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[发明专利]一种光束整形模组、方法及装置-CN202311188945.6在审
发明人：张满强;黄永忠;王晓峰;潘岭峰;何刘;陈永智 -专利权人： 成都莱普科技股份有限公司
申请日： 2023-09-15 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种光束整形模组、方法及装置，涉及光学技术领域，模组包括顺序设置的鲍威尔棱镜、平凸球面透镜和若干个平凸柱面透镜；鲍威尔棱镜用于接收单模高斯光束并将其整形为扇形发散的X轴方向为线性分布的第一光斑；其中，单模高斯光束的光斑尺寸范围为0.65‑0.75mm；平凸球面透镜用于固定第一光斑的Y轴方向宽度至目标宽度范围内并压缩第一光斑的X轴方向长度以得到第二光斑；若干个平凸柱面透镜用于将第二光斑的X轴方向长度压缩至目标长度范围内以得到目标线性平顶光束。解决了现有技术中激光生成的线斑存在顶部能量分布均匀性不佳等缺点，很难满足激光退火高均匀性和高稳定性的要求的问题。
一种光束整形模组方法装置

[实用新型]一种多光路合束装置-CN202320087985.0有效
发明人：陈永智;黄永忠;何刘 -专利权人： 成都莱普科技股份有限公司
申请日： 2023-01-30 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G02B27/10 文献下载
摘要：本申请提供一种多光路合束装置，包括机架以及均安装于机架上的用于传播第一光束的第一光路传播结构、用于传播第二光束的第二光路传播结构、反射镜以及合束镜，反射镜设于第一光路传播结构的传播路径上，用于将第一光束反射至合束镜上；合束镜设于第二光路传播结构的传播路径上，用于使第一光束和第二光束合束后传播。该合束装置在处理晶圆前就实现了绿光和红光的合束，集成化高，结构紧凑，体积小，仅需利用合束光射向产品进行相应工艺处理，便于操作。
一种多光路合束装

[实用新型]一种挡光环的夹具-CN202320087986.5有效
发明人：陈永智;黄永忠;何刘 -专利权人： 成都莱普科技股份有限公司
申请日： 2023-01-30 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种挡光环的夹具，涉及晶圆生产辅助器具技术领域，包括支撑框架、晶圆吸附固定组件、托环、挡光环支座、俯仰调节装置、安装支架和挡料组件，晶圆吸附固定组件包含有安装盘、连接套和吸盘，晶圆吸附固定组件中的吸盘对晶圆进行吸附，挡料组件对晶圆的外周侧进行限位，俯仰调节装置可以同步带动吸盘、晶圆、托环和挡光环在俯仰方向上微调，托环上通过非金属软固定的方式安装有挡光环，托环上固定的挡光环实现挡光；该挡光环的夹具，采用新的挡光环固定方式，在满足了挡光环与晶圆对中的需求上可以实现俯仰方向上的微调，可以满足客户对晶圆去边退火尺寸上的要求。
一种光环夹具

[发明专利]二氧化碳激光的光束整形设备以及光束整形方法-CN202310468102.5有效
发明人：张满强;黄永忠;王晓峰;潘岭峰;何刘;付志良;陈永智 -专利权人： 成都莱普科技股份有限公司
申请日： 2023-04-27 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：本申请公开了一种二氧化碳激光的光束整形设备以及光束整形方法，属于光学技术领域。该光束整形设备包括沿激光光束的入射方向依次设置的第一镜组、偏振调节系统、第二镜组、积分镜、AOI模组和短轴聚焦模组；其中，第一镜组包括对称设置的凹面形离轴抛物镜和凸面形离轴抛物镜；偏振调节系统包括沿激光光束的入射方向设置的半波片和薄膜偏振器；第二镜组包括对称设置的凸面形柱面镜和凹面形柱面镜。通过该光束整形设备以及方法将高斯分布的二氧化碳激光光束整形为线形平顶光束，线性光斑均匀性提升，同时对激光功率利用率可提高至80%以上，从而降低能耗及维护成本，并提高装备稳定性及可靠性。
二氧化碳激光光束整形设备以及方法

[发明专利]一种半导体器件退火工艺效果的测试方法-CN202210844559.7有效
发明人：黄永忠;何刘 -专利权人： 成都莱普科技股份有限公司
申请日： 2022-07-18 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种半导体器件退火工艺效果的测试方法，属于半导体器件欧姆接触退火技术领域。该方法包括：在裸晶圆的正面设置一层金属薄膜；将覆盖有金属薄膜的晶圆沿水平和竖直方向裂片，得到侧面均无金属薄膜覆盖的实验片；对实验片进行退火处理，观察实验片的金属表面形貌和颜色变化；测试实验片的正面和背面的电流电压特性，根据电流电压特性，确定能够形成欧姆接触所需的退火工艺窗口。该方法不需要使用任何图形化手段，也不需要其它工艺诸如离子注入激活等的配合。该测试方法，无需使用任何光刻、刻蚀、金属加厚等工艺，相比于传统解决欧姆接触表征的测试流程，能够快速、准确的确定半导体器件退火工艺效果。
一种半导体器件退火工艺效果测试方法

