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[发明专利]一种通用型转台吸盘治具-CN202311005656.8在审
发明人：葛自荣;祝建敏;王双玉;马一鸣 -专利权人： 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请日： 2023-08-10 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： B28D7/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种通用型转台吸盘治具，涉及硅环加工技术领域，包括转台、转接板和吸盘，吸盘可拆卸的安装于转接板上，转台内设有吸气气道，转接板上设有用于和吸气气道连通的吸附气道，吸盘上沿径向间隔分布有若干个与吸附气道连通的吸气孔，吸盘上设有若干个吸盘环槽，每个吸盘环槽均与单个吸气孔连通，吸气孔内设有可拆卸的堵塞组件；本发明可以避免拆装的过程，直接根据硅环的大小来将不需要的吸气孔堵塞，留下单一的吸盘环槽用来吸附硅环，在寿命周期内，无需进行更换，增加适用性的同时，提高了工作效率，在硅环加工完成后，本发明使用托盘用于托起硅环，避免硅环发生不必要的磨损，同时也令操作者的拿取更加便利。
一种通用型转台吸盘

[发明专利]一种单晶硅环用酸洗装置及清洗方法-CN202211392875.1有效
发明人：范明明;祝建敏;李长苏;姜永庆 -专利权人： 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本申请涉及单晶硅相关技术领域，尤其是涉及一种单晶硅环用酸洗装置及清洗方法，包括酸洗罐，酸洗罐内设有酸洗腔，酸洗腔的开口处设有盖板；酸洗腔的中部处设有用于驱动酸洗液流动的搅动机构，酸洗腔内设有多个均匀分布于搅动机构外周的酸洗机构；酸洗机构包括固定筒及可升降地设于固定筒内的活塞筒，固定筒的外壁上间隔设有外漏孔，活塞筒的外壁上对应外漏孔设有内漏孔；活塞筒内设有可伸出酸洗罐且用于放置单晶硅环的放置架；酸洗罐的下端部对应固定筒设有用于将固定筒内酸洗液排出的排液组件，通过上述构造，较佳地实现对单晶硅环持续进行酸洗、水洗处理。
一种单晶硅酸洗装置清洗方法

[发明专利]一种硅产品新型特殊加工刀具及其使用方法-CN202311138160.8在审
发明人：王双玉;祝建敏;王世泽;葛自荣;李熊;密思 -专利权人： 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请日： 2023-09-05 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： B28D5/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅产品新型特殊加工刀具，包括：刀体；凸起，自刀体中心向刀体侧壁方向延伸而出；刀杆，固接在刀体顶面中部；底面磨削刃，固接在凸起底面；其中，所述凸起远离刀体一侧到刀杆轴线的距离大于倒扣结构距离硅环轴线的最小距离且不大于基体部到硅环轴线的最小距离。本申请可使用于普通三轴加工中心实现在脆性材料的倒扣结构部位进行加工，工艺简单，成本低廉。
一种产品新型特殊加工刀具及其使用方法

[发明专利]一种用于C型多孔结构硅产品的刻蚀治具及刻蚀机构-CN202310616910.1在审
发明人：马一鸣;祝建敏;周波;林霜;密思 -专利权人： 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请日： 2023-05-29 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及硅产品治具技术领域，具体涉及一种用于C型多孔结构硅产品的刻蚀治具，包括相对设置的两转盘，两转盘之间设有四根固定杆，其中四根固定杆两两相对设置，其中一组处于相对侧的两固定杆之间的连线与另一组处于相对侧的两固定杆之间的连线交叉设置；每个所述固定杆的内侧壁上均设有用于供产品卡入的卡槽，其中4个卡槽分布在同一斜面上，其中所述斜面相对于竖直面以角度α1倾斜，所述α1为30°‑60°；在刻蚀结束后，只要使治具继续保持转动，便可使得产品的外侧壁和内侧壁交替倾斜朝下，如此当外侧壁转动至倾斜朝下位置时，产品内部积存的酸液便可从外侧壁上的孔洞流出，避免产品内部酸液积存过多造成内部过度刻蚀的问题。
一种用于多孔结构产品刻蚀机构

[发明专利]一种硅电极表面抛光设备及抛光方法-CN202211392897.8在审
发明人：李长苏;范明明;祝建敏 -专利权人： 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：一种硅电极表面抛光设备及抛光方法，属于硅电极加工技术领域，包括机体，机体上设有抛光平台，抛光平台上设有用于夹持硅电极的夹持组件，夹持组件的上方设有用于对硅电极表面抛光的抛光组件；夹持组件包括重力传感器以及转动设于抛光平台上的底座，底座的中间位置设有用于支撑硅电极的支撑座，支撑座的上方设有夹持安装环，夹持安装环内端面设有伸缩夹持件，且底座的上阵列设有多组支撑件，且支撑件中有一组和夹持安装环的下端面铰接，在初始状态时，多组支撑件的上表面均触接于夹持安装环的下表面；本发明保障了硅电极的重心与夹持安装环或支撑座中心轴的重合精度，提高硅电极的抛光面加工的稳定性，从而有效的使硅电极表面机加工达到镜面效果。
一种电极表面抛光设备方法

