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[发明专利]恶意攻击保护电路、片上系统及其操作方法-CN202211071277.4在审
发明人： 李铉旭 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2022-08-31 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G11C7/24 文献下载
摘要：提供一种恶意攻击保护电路、片上系统及其操作方法。所述恶意攻击保护电路包括：参考中断生成器，用于每隔参考中断周期输出参考中断信号；可变时钟管理器，用于将操作时钟信号输出到所述恶意攻击保护电路外部的逻辑电路，并且输出具有可变周期的可变时钟信号；可变中断生成器，用于基于可变时钟信号每隔可变中断周期输出中断信号；比较电路，用于将参考中断信号与中断信号进行比较，并且输出比较结果信号；以及控制器，根据比较结果信号中断输入到逻辑电路的操作时钟信号的输出。
恶意攻击保护电路系统及其操作方法

[发明专利]片上系统、安全系统和执行认证的方法-CN202211584799.4在审
发明人： 李铉旭 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2022-12-09 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： H04L9/40 文献下载
摘要：提供了一种片上系统、安全系统和执行认证的方法。片上系统包括非易失性存储器以及认证器，非易失性存储器包括密钥存储区域和密钥指针区域，认证器被配置为：响应于从外部装置接收的认证请求，通过使用密钥指针数据来识别存储位置；从非易失性存储器获得存储在存储位置中的密钥数据；并通过使用从外部装置接收的输入密钥和密钥数据的非对称密钥作为输入来执行加密算法。
系统安全执行认证方法

[发明专利]具有电荷存储层的竖直存储器装置及其制造方法-CN201610073151.9有效
发明人： 李铉旭;姜大雄;金大新;薛光洙;孙镐玟;林升炫 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2016-02-02 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： H01L27/11551 文献下载
摘要：本发明提供了一种半导体器件及其制造方法。所述半导体器件包括：堆叠件，其包括竖直地堆叠在衬底上的绝缘图案和介于绝缘图案之间的栅极图案；有源柱，其穿过堆叠件，并且电连接至衬底；以及电荷存储层，其介于堆叠件与有源柱之间。电荷存储层包括处于有源柱与各栅极图案之一之间的第一部分、处于有源柱与各绝缘图案之一之间的第二部分和将第一部分连接至第二部分并且厚度小于第一部分的厚度的第三部分。
具有电荷存储竖直存储器装置及其制造方法

[发明专利]阳极活性材料和含所述阳极活性材料的二次电池-CN201510671766.7在审
发明人： 李铉旭;尹光仪;宋永石;郑恩惠 -专利权人： OCI有限公司
申请日： 2015-10-16 - 公布日： 2016-04-27 - 主分类号： H01M4/583 文献下载
摘要：本发明公开了一种阳极活性材料和含所述阳极活性材料的二次电池，更具体地，一种含石墨碳材料的阳极活性材料，所述石墨碳材料涂覆有含金属颗粒的无定形碳材料，和含所述阳极活性材料的二次电池。
阳极活性材料二次电池

[发明专利]利用空调系统冷凝热的烘干机和具有烘干机的空调系统-CN200680046465.4有效
发明人： 李铉旭;文晶煜;安承杓;孙彰佑;韩东柱;柳秉助 -专利权人： LG电子株式会社
申请日： 2006-12-08 - 公布日： 2008-12-17 - 主分类号： D06F58/10 文献下载
摘要：本发明公开一种使用空调系统冷凝热的烘干机和具有烘干机的空调系统。烘干机(100)安装在具有冷凝器(22)和蒸发器(11)的空调上，该烘干机包括通气孔(121)和烘干箱(120)，通气孔(121)允许由冷凝器(22)产生的热量所加热的空气从中引入，烘干箱(120)用于容纳目标物。诸如衣物的目标物可利用从冷凝器产生的原本被浪费的热量容易地烘干，而不采用加热装置。
利用空调系统冷凝烘干机具有