[实用新型]气浮平台式晶圆加热装置-CN202320211440.6有效
发明人：陈永智;潘冬;王德友;付志良 -专利权人： 成都莱普科技股份有限公司
申请日： 2023-02-14 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请提供一种气浮平台式晶圆加热装置，涉及半导体加工制备领域，包括气浮式移动平台和加热机构。加热机构包括基座、定位加热盘和顶升组件，定位加热盘和顶升组件均与基座连接，基座安装于气浮式移动平台上。气浮式移动平台用于带动加热机构在相互垂直的第一方向和第二方向上移动。顶升组件用于带动位于定位加热盘上的晶圆升降。该加热装置结构简单合理，不仅能够实现晶圆的定位和加热，还能够带动晶圆在设定方向上高精度运动，使用灵活便捷。
平台式晶圆加热装置

[实用新型]一种晶圆激光处理用加工装置-CN202320162929.9有效
发明人：陈永智;黄永忠;何刘 -专利权人： 成都莱普科技股份有限公司
申请日： 2023-01-30 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： B23K26/00 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种晶圆激光处理用加工装置，属于晶圆加工技术领域。加工装置包括舱体和吸盘，舱体内部具有密闭的腔室，舱体的顶部设置有供激光穿过的通孔，通孔处盖设有保护镜片；吸盘设置于腔室内并位于通孔的正下方，吸盘用于供晶圆放置并对晶圆吸附定位；其中，腔室内还设置有第一氮气吹扫通道和排气通道，第一氮气吹扫通道用于向腔室内吹出氮气，以使腔室内的氧浓度值在预设范围，排气通道用于排出腔室内气体。这种晶圆激光处理用加工装置能够改善晶圆的加工质量。
一种激光处理加工装置

[实用新型]一种晶圆加热冷却装置-CN202320201828.8有效
发明人：陈永智;黄永忠;何刘;付志良 -专利权人： 成都莱普科技股份有限公司
申请日： 2023-02-07 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆加热冷却装置，包括分离装置、加热装置和冷却装置，分离装置包括箱体和架体，所述箱体内部中空，所述箱体设置有第一工位，所述架体设置有第二工位，所述架体和所述箱体滑动连接，以使所述第二工位能滑入所述箱体的内部，或滑出所述箱体的外部；加热装置用于对晶圆加热；冷却装置用于对晶圆冷却；其中，所述加热装置和所述冷却装置中的其中一个固定安装于所述第一工位中，另一个固定安装于所述第二工位中。利用可以位置变换的分离装置，使得维修的过程中能使加热装置和冷却装置之间位置错开，方便维护。
一种加热冷却装置

[实用新型]一种晶圆吸附装置和晶圆加工设备-CN202223466302.7有效
发明人：陈永智;张满强;黄永忠;何刘;艾义明;颜元;黎瑶敏 -专利权人： 成都莱普科技股份有限公司;长江存储科技有限责任公司
申请日： 2022-12-23 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本申请涉及晶圆加工领域，涉及一种晶圆吸附装置和晶圆加工设备。晶圆吸附装置包括：基体；真空吸附盘，真空吸附盘与基体连接；水冷组件，水冷组件包括依次连接的进水口、冷却管和出水口；进水口和出水口均与基体连接，冷却管位于真空吸附盘内。与被真空吸附盘吸附的晶圆进行热交换，使晶圆被冷却后从出水口流出。如此，冷却水可以对晶圆快速降温，避免晶圆长时间处于高温状态，有效降低晶圆的次品率。
一种吸附装置加工设备

[实用新型]用于激光退火的挡光装置以及激光退火设备-CN202223527516.0有效
发明人：付志良;黄永忠;何刘;王德友;张满强;潘冬;陈永智;潘真杰;刘勇 -专利权人： 成都莱普科技股份有限公司
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型的实施例提供了一种用于激光退火的挡光装置以及激光退火设备，涉及激光退火领域。该挡光装置包括：挡光板，所述挡光板包括通孔；其中，所述通孔的孔壁包括褶皱段，所述褶皱段包括多个连续相邻且凸出的凸起结构，所述凸起结构用于在激光照射所述通孔的边缘并生成衍射光时反射所述衍射光。该挡光装置在激光以非垂直入射角度对晶圆进行热处理时，能够使得晶圆边缘受热更加均匀，从而提升挡光效果以及提高晶圆的性能。
用于激光退火装置以及设备