[发明专利]一种降低硅片损伤的硅舟-CN202211432870.7有效
发明人：范明明;祝建敏;李长苏 -专利权人： 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请日： 2022-11-16 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明涉及硅舟领域，特别地，涉及一种降低硅片损伤的硅舟，包括平行且对向设置的法兰和天板，所述法兰和天板之间设有沟棒，所述沟棒的内侧设有用于承托硅片的沟齿；所述沟棒至少设有三根，包括两根前沟棒和一根后沟棒，所述前沟棒的截面形状为"7"字形，所述前沟棒上的沟齿作为"7"字形的上半部分，所述前沟棒本体作为"7"字形的下半部分；三根所述沟棒上的相应沟齿在同一平面形成硅片容置槽，两根前沟棒本体之间的最短连线长度大于硅片的直径，两根前沟棒的沟齿之间的最短连线长度小于硅片的直径;本发明目的是克服现有技术的不足而提供一种降低硅片损伤的硅舟，可缩小硅舟的开口处两沟棒对硅片的支撑点之间的间距，进而减小硅片外圈在高温下的坍塌形变量。
一种降低硅片损伤

[发明专利]一种硅环洗净治具-CN202111613852.4有效
发明人：马潇;叶天爱;李长苏 -专利权人： 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅环洗净治具，包括第一外板和第二外板，所述第一外板与第二外板之间设置有若干承载板，所述第一外板与第二外板之间连接设置有支撑杆组，所述支撑杆组包括若干支撑杆，所述支撑杆上设置有若干连接部，所述连接部与承载板可拆卸连接。采用设置于第一外板和第二外板支撑杆组对安置有待洗净硅环的承载板进行固定，同时可根据待洗净硅环的规格调整承载板与第一外板或第二外板之间的距离，确保各尺寸硅环均能得到稳定装夹，从而顺利完成清洗工作。
一种洗净

[发明专利]一种硅舟运输加固治具-CN202211715925.5在审
发明人：周波;祝建敏;王明豪 -专利权人： 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： B65D25/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅舟运输加固治具，所述硅舟包括沟棒以及设于所述沟棒的两端的法兰；包括底座，所述底座上开设有用于所述法兰轴向插入的环槽；还包括夹块，两个所述夹块相抵形成用于套设于所述沟棒上的加固件，所述夹块上还设有连接部，所述连接部与所述底座固定连接。本发明通过夹块相抵以套住沟棒的方式，对沟棒形成周侧方向的支撑，尽可能避免晃动导致沟棒与法兰之间的倾斜挤压而造成碎裂，能够针对性地对沟棒靠近法兰的位置进行保护。
一种运输加固

[发明专利]一种等离子分流盘的洗净剂组合及洗净方法-CN202211723252.8在审
发明人：刘志彪;祝建敏;李长苏;王少凡;陶筱林 -专利权人： 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： C11D1/72 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子分流盘的洗净剂组合，属于半导体技术领域。所述洗净剂组合包括煮沸洗净剂W1、加压刻蚀洗净剂W2。其中，所述煮沸洗净剂W1为溶有无机碱、无机盐和表面活性剂的有机醇溶液；所述加压刻蚀洗净剂W2为溶有强氧化剂和刻蚀调节剂的含氟酸溶液。本发明还公开了利用上述洗净剂组合对等离子分流盘进行洗净的方法，包括煮沸洗净、兆声洗净、加压刻蚀洗净、DHF洗净、SC1洗净和SC2洗净。本发明的洗净剂组合用于经机加工后的等离子分流盘产品的洗净，可有效去除产品表面有机物、金属离子及颗粒物，实现产品超高表面洁净度。
一种等离子分流洗净组合方法

[发明专利]一种硅舟沟棒加工方法-CN202211716117.0在审
发明人：祝军;祝建敏;张亚博 -专利权人： 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： B28D7/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅舟沟棒加工方法，包括沟棒定位、基准平面确定、刀头起始平面确定、下刀深度计算、下刀程序执行五个步骤，其中，所述沟棒定位中，沟棒采用吸盘治具的真空吸附的方式固定，所述基准平面确定、刀头起始平面确定、下刀深度计算、下刀程序执行中，采用翻转平台调整沟棒的倾角配合加工中心加工。本发明通过吸盘治具真空吸附的固定方式，只需控制吸盘表面的平面度，便可以达到一个很高的沟棒安装后的平面精度，相较于传统的粘蜡方式，对于加工精度的控制有了很大的提升。
一种硅舟沟棒加工方法

