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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]在存储器设备中利用p阱偏置来减少读取时间-CN202180006736.8在审
发明人： A·N·扎努丁;权大元;袁家辉 -专利权人：桑迪士克科技有限责任公司
申请日： 2021-05-21 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： G11C16/26 文献下载
摘要：本发明描述了用于减少存储器设备中的读取时间的装置和技术。控制NAND串的基板的源极区源极电压信号Vcelsrc和p阱本体电压信号Vp‑well以减小沟道电阻。在读取操作期间，Vcelsrc可暂时减小，例如，具有负电压反冲，而Vp‑well不减小。该负电压反冲使该NAND串在其沟道中的本体偏置减小，从而减小该沟道电阻并且增大电流。当将位线钳位晶体管制造成导电的以允许电流在该NAND串中流动时，可启动该负电压反冲。该负电压反冲的量值和持续时间可基于各种因素来调整。
存储器设备利用偏置减少读取时间

[发明专利]非易失性存储器的位线升压-CN201980081403.4在审
发明人：杨翔;权大元 -专利权人：桑迪士克科技有限责任公司
申请日： 2019-12-19 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G11C16/24 文献下载
摘要：本发明描述了一种方法和结构，该方法和结构用于在非易失性存储器中的编程操作期间进行位线升压。以恒定电流在第一预充电时间段内驱动禁止位线。将编程位线升压延迟第二预充电时间段，同时继续驱动禁止位线以考虑禁止位线上的电阻电容(RC)延迟。此后，在第二时间段结束时将编程位线升压到编程电压电平。对位线的远离位线的驱动端的远端处的信号电平进行感测，以确定禁止位线何时达到电平(例如，VDDSA)或电流限制被关断的电平。此后，可执行位线升压。
非易失性存储器升压

[发明专利]化学气相沉积反应器中辐射测量偏离误差的缩减-CN201710251847.0有效
发明人：古瑞·塔斯;周进;权大元 -专利权人：维易科仪器有限公司
申请日： 2013-06-21 - 公布日： 2020-06-05 - 主分类号： C23C16/48 文献下载
摘要：公开了化学气相沉积反应器中辐射测量偏离误差的缩减，涉及高温计系统以推断空间温度分布，其包含：复数个辐射测温计，观察对应复数相邻焦外目标物，各辐射测温计包含远心光学装置，其包含由一或多个光学元件构成的限定相对于物组件内参考点的焦距的物组件以传输辐射；孔径光闸，接收由物组件传输的辐射，物组件及孔径光闸限定通过参考点的光学轴，孔径光闸位于与参考点相隔一段基本等于物组件焦距的距离，以将来自对应复数相邻焦外目标物中的各自目标物的辐射中的被探测部分聚焦于孔径光闸；及电磁辐射探测器，探测由物组件通过孔径光闸传输辐射之被探测部分，产生由其推断对应复数相邻焦外目标物中的各自目标物温度的信号。
化学沉积反应器辐射测量偏离误差缩减

[发明专利]在化学气相沉积系统中对于外延生长结构的厚度均匀性控制-CN201780079025.7在审
发明人：桑迪普·克里希南;迈克尔·昌斯基;权大元;厄尔·马塞洛 -专利权人：威科仪器有限公司
申请日： 2017-11-20 - 公布日： 2019-08-02 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本文中描述用于改进晶片上的外延生长膜或层的总体厚度控制及径向厚度轮廓的系统及方法。在若干实施例中，使用对径向内部区域及径向外部区域处的厚度的连续原位测量来控制对应前体及/或稀释气体流率。可使用白光反射测量术通过反应器外壳中的视口来进行此类测量。
化学气相沉积系统径向内部区域径向外部区域外延生长结构反应器外壳厚度均匀性外延生长膜白光反射厚度控制厚度轮廓稀释气体原位测量测量术晶片流率前体视口测量改进

[发明专利]化学气相沉积反应器中辐射测量偏离误差的缩减-CN201380033049.0有效
发明人：古瑞·塔斯;周进;权大元 -专利权人：维易科仪器有限公司
申请日： 2013-06-21 - 公布日： 2017-05-17 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：用以减少在例如CVD反应器之类的容器中的辐射测温偏离误差的设备。在一实施例中，辐射测温计利用焦外远心透镜装置。焦外远心透镜装置聚焦于无限远处，但却被用于捕获来自于焦点外之相对接近之目标物(例如在数米内)之辐射。捕获来自目标物之准直的辐射减少了杂散辐射之贡献。在另一实施例中，源自于周围加热组件之指定部分之散射辐射，可藉由若干机制中的一个而局部地减少，包含减少指定部分之发射(例如操作温度)、或者捕获源自于该指定部分之辐射之一部分或使其偏斜。固定于接近由晶圆载具之中心延伸之轴线并横跨该指定部分的辐射测温计承受较少的杂散辐射，藉此可提供更可靠之温度读数。
化学沉积反应器辐射测量偏离误差缩减

[实用新型]制氧机中气压平衡用传感器-CN89216715.7无效
发明人：丁力;权大元;于世钧;周昆;张亚新;金学洙;郑永河 -专利权人：金学洙;丁力
申请日： 1989-09-18 - 公布日： 1990-11-21 - 主分类号： C25B1/04 文献下载
摘要：一种制备非金属元素用的机械附件，特别是制氧机中气压平衡用传感器，该传感器是由两个分别与电解槽中的氧气室和氢气室相连通并可各自随气体压力变化而伸缩的风箱，在风箱连杆上装有缺口为楔形的挡片，挡片两边设有光源和光电管，从而将两种气体之压强差转化为电信号，控制氧气泵之运转速率，使电解槽中两个气室的气体压力相接近，导致电解槽液面差控制在一定范围内，实现安全生产。
制氧机中气压平衡传感器

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