专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]SQUID器件电磁参数测试方法、装置和计算机设备-CN202010844399.7有效
  • 蔡裕谦;王雪深;钟青;李劲劲;姜开利 - 中国计量科学研究院;清华大学
  • 2020-08-20 - 2023-09-05 - G01R33/035
  • 本申请涉及一种SQUID器件电磁参数测试方法、装置、计算机设备和存储介质。所述方法包括:获取电磁参数测试的配置信息,根据第一电磁参数的配置信息确定第一电磁参数的各个观测值;采集在第一电磁参数的各个观测值下对应的第二电磁参数的检测值;根据第一电磁参数的各个观测值及对应的第二电磁参数的检测值,确定所述第二电磁参数与第一电磁参数的变化关系,或者,根据第二电磁参数的检测值确定对应的第三电磁的检测值,根据第一电磁参数的各个观测值及对应的第三电磁参数的检测值,确定第三电磁参数与第一电磁参数的变化关系。通过本测试方法可以对SQUID器件进行温度控制、磁场调节,可以准确的监测到SQUID在低温超导态的周期震荡现象,且准确。
  • squid器件电磁参数测试方法装置计算机设备
  • [发明专利]SQUID电流传感器以及制备方法-CN202011631500.7有效
  • 高鹤;李劲劲;王仕建;刘聪展;李正伟 - 中国计量科学研究院
  • 2020-12-31 - 2023-08-25 - G01R15/20
  • 本申请涉及一种SQUID电流传感器以及制备方法。SQUID电流传感器包括第一底电极结构、第二底电极结构、第三底电极结构、第四底电极结构、输入线圈、反馈线圈。第一底电极结构包括第一线圈与第二线圈,且连接。第二底电极结构与第一底电极结构并联连接。第二底电极结构包括第三线圈与第四线圈,且连接。第三底电极结构与第二底电极结构并联连接。第三底电极结构包括第五线圈与第六线圈。第五线圈与第六线圈连接。第四底电极结构与第三底电极结构并联连接。第四底电极结构包括第七线圈与第八线圈。第七线圈与第八线圈连接。输入线圈靠近第一线圈、第三线圈、第五线圈、第七线圈设置。反馈线圈靠近第二线圈、第四线圈、第六线圈、第八线圈设置。
  • squid电流传感器以及制备方法
  • [发明专利]二阶梯度交叉耦合型SQUID电流传感器以及制备方法-CN202011033999.1有效
  • 徐达;李劲劲;钟青;王雪深 - 中国计量科学研究院
  • 2020-09-27 - 2023-08-08 - H10N60/80
  • 本申请涉及一种二阶梯度交叉耦合型SQUID电流传感器以及制备方法。多个环路电极(SQUID环路的一部分)依次包围间隔设置。多个第一连接结构将多个环路电极并联连接。多个输入环路与多个环路电极依次间隔设置,形成由中心点依次向外间隔设置的结构。多个输入环路串联连接,形成输入线圈。输入线圈与环路电极之间的相互交叉结构,使得SQUID环路与输入线圈形成交叉耦合结构,可以减小寄生电容。并且,通过第一电极结构、第二电极结构、第三电极结构、第四电极结构、第一约瑟夫森结结构、第二约瑟夫森结结构形成的二阶梯度并联电感结构的SQUID环路,可有效抵消外界磁场干扰。
  • 阶梯交叉耦合squid电流传感器以及制备方法
  • [发明专利]一种基于超导量子干涉器的平面梯度计及其制备方法-CN202310174340.5在审
  • 徐达;李劲劲;钟青;王雪深 - 中国计量科学研究院
  • 2023-02-24 - 2023-06-13 - G01R33/022
