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[发明专利]一种掩模版相位型缺陷识别方法、装置、设备及介质-CN202210356724.4在审
发明人：马赫;吴晓斌;韩晓泉;季艺雯;谭芳蕊;王魁波;沙鹏飞;李慧;罗艳;谢婉露;马翔宇;孙家政;户权 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-04-06 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本公开涉及一种掩模版相位型缺陷识别方法、装置、设备及介质，所述方法包括：采集掩模版相位型缺陷的光场反射幅值分布，将所述光场反射幅值分布转换为掩模缺陷的空间像样本数据；将所述空间像样本数据按照预设比例分为空间像样本数据训练集、空间像样本数据测试集；对所述空间像样本数据训练集进行缺陷类型标定；对所述缺陷类型标定的结果和所述空间像样本数据训练集的对应关系进行训练，以搭建缺陷识别模型；将所述空间像样本数据测试集输入所述缺陷识别模型得到缺陷识别结果。
一种模版相位缺陷识别方法装置设备介质

[发明专利]掩模缺陷检测系统-CN202310208697.0在审
发明人：沙鹏飞;吴晓斌;王魁波;谢婉露;户权;韩晓泉;李慧;罗艳;马赫;谭芳蕊;尹皓玉 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2023-03-06 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模缺陷检测系统，包括：光源，所述光源用于发射入射光场；聚焦组件，所述聚焦组件用于所述入射光场聚焦；掩膜，所述掩膜的检测面位于所述入射光场的焦点上，所述检测面设有缺陷，所述入射光场经所述检测面反射并形成反射光场，所述入射光场经所述缺陷反射并形成散射光场；明场成像波带片、暗场成像波带片，所述明场成像波带片和所述暗场成像波带片中的其中一者设于所述反射光场和所述散射光场的照射路径上，以用于使所述反射光场和所述散射光场照射于所述明场成像波带片和所述暗场成像波带片中的其中一者。根据本发明提供的掩模缺陷检测系统，很好地解决了现有掩模缺陷检测系统无法兼顾快速扫描和精确扫描的问题。
缺陷检测系统

[发明专利]滤光结构及其制造方法、成像系统及成像方法-CN202211260982.9在审
发明人：户权;吴晓斌;沙鹏飞;谢婉露;韩晓泉;王魁波;罗艳;李慧;马赫;谭芳蕊 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种滤光结构及其制造方法、成像系统及成像方法。该滤光结构包括由下而上依次层叠的锆膜、中间层膜和铝膜；所述中间层膜包括钼膜、铌膜或氮化锆膜。该滤光结构的制造方法包括：提供第一预设厚度的锆膜；在所述锆膜上镀上第二预设厚度的中间层膜，所述中间层膜包括钼膜、铌膜或氮化锆膜；在所述中间层膜上镀上第三预设厚度的铝膜，得到滤光结构。本申请实施例提供的滤光结构包括由下而上依次层叠的锆膜、中间层膜和铝膜，能够在很大程度上滤除杂散光，大大消除了杂散光的影响，从而提高了极紫外成像的成像质量，解决了相关技术中存在的对于杂散光的滤除效果不佳，受到杂散光的影响较大，导致极紫外成像系统的成像质量不高的技术问题。
滤光结构及其制造方法成像系统

[发明专利]极紫外光用的闪烁体组件及应用、间接探测器系统-CN202210438753.5在审
发明人：户权;吴晓斌;沙鹏飞;马翔宇;谢婉露;韩晓泉;王魁波;罗艳;李慧 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-04-25 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G01T1/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种极紫外光用的闪烁体组件及应用、间接探测器系统，属于光学技术领域，以解决现有技术中闪烁体的覆盖层对极紫外光吸收较高而降低了极紫外光的转换效率的问题。发明的一种极紫外光用闪烁体组件，包括闪烁体和覆盖层；其中，覆盖层，设置在所述闪烁体入光一侧表面，所述覆盖层在可见光下的反射率大于或等于20％，在极紫外光照射下所述覆盖层的衰减深度大于或等于40nm。本发明将覆盖层对可见光的反射率大于20％。而对极紫外光照射下的衰减深度大于40nm，相比Al作为覆盖层可降低对极紫外光的吸收，进一步提高了闪烁体组件的转换效率。
紫外光闪烁组件应用间接探测器系统