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[发明专利]光刻设备和器件制造方法-CN201210082022.8有效
发明人： H·沃格;J·G·高森;B·D·帕尔惠斯;F·J·J·范鲍克斯台尔;李靖高 -专利权人： ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-03-26 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻设备和制造器件方法。在实施例中，具有图案形成装置支撑件的设备包括：具有第一流限制表面的第一平坦元件；包括面对第一流限制表面的第二流限制表面的第二平坦元件；支撑件驱动器，相对于所述第二平坦元件沿着特定方向线性地移动所述支撑件，其中所述第一和第二流限制表面具有在所述第一和第二流限制表面之间的一个或更多的突起和/或凹陷，其中在第一和/或第二流限制表面上的突起和/或凹陷布置成提供流阻，在垂直于所述流的第一和/或第二流限制表面的每一单位宽度上的所述流阻对于平行于所述特定方向的流比对于垂直于所述特定方向的流更低。流限制表面可以将气流引导到产生热量的驱动器部分上。
光刻设备器件制造方法

[发明专利]光刻设备、照射系统、投影系统以及使用光刻设备制造器件的方法-CN201110069632.X有效
发明人： J·G·高森;A·J·范德奈特;B·D·帕尔惠斯;F·J·J·范鲍克斯台尔;李靖高 -专利权人： ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司
申请日： 2011-03-16 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻设备、照射系统、投影系统以及使用光刻设备制造器件的方法。提供一种气体幕帘以将光刻设备的构件与被污染气体分开。气体幕帘通过开口供给。开口位于与构件的表面接触的保护环境的边界处。气体幕帘可以将构件与设备的移动部分分开。
光刻设备照射系统投影以及使用制造器件方法