  • 一种基于超导量子干涉器的平面梯度计及其制备方法,平面梯度计包括拾取线圈、SQUID超导环路、输入线圈以及反馈线圈;拾取线圈用于拾取微弱梯度磁场信号,拾取线圈与输入线圈相连;SQUID超导环路由若干环路单元组成;输入线圈用于向SQUID超导环路输入微弱梯度磁场信号,输入线圈设置于SQUID超导环路的表面,且输入线圈与SQUID超导环路绝缘设置;反馈线圈用于磁通锁定,反馈线圈设置于SQUID超导环路的表面,且反馈线圈与SQUID超导环路绝缘设置。本发明比绕轴梯度计具有更好的平衡水平,其输入线圈与超导环路采用重叠耦合方式,输入线圈具有更多匝数,也就具有更高的耦合系数,输入线圈与拾取线圈无损耗连接、电感相匹配,具有更好的磁通转换效率。
  • 一种基于超导量子干涉平面梯度及其制备方法
  • [发明专利]一种晶圆级阳极氧化系统及方法-CN202310091852.5在审
  • 王雪深;李劲劲;陈建;王振宇;李万;王仕建 - 合肥国家实验室;中国计量科学研究院
  • 2023-01-17 - 2023-05-26 - C25D11/32
  • 本申请提供一种晶圆级阳极氧化系统及方法,氧化系统包括控制模块、数字源表、阳极、阴极和电解槽,阳极为位于晶圆上的金属;控制模块与数字源表的第一端相连,用于控制数字源表输出电流;数字源表的第二端和第三端分别连接阳极和阴极,用于向阳极和阴极输入电流,以在阳极和阴极之间形成电场,对阳极金属氧化,数字源表用于测量阳极和阴极之间的电压,电压与阳极氧化形成的氧化膜的厚度基本成线性关系;电解槽中盛有电解液,阳极和阴极位于电解液中。观察阳极和阴极之间的电压变化可以确定阳极氧化膜的厚度,通过控制模块可以随时暂停或开启阳极氧化,实现可控厚度的晶圆级金属阳极氧化,具有稳定性。
  • 一种晶圆级阳极氧化系统方法
  • [发明专利]一种绝缘层平坦化方法-CN202310117462.0在审
  • 钟源;梁聪聪;李劲劲;钟青;曹文会;王雪深 - 中国计量科学研究院
  • 2023-02-15 - 2023-04-04 - H01L21/3105
  • 本申请涉及一种绝缘层平坦化方法,使用光刻胶做为牺牲层来实现局部平坦化,结合简单并且精确的激光反射强度曲线随刻蚀过程的变化曲线来判断刻蚀终止点,即判断刻蚀到下层Nb膜时停止刻蚀。本方法中只要保证光刻胶的厚度和刻蚀选择比,可以实现效果良好的局部平坦化。这个方法工艺简单,大大减少了工艺步骤,与未进行平坦化的工艺相比,实现了局部平坦化,消除了上层Nb膜的晶界裂纹问题,并且直接刻蚀到下电极处,可直接跳过过孔的光刻和刻蚀步骤,减少了工艺流程。相比化学机械抛光的全局平坦化的工艺,减少了两次光刻和化学机械抛光步骤,大大提高了工艺的效率,也减少了化学机械抛光引入的抛光液污染。
  • 一种绝缘平坦方法
  • [发明专利]抛光液注入装置及抛光系统-CN202111413355.X有效
  • 赵欣;李劲劲;曹文会;钟源 - 中国计量科学研究院
  • 2021-11-25 - 2022-12-02 - B24B57/02
  • 本发明涉及一种抛光液注入装置及抛光系统。该抛光液注入装置包括固定机构及注入机构;固定机构用于将注入机构固定于抛光装置的抛光面上且不随抛光面一同转动;注入机构沿抛光面的转动方向依次包括刮水部、喷水部及布水部,喷水部用于喷出抛光液,布水部用于将喷水部喷出的抛光液均匀分布在抛光面上,刮水部用于刮除抛光面上经抛光产生的废液。该抛光液注入装置既可以保证材料去除率的均匀性,也可以避免抛光液的浪费。
  • 抛光注入装置系统

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