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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]高蚀刻选择性非晶碳膜-CN202180059228.6在审
发明人： R·普拉萨德;S·博贝克;P·K·库尔施拉希萨;K·D·李;H·怀特赛尔;押尾英隆;李铜衡;D·M·拉杰米特尔;S·福克;V·R·查瓦 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-07-21 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： C23C16/505 文献下载
摘要：提供了用于在基板上沉积非晶碳膜的方法和技术。在一个示例中，方法包括在第一处理区域中的位于基座上的底层上沉积非晶碳膜。方法进一步包括在第二处理区域中将掺杂剂或惰性物种注入到非晶碳膜中。在一些组合中的注入物种、能量、剂量以及温度可用以增强硬模硬度。方法进一步包括将经掺杂的非晶碳膜图案化。方法进一步包括蚀刻底层。
蚀刻选择性非晶碳膜

[发明专利]用于处理腔室的涂层材料-CN201980051346.5在审
发明人： S·拉斯;李铜衡;A·A·哈贾;G·巴拉苏布拉马尼恩;J·C·罗查 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-07-24 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本文描述的实施例涉及用于在处理腔室中使用的具有高电阻率的涂层材料。为了抵消导热支撑件的顶表面附近的高电荷，导热支撑件的顶表面可涂覆有高电阻率层。所述层的高电阻率减少了在导热元件的顶表面处的电荷量，大大减少或防止了电弧放电事件，同时减少了静电吸附劣化。高电阻率层还可应用于其他腔室部件。本文描述的实施例还涉及用于制造用于在处理环境中使用的腔室部件的方法。所述部件可以通过以下方式来制造：形成腔室部件的主体、可选地对主体进行非原位调整、将腔室部件安装到处理腔室中、对腔室部件进行原位调整、以及在处理腔室中执行沉积工艺。
用于处理涂层材料

[发明专利]高蚀刻选择性的非晶碳膜-CN201880084977.2在审
发明人： S·博贝克;P·K·库尔施拉希萨;R·普拉萨德;K·D·李;H·怀特赛尔;押尾英隆;李铜衡;D·M·R·米特尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-11-13 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： H01L21/3205 文献下载
摘要：在本文中描述的实施方式总的来说涉及集成电路的制造。更具体地，在本文中描述的实施方式提供了用于在基板上沉积非晶碳膜的技术。在一个实施方式中，提供了一种形成非晶碳膜的方法。方法包括在第一处理区域中的位于基座上的底层上沉积非晶碳膜。方法进一步包括在第二处理区域中将掺杂剂或惰性物质植入到非晶碳膜中。掺杂剂或惰性物质选自碳、硼、氮、硅、磷、氩、氦、氖、氪、氙或其组合。方法进一步包括图案化经掺杂的非晶碳膜。方法进一步包括蚀刻底层。
蚀刻选择性非晶碳膜

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