[实用新型]一种激光用光闸结构-CN202223468618.X有效
发明人：陈永智;张满强;黄永忠;何刘;艾义明;颜元;黎瑶敏 -专利权人： 成都莱普科技股份有限公司;长江存储科技有限责任公司
申请日： 2022-12-23 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： H01S3/02 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种激光用光闸结构，属于激光光斑技术领域。激光用光闸结构包括光闸盒、吸收光井和光闸片，光闸盒具有沿直线分布的进光口和出光口，进光口用于供激光器发出的激光进入于光闸盒内，进光口和出光口之间形成供激光通过的光路；吸收光井设于光闸盒的一侧，光闸片可移动地设置于光闸盒内，光闸片在光闸盒内具有避让状态和阻挡状态，当光闸片处于避让状态时，光路处于连通状态以供激光穿过光闸盒并从出光口射出；当光闸片处于阻挡状态时，光路被光闸片切断，且激光被光闸片反射后进入于吸收光井内，以将激光吸收。这种激光用光闸结构能够快速关断激光，提高激光器的使用寿命。
一种激光用光结构

[发明专利]一种用于晶圆激光退火的挡光环及其制备方法-CN202310127876.1有效
发明人：陈永智;张满强;黄永忠;何刘;艾义明;颜元;黎瑶敏 -专利权人： 成都莱普科技股份有限公司;长江存储科技有限责任公司
申请日： 2023-02-17 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请公开了一种用于晶圆激光退火的挡光环及其制备方法，属于半导体晶圆技术领域，该制备方法包括：对石英玻璃的上表面进行抛光处理后，采用激光隐形切割方式对石英玻璃进行切割，得到挡光环粗品；对挡光环粗品的下表面进行表面磨制，再对挡光环粗品的内环断面进行磨制，以及对挡光环粗品进行超声波清洗以及激光预处理，得到挡光环。这种挡光环的上表面为抛光面，对0.2~0.9μm波长的激光能量几乎无能量吸收，因此具有极强的抗激光损伤能力，也不易产生颗粒。同时，这种挡光环的下表面经磨砂处理后，聚焦的锥形光束在磨砂面上从内向外散射，形成较大的散射斑，大幅降低辐射至晶圆边缘上的激光能量密度，从而达到很好的挡光效果。
一种用于激光退火光环及其制备方法

[实用新型]一种双轨道标签制作机构置-CN202223038425.0有效
发明人：何刘;徐云;徐万宇 -专利权人： 成都莱普科技股份有限公司
申请日： 2022-11-14 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： B23K26/362 文献下载
摘要：本实用新型涉及机械结构技术领域，涉及一种双轨道标签制作机构置。该双轨道标签制作机构置包括操作台、上料模块、第一输送轨道、第二输送轨道、标签制作模块以及下料模块；集成一个包含上料、制标、下料以及运送多个工艺组件的结构，可以对物料进行制备标识。该双轨道标签制作机构置可自动化上下料，整个结构简单，方便，灵活，为快速打标提供了保障。
一种双轨标签制作机构

[实用新型]一种氮气吹扫装置及晶圆激光处理系统-CN202222871768.9有效
发明人：陈永智;潘冬 -专利权人： 成都莱普科技股份有限公司
申请日： 2022-10-28 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： B23K26/00 文献下载
摘要：本申请实施例提拱了一种氮气吹扫装置及晶圆激光处理系统，属于晶圆加工技术领域。氮气吹扫装置装配于激光处理系统上，以用于对晶圆进行吹扫，氮气吹扫装置包括基座、第一吹扫通道和回收通道，基座具有沿其厚度方向的第一表面和第二表面，第二表面相较于第一表面更靠近于晶圆，基座开设有贯穿第一表面和第二表面的通孔，通孔用于供激光处理系统发出的激光穿过；第一吹扫通道的第一进气口连接有第一吹气装置，以用于向第一吹扫通道提供氮气；回收通道用于将吹出后的气流回收并向外排出，其中，通孔在第一表面处盖设有保护镜片，第一吹扫通道的出气口与通孔相通，以通过通孔向晶圆进行氮气吹扫。这种结构的氮气吹扫装置能够改善晶圆的加工质量。
一种氮气装置激光处理系统

[实用新型]一种双光路激光发射装置和激光切割设备-CN202222597607.5有效
发明人：陈永智;张满强;王德友;潘冬;赵磊 -专利权人： 成都莱普科技股份有限公司
申请日： 2023-02-08 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： B23K26/067 文献下载
摘要：本申请实施例涉及光学设备领域，尤其涉及一种双光路激光发射装置和激光切割设备。双光路激光发射装置包括：激光头、第一扩束镜、分光元件，用于将主激光束分光为第一激光束和第二激光束；第一光路组件，第一光路组件包括沿第一激光束传播方向分布的第一全反镜、第一振镜和第一聚焦镜；以及第二光路组件，第二光路组件包括沿第二激光束传播方向分布的第二全反镜、第二振镜和第二聚焦镜。激光头出射的主激光束通过分光元件分光后，分为两束激光束，由此，双光路激光发射装置发出的激光束可以照射至不同区域，使用双光路激光发射装置进行加工的过程中，可以提高加工效率。
一种双光路激光发射装置切割设备

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