[发明专利]一种真空吸盘治具-CN202211715931.0在审
发明人：祝军;祝建敏;张亚博 -专利权人： 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明公开了一种真空吸盘治具，包括底盘，所述底盘内设有第一通道，所述第一通道的其中一端连通于所述底盘外；还包括周向活动块，所述周向活动块在所述底盘的周向上与所述底盘滑动连接，所述周向活动块上设有第二通道，所述第二通道的其中一端与所述第一通道的另一端连通；还包括径向活动块，所述径向活动块在所述底盘的径向上与所述周向活动块滑动连接，所述径向活动块内设有第三通道。本发明采用吸盘固定代替粘蜡的固定方式，硅产品与吸盘治具靠真空完成连接固定，只需控制治具与产品接触面的平面度和平行度即可做到硅产品与治具的无缝连接，保证后续加工中的精度。
一种真空吸盘

[发明专利]一种硅电极的清洗方法-CN202111531114.5有效
发明人：余正飞;叶天爱;李长苏 -专利权人： 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： B08B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅电极的清洗方法，旨在解决硅电极清洗不够彻底，清洗效果不佳的不足。硅电极经过无尘布沾取IPA充分擦拭时，经过酸液、碱液、纯水的清洗后，再加热干燥，烘干冷却，最后真空包装。硅电极经过这十七步的清洗后，清洗彻底，清洗效果好，硅电极清洗后金属离子和颗粒数不会出现超标的现象。
一种电极清洗方法

[发明专利]一种喷射管的清洗方法-CN202111538348.2有效
发明人：叶天爱;余正飞;李长苏 -专利权人： 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请日： 2021-12-15 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种喷射管的清洗方法，旨在解决喷射管清洗效果不佳的不足。该发明喷射管清洗过程中，S2进行超声波洗净，可以去除由于其他工序带来的2um以上颗粒污染。S3进行应力刻蚀，采用KOH溶液有效快速的去除污渍，对喷射管的腐蚀倾向小，过程中产生较大的冲击力使污垢迅速剥离，从而能够提高喷射管的清洗效果。S5喷砂过程中对喷射管的全表面进行快速喷扫处理，可以去除产品表面氢氧化钾溶液腐蚀但是没有能够完全的残余薄膜，并且该步骤不会对喷射管表面粗糙度造成较大影响。S7中使用的SC2洗净方法，能够有效的去除喷射管表面的Na、Mg、Fe等相关金属元素。喷射管清洗过程中清洗效果好，能达到理想的清洗要求。
一种喷射清洗方法

[发明专利]一种硅环的多面抛光装置及其抛光方法-CN202211498197.7在审
发明人：范明明;祝建敏;李长苏;姜永庆 -专利权人： 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请日： 2022-11-28 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： B24B29/04 文献下载
摘要：一种硅环的多面抛光装置及其抛光方法，属于工件表面抛光技术领域，包括机体；所述机体的上端面滑动设置有左右相对的两块安装板，所述安装板上设置有用于抛光硅环的抛光组件，且两块所述安装板之间设置有用于装夹硅环的夹持组件，所述夹持组件水平设置于两块所述安装板之间，且所述夹持组件的两端分别设于对应的所述安装板上；其中，所述夹持组件包括第一夹持件和第二夹持件，所述第一夹持件和所述第二夹持件均为可变径的筒状结构，且所述第一夹持件和所述第二夹持件彼此插装；本发明结构简单，其次，将传统的垂直夹持方式变更成水平装夹，实现对硅环的多面同时抛光，提高抛光效率，提升企业效益。
一种多面抛光装置及其方法

[发明专利]一种转台吸盘治具-CN202211536733.8在审
发明人：各自荣;祝建敏;马一鸣 -专利权人： 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
申请日： 2022-12-02 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： B25B11/00 文献下载
摘要：本发明涉及吸盘技术领域，具体涉及一种转台吸盘治具，包括吸盘和转接板，所述转接板中心具有用以与转台的吸气孔相连通的中心气孔，所述吸盘可拆卸安装在所述转接板上，所述吸盘顶壁上开设有环槽，所述吸盘的底壁上设有负压孔；所述转接板内部具有主通气道，所述转接板的上壁上开设有若干通气孔，所述治具还包括封堵件，所述封堵件用于可拆卸地封堵所述通气孔；组装状态下，所述负压孔与其中一个通气孔相重合连通，其余的通气孔分别通过封堵件实现封堵。在应用于不同直径的硅环需要更换治具时，本发明无需更换转接板，只需将吸盘取下进行更换即可，从而有利于节省更换时间，从而提高生产效率。
一种转台吸盘

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