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[发明专利]高频传输微结构的平坦化方法、装置及电子设备-CN202210811005.7有效
发明人：孙庆灵;杨云春;陆原;张拴;范建国 -专利权人：赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司
申请日： 2022-07-11 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种高频传输微结构的平坦化方法、装置及电子设备，其中的方法包括：获得所述铜层的需求去除量和所述光刻胶层与所述铜层之间的高度差；根据所述需求去除量和所述高度差，确定所述光刻胶层与所述铜层的研磨速率比；根据所述研磨速率比、第一对应关系和第二对应关系，确定研磨盘的目标转速；所述第一对应关系为使用铜研磨液进行化学机械抛光时，铜的研磨速率与研磨盘转速的映射关系；所述第二对应关系为使用铜研磨液进行化学机械抛光时，光刻胶的研磨速率与研磨盘转速的映射关系；根据所述目标转速，采用化学机械抛光方法对所述高频传输微结构进行平坦化。上述方法降低了平坦化的时间成本和工艺成本。
高频传输微结构平坦方法装置电子设备

[发明专利]高频超声脉冲多普勒的高脉冲采样频率自动工作流的方法-CN202310513544.7在审
发明人：陆银城;李晓珍;张拴 -专利权人：珂纳医疗科技（苏州）有限公司
申请日： 2023-05-09 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： A61B8/06 文献下载
摘要：本发明涉及高频超声脉冲多普勒的高脉冲采样频率自动工作流的方法，包括以下步骤：步骤1：当调节脉冲重复频率PRF时，系统自动判断当前脉冲重复频率PRF；步骤2：如果不能完成，则预备进入高脉冲采样频率HPRF状态，步骤3：脉冲重复频率PRT减去发射和接收的时间计算出发射准备时间；步骤4：发射准备时间；步骤5：进入高脉冲采样频率HPRF状态扫查，界面绘制虚拟采样门；步骤6：当调节深度、改变采样门大小、位置和偏转角时，完成一次超声脉冲多普勒模式PW发射到采样门再回收的时间发生变化，系统自动判断在脉冲重复频率PRT时间内能否满足高脉冲采样频率HPRF的条件。本发明能实现自动工作流提高工作效率。
高频超声脉冲多普勒采样频率自动工作流方法

[发明专利]光刻胶刻蚀液、微同轴光刻胶牺牲层释放方法及相关设备-CN202211600688.8在审
发明人：王荣栋;杨云春;陆原;张拴;马诗潇 -专利权人：赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司
申请日： 2022-12-13 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供了光刻胶刻蚀液、微同轴光刻胶牺牲层释放方法及相关设备，该光刻胶刻蚀液包括：二甲基亚砜、四氢呋喃和异丙醇。通过二甲基亚砜作为主要的光刻胶去除剂，提高光刻胶刻蚀质量，通过四氢呋喃作为黏度调节剂和次要的光刻胶去除剂，进一步增加光刻胶刻蚀液的刻蚀能力，并提高光刻胶刻蚀液的流动性，增强光刻胶刻蚀液对于细小缝隙处的光刻胶的刻蚀能力，通过异丙醇去除已经被溶解的光刻胶和四氢呋喃及二甲基亚砜的混合溶液，提高光刻胶刻蚀液的刻蚀效率，因此，通过上述光刻胶刻蚀液可以提高光刻胶的刻蚀效率和刻蚀质量，缩短刻蚀时间，节约刻蚀成本。
光刻刻蚀同轴牺牲释放方法相关设备

[发明专利]绝缘保护材料、制备方法及绝缘保护层制备方法-CN202211604462.5在审
发明人：马诗潇;杨云春;陆原;张拴 -专利权人：赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司
申请日： 2022-12-13 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： C08L63/00 文献下载
摘要：本发明提供了绝缘保护材料、制备方法及绝缘保护层制备方法，该绝缘保护材料包括：氨基环氧树脂、聚氨基甲酸酯、聚酰亚胺、双氰胺、丙烯酸、甲基丙烯酸异氰基乙酯、丙酮、丁醇和异丙醇。通过甲基丙烯酸异氰基乙酯作为交联剂，使氨基环氧树脂开环固化成网状结构，通过聚氨基甲酸酯能提高绝缘保护层的弹性和抗冲击性，通过聚酰亚胺提高绝缘保护层的机械强度，提高保护性能。因此，上述绝缘保护材料具有高通用性和高保护性的特点。
绝缘保护材料制备方法保护层

[发明专利]一种微同轴结构、制备方法及电子机械器件-CN202211627199.1在审
发明人：王荣栋;杨云春;陆原;张拴;马诗潇 -专利权人：北京海创微芯科技有限公司
申请日： 2022-12-16 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： H01P3/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种微同轴结构、制备方法及电子机械器件，采用金属堆叠工艺制备微同轴结构；对所述微同轴结构进行退火工艺处理，以将所述微同轴结构金属层原子之间的范德华键转变成金属键。采用本发明方法使微同轴结构的原子之间经退火工艺处理形成金属键，结构更加稳定，机械稳定性、电学性能更好，插入损耗相较于未进行退火工艺处理的微同轴结构明显降低。
一种同轴结构制备方法电子机械器件