[发明专利]干衣机-CN200680043838.2无效
发明人：文晶煜;李铉旭;安承杓;孙彰佑;韩东柱;柳秉助 -专利权人： LG电子株式会社
申请日： 2006-11-20 - 公布日： 2008-11-26 - 主分类号： D06F58/02 文献下载
摘要：一种干衣机包括机箱、安装在机箱内可旋转的滚筒和加热滚筒的加热单元。因为加热单元加热滚筒自身，所以自加热单元产生的热量传递到滚筒的外表面，并根据热传导通过滚筒内部，然后加热待干燥的目标物品——衣物，从而使全部衣物的温度均匀升高以加速待干燥目标物品的水分蒸发。
干衣机

[发明专利]表面处理系统和方法-CN02816128.9无效
发明人：曹川寿;尹东植;李铉旭;河三喆 -专利权人： LG电子株式会社
申请日： 2002-12-30 - 公布日： 2004-11-03 - 主分类号： C23C16/00 文献下载
摘要：一种表面处理系统，通过使用沉积反应在表面处理物体的表面上形成沉积层，在其中，用于在沉积室(100)中施加形成沉积反应的电能的电极(110)被安装在沉积室(100)的内壁(120)和表面处理物体(900)之间，该系统还包括被安装在面向电极(110)的沉积室(100)的内壁(120)上并且冷却其周围环境冷却单元(200)。
表面处理系统方法

[发明专利]表面处理系统及其方法-CN02816130.0无效
发明人：曹川寿;尹东植;李铉旭;河三喆;田贤佑 -专利权人： LG电子株式会社
申请日： 2002-12-28 - 公布日： 2004-11-03 - 主分类号： C23C16/00 文献下载
摘要：一种表面处理系统，包括：用于在表面处理物体(900)的表面上形成沉积层的沉积室(100)；用于通过将一表面处理物体(900)安装于其上而携带该表面处理物体的载体(910)，用于通过将电能施加到沉积室(100)中的物体上形成沉积层的供电单元，在其中，供电单元包括被安装在沉积室(100)内并且与一个外部电源(210)相连接的固定供电单元(220)；以及被安装在载体(910)上的可移动的供电单元(230)，可移动的供电单元(230)用于当其上安装有表面处理物体的载体进入沉积室时与固定供电单元可移动地电连接并且借此通过与其接触将电能施加到被安装在载体上的表面处理物体上。
表面处理系统及其方法

[发明专利]表面处理系统和方法-CN02816129.7无效
发明人：曹川寿;尹东植;李铉旭;河三喆;田贤佑 -专利权人： LG电子株式会社
申请日： 2002-12-28 - 公布日： 2004-11-03 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：一种表面处理系统，在其中，将用于一沉积反应的气体注入一沉积室中并且施加电能，以便形成在一个或多个表面处理物体上形成沉积层的沉积反应。在其中，所述的沉积室具有多个平行设置的沉积空间和一个用于将所述的表面处理物体输送到每一个沉积空间或在一沉积反应后将所述的表面处理物体从每一个沉积空间输送出来的传输单元。
表面处理系统方法

[外观设计]咖啡杯-CN03354432.8无效
发明人： 李铉旭 -专利权人：万朝乳品实业有限公司
申请日： 2003-06-25 - 公布日： 2004-07-07 - 主分类号： 07-01 文献下载
摘要：后视图、左视图、右视图与主视图对称，故省略后视图、左视图、右视图。
咖啡杯

[发明专利]等离子体蒸镀设备防止凝缩装置-CN02125790.6无效
发明人： 李铉旭;郑永万;尹东植 -专利权人：乐金电子(天津)电器有限公司
申请日： 2002-08-19 - 公布日： 2004-02-18 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明是等离子体蒸镀设备防止凝缩装置。本发明涉及的是等离子体蒸镀装备方面的发明。本发明的结构包括有等离子体蒸镀工作间、驱动材料移动的卷绕机、与冷却套管连接的冷却机、装有液态耐腐蚀原料储藏容器、气体注入管，经热交换后的工作间冷却套管连接一个加热器，加热器与包围在气体注入管外周的外侧管连接。其优点是：由于在气体注入管外周包着高温的外侧管，可对气体注入管进行加热，所以能够防止通过气体注入管向工作间内部输送的六甲基二硅氧烷HMDSO凝缩。经热交换后工作间冷却套管的温水进入加热器加热，使水加热的时间短，节省能源，降低成本，蒸镀厚度的均匀性得到了保证。
等离子体设备防止凝缩装置

