上进行输送,其特征在于,输送装置设置有浮动辊,浮动辊位于供给卷轴与卷取卷轴之间,随着长条状工件的输送进行升降,并对长条状工件施加张力,浮动辊在其外周面形成有异物去除单元,浮动辊在随着长条状工件的输送进行升降的同时,使异物去除单元与长条状工件的一个面接触并旋转,由此,对长条状工件的一个面进行清扫。
  • 输送装置具有曝光
  • [发明专利]曝光装置的除尘装置和除尘方法-CN201380040503.5有效
  • 松田政昭;森田亮 - 株式会社ORC制作所
  • 2013-09-05 - 2015-04-08 - G03F7/20
  • 得到一种曝光装置的除尘装置和除尘方法,该曝光装置的除尘装置和除尘方法使得在除尘中暂时附着于除尘辊而被去除的灰尘、污物或异物等不会再次附着到除尘对象物上。一种曝光装置的除尘装置,所述曝光装置在感光性基板上曝光出图案,其特征在于,所述曝光装置的除尘装置具有:除尘辊,其能够通过周面与所述曝光装置内的除尘对象物的除尘表面接触/分离;以及移动机构,其以在使所述除尘辊的周面与所述除尘对象物的除尘表面接触的同时使所述除尘辊旋转的方式,使所述除尘辊与除尘对象物相对移动,所述除尘辊的周长被设定为比由所述移动机构控制的、所述除尘辊的周面与所述除尘对象物的除尘表面的接触移动距离长。
  • 曝光装置除尘方法
  • [发明专利]曝光标记装置-CN201310105488.X无效
  • 清水修一;松田政昭;久根正弥 - 株式会社奥珂制作所
  • 2013-03-28 - 2013-10-23 - G03F7/20
  • 本发明提供一种曝光标记装置。该曝光标记装置容易对基板位置进行调节,且使对准标记高精度地形成在基板上。该曝光标记装置具有基板位置调节部及由四个标记头(16A~16D)构成的标记部,在标记头(16A~16D)上沿着与基板输送方向正交的方向(X方向)设置用于对基板进行定位的调节销(X1~X4)。在对基板位置进行调节时,使标记头(16A~16D)移动而使调节销(X1~X4)抵接于基板端面,从而自动地对基板进行定位,并且使标记头(16A~16D)定位于标记形成位置。
  • 曝光标记装置
  • [发明专利]曝光装置-CN200810185297.8有效
  • 屋木康彦;水口信一郎;石田肇;松田政昭 - 株式会社ORC制作所
  • 2008-12-25 - 2009-07-01 - G03F7/20
  • 本发明提供一种不需要复杂的结构就能够一边使粘着辊与转印辊接触一边对掩模表面和载物台表面或者工件表面同时进行除尘的曝光装置。对于各曝光部(2、4)内的清洁单元(12),使粘着辊(57、57)突出并旋转自如地枢轴支承在分别与掩模(10)和载物台(8)对置的一侧。这两个粘着辊(57、57)的外周面和平行于该粘着辊地枢轴支承的大径转印辊(58)的外周面彼此接触。进而,Y-Z载物台(40)使粘着辊(57)与掩模(10)接触并对该掩模(10)的表面进行除尘,使粘着辊(57)与载物台(8)的上表面接触并对该载物台(8)的上表面进行除尘。另外,反转装置(9)使吸附基座(30)以旋转轴为中心进行旋转,吸附基座(30)越过水平方向停止在倾斜的位置,在利用清洁单元(13)对工件(W)的表面进行除尘之后,使所述吸附基座(30)朝向水平方向。
  • 曝光装置
  • [发明专利]基板搬运装置-CN200810108859.9有效
  • 水口信一郎;石田肇;松田政昭 - 株式会社ORC制作所
  • 2008-05-29 - 2008-12-03 - G03F7/20
  • 本发明提供一种基板搬运装置,不用将基板的预备位置决定机构设置于搬入台、曝光台,却可在搬运至曝光台之前进行基板的预备位置决定,且销的设置位置调整也简化作为课题。基板搬运装置包括:预备位置决定机构(2),押动上述搬入台(30)上的基板(W)的端面,进行预备位置决定;以及搬运机构(20),将此预备位置决定机构藉由支持本体(12)支持,且将预备位置决定完成的基板吸着保持而搬运至上述曝光台(40);其中上述预备位置决定机构系,具有被支持在上述支持本体的驱动装置(6)、以及藉由此驱动装置驱动而押动上述基板的端面的押动装置(3);上述驱动装置系,具有圆筒形的磁性轴体(7)、使此磁性轴体在轴周围转动的转动装置(8)、以及与藉由此转动装置转动的磁性轴体的周面相对而设置的直线状的第一纵长磁性体(9A)和第二纵长磁性体(9B)。
  • 搬运装置
  • [发明专利]绘图装置-CN200810099348.5有效
  • 清水修一;松田政昭;森田亮 - 株式会社ORC制作所
  • 2008-05-21 - 2008-12-03 - G03F7/20
  • 本发明提供一种绘图装置,使清洁滚轮接触工作台上的工件表面时,防止因为清洁滚轮接触工件而导致工件在工作台上偏离或剥离。在绘图工作台(13)表面形成的多个抽吸口通过抽吸管(V)分别由对应的抽吸泵(P)进行抽吸。利用压力传感器(S)检测该抽吸管内的真空度。绘图工作台驱动马达(18)可使绘图工作台往复移动于从待机位置至超过由绘图光学系统确定的绘图位置的位置。清洁单元上下移动驱动用气缸(43)使清洁滚轮(49)在机械手(5)及绘图光学系统之间相对于绘图工作台上下移动。控制部(6)只有在由压力传感器检测到的真空度超过特定值时,利用清洁单元上下移动驱动用气缸,使该清洁滚轮下降并接触绘图工作台,并在该状态下使绘图工作台移动。
  • 绘图装置
  • [发明专利]曝光绘图装置-CN200810088524.5有效
  • 李德;山下大辅;松田政昭;石川淳 - 株式会社ORC制作所
  • 2008-03-27 - 2008-10-01 - G03F7/20
  • 本发明的课题是提供一种曝光绘图装置,搭载着少数光源和多个空间光调制组件,确保高的运转率,且可进行温度管理。其解决方式为,曝光绘图装置(100)包括:光源(10),照射紫外线;第一照明光学系统(30),使来自光源的光束形成为平行光;有孔构件(20),设有用于将来自第一照明光学系统的光束分离成矩形的第一光束和矩形的第二光束的第一矩形窗(21)及第二矩形窗(21);第一及第二空间光调制装置(41),将在有孔构件中被分离的第一光束及第二光束进行空间调制;以及投影光学系统(60),将在这些第一及第二空间光调制装置(41)中被空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。
  • 曝光绘图装置

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