[发明专利]带有磁铁的等离子体的连续蒸镀装置-CN02129143.8无效
发明人：吴定根;曹川寿;李铉旭 -专利权人：乐金电子(天津)电器有限公司
申请日： 2002-08-19 - 公布日： 2004-02-11 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：本发明公开了一种带有磁铁的等离子体的连续蒸镀装置，包括工艺间、上部电极、下部电机、开卷机、卷绕机和N/S极磁铁。上部电极作为负极设置在工艺间的内部上侧；下部电极也作为负极，与上部电极保持一定间距设置在工艺间的下侧；开卷机设置在工艺间的一侧，开卷机上卷绕有带状材料，带状材料用于向上部电极和下部电极之间进行供应；卷绕机设置在工艺间的另外一侧，卷绕机用于卷绕经过上部电极和下部电极之间进行等离子体蒸镀之后的材料；N/S极磁铁交替设置在上部电极和下部电极的后面，利用产生的磁场提高反应气体的离子化率。增加了电子与反应气体之间的冲撞概率，提高了蒸镀效率。
带有磁铁等离子体连续装置

[发明专利]等离子体连续镀膜装备的防止气体堵塞装置-CN02129164.0无效
发明人：曺川寿;尹东植;李铉旭 -专利权人：乐金电子(天津)电器有限公司
申请日： 2002-08-19 - 公布日： 2004-02-11 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：本发明是提供一种等离子体连续镀膜装备的防止气体堵塞装置，其主要结构包括有镀膜工作间、工作间的入口侧设置有四角框形状的气体喷射管，沿着带有喷射孔气体喷射管的一侧固定设置有保护盖；保护盖的端面呈半圆形。本发明的效果是通过在四角框形状的气体喷射管一侧固定设置保护盖，在上部电极和下部电极之间产生等离子体的区域内，保护盖阻断了蒸镀物质向气体喷射管接近，防止了蒸镀物质蒸镀在气体喷射管上的喷射孔上，于是即使连续进行蒸镀作业，也能够从气体喷射管均匀喷射出气体，能够确保均匀的蒸镀。
等离子体连续镀膜装备防止气体堵塞装置

[发明专利]利用等离子技术的高分子中和膜制造设备及其制造方法-CN02125773.6无效
发明人：曺川寿;李铉旭;郑永万 -专利权人：乐金电子(天津)电器有限公司
申请日： 2002-08-19 - 公布日： 2004-02-11 - 主分类号： C23C16/503 文献下载
摘要：本发明公开了一种利用等离子技术的高分子中和膜的制造设备，在工程容器内部上、下部放电电极的外侧，设置了上、下部对应电极，其上、下部对应电极连接在直流电源的正极。在一个优选方式中，以工程容器内部的铝板为中心，上、下部放电电极保持40毫米间隙。在另一个优选方式中，上、下部放电电极和上、下部对应电极之间间隙应维持到70至130毫米。本发明也公开了利用等离子技术的高分子中和膜的方法，工程容器内安置阳极铝板，铝板的上、下部安置了阴极上、下部放电电极和阳极上、下部对应电极，工程容器内部压力维持真空状态后注入碳氢化气体，阳极和阴极之间相加0.5至2A的直流电使碳氢化气体电离，在铝板的表面形成具有亲水性高分子中和膜。
利用等离子技术高分子中和制造设备及其方法

[发明专利]用紫外线分光计测定等离子体聚合的聚合物层的装置-CN01800178.5无效
发明人：姜成熙;李铉旭 -专利权人： LG电子株式会社
申请日： 2001-02-06 - 公布日： 2002-08-07 - 主分类号： H01J37/00 文献下载
摘要：一种用紫外线分光计测定等离子体聚合的聚合物层的装置,包括聚合室,用于通过发射等离子体在基底表面上形成聚合的聚合物层;紫外线探测器,不接触地安装在聚合室中形成的聚合的聚合物层,用于向聚合物层传播和从聚合物层接收紫外线;和紫外线分光计,用于分析紫外线探测器输入的信号。用此装置,具有由等离子体连续聚合的聚合物层的基底的表面的特性能够不接触地测定,并且能够在不影响室内的真空度等处理参数的情况下进行。
紫外线分光计测定等离子体聚合聚合物装置

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