[发明专利]微同轴结构腔体释放方法及微同轴结构晶片-CN202211586625.1在审
发明人：张拴;杨云春;郭鹏飞;陆原;王晨星;赵利芳;王维嘉 -专利权人：赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司
申请日： 2022-12-09 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本申请公开一种微同轴结构腔体释放方法及微同轴结构晶片，涉及微电子技术领域，能够简化微同轴结构腔体的释放工艺，减少材料残留。微同轴结构腔体释放方法，包括：对待释放腔体的晶圆样品进行表面处理，以露出所述晶圆样品的顶层种子层；去除所述顶层种子层；利用曝光工艺和显影工艺去除所述晶圆样品的中间种子层与所述顶层种子层之间的第一光刻胶，并带离第一黏附层，以及通过微同轴结构侧壁的释放孔去除所述微同轴结构腔体内的第二光刻胶，其中，所述第一粘附层位于所述顶层种子层与所述第一光刻胶之间。
同轴结构释放方法晶片

[发明专利]基于MEMS的空气芯微同轴传输线的制造方法-CN202310083329.8在审
发明人：王荣栋;杨云春;张拴;马诗潇 -专利权人：赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司
申请日： 2023-01-20 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： H01P11/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于MEMS的空气芯微同轴传输线的制造方法，所述制造方法包括：在衬底上沉积一层种子层；在种子层表面形成第一图案化光刻胶层，并在第一图案化光刻胶层的图案内电镀形成微同轴传输线的外轴底层；采用化学机械抛光方法，利用新型抛光液对外轴底层和第一图案化光刻胶层的表面进行抛光，使得外轴底层和第一图案化光刻胶层的表面平坦化；在抛光后的外轴底层和第一图案化光刻胶层的表面形成外轴侧壁、支撑层、内轴和外轴顶层，得到空气芯微同轴传输线。该制造方法采用新型抛光液进行化学机械抛光，可以使得外轴底层的铜材料与光刻胶的抛光速率非常接近，从而可以减小抛光面的高度差，使得后续其它层结构生长时更稳定。
基于 mems 空气同轴传输线制造方法

[发明专利]一种含光刻胶晶圆的平坦化方法-CN202211578467.5在审
发明人：孙庆灵;杨云春;陆原;张拴;范建国;王晨星 -专利权人：赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司
申请日： 2022-12-09 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明公开了一种含光刻胶晶圆的平坦化方法，涉及半导体工艺技术领域，所述平坦化方法包括：获取待研磨的含光刻胶晶圆，以及获取第一研磨液；获取含光刻胶晶圆的第一理想参数，根据所述第一理想参数调节出第一研磨参数；控制第一研磨液喷淋至所述含光刻胶晶圆上，根据第一研磨参数对所述含光刻胶晶圆进行研磨。通过改变研磨压力和研磨转速，从而得到光刻胶和铜均匀一致的厚度，实现铜与光刻胶组合晶圆的表面平坦化。
一种光刻胶晶圆平坦方法

[发明专利]一种液位检测方法及其检测系统-CN202211505487.X在审
发明人：王文正;杨云春;郭鹏飞;陆原;张拴;王晨星;范建国;陈英明 -专利权人：赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司
申请日： 2022-11-28 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G01F23/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种液位检测方法，应用于槽体的预设液位检测，涉及微电子元器件湿法刻蚀技术领域，槽体设置有若干的检测管道，每个所述检测管道开口朝向液面下降方向且每个所述检测管道端口与对应所述预设液位平齐，每个检测管道内设置有液位开关，所述液位开关连接有控制器，液位检测方法包括如下步骤：向每个所述检测管道通持续通入一定流速的检测气体流向槽体；当槽体内的液位没过一个预设液位时，检测管道内的气体压强增大使液位开关导通，液位开关向控制器输入对应的液位抵达信号；控制器接收到液位抵达信号后输出槽体液位抵达对应预设液位的图像信号。本发明提供的一种液位检测方法及其检测系统，有效提高了预设液位的检测准确性。
一种检测方法及其系统

[发明专利]一种流速平稳的湿法设备槽-CN202211506520.0在审
发明人：王文正;杨云春;郭鹏飞;陆原;张拴;王晨星;范建国;陈英明 -专利权人：赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司
申请日： 2022-11-28 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种流速平稳的湿法设备槽，应用于微型机械电子元器件的湿法刻蚀，涉及微电子湿法刻蚀装置领域，包括：内槽体，用于盛装微型机械电子元器件湿法刻蚀的溶液；外槽体，盛装用于补充所述内槽体的溶液；泵体，用于将外槽体的溶液抽至内槽体；阻尼器，设置于所述泵体和所述内槽体之间，用于吸收泵体启动时瞬时泵出溶液产生的压力；管道，所述内槽体、所述泵体、所述阻尼器和所述外槽体通过所述管道依次连通。本发明提供的一种流速平稳的湿法设备槽，提高湿法刻蚀的成品质量，提高内槽体的使用寿命。
一种流速平稳湿法设备

[实用新型]一种活动门槛-CN202222931187.X有效
发明人：郭鹏;雷根深;薛剑;何玺春;张拴;郑鑫;赵佳 -专利权人：内蒙古工大建筑设计有限责任公司
申请日： 2022-11-03 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： E06B1/70 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种活动门槛，其包括固定轴、活门槛和防护罩。优点：通过将该活动门槛整体安装在防火门扇的开启侧即可，在打开门的过程中，依靠门扇带动防护罩移动进而将活门槛端部的套筒沿着导向斜面向上推动，使得活门槛上升，实现地面无门槛设计，可实现正常通行；关闭时，通过防护罩将活门槛向关闭侧拉动，套筒及活门槛沿着导向斜面下落至地面，起到防烟的作用；整个活动门槛结构简单，无需单独配备电源或气源，使用方便，故障率低。
一种活动门槛

[发明专利]一种中框组件及终端设备-CN202110695301.0有效
发明人：佘小栋;周志毅;刘武强;肖世英;李斯;李培华;张拴;陈潮隆 -专利权人：广东湾区智能终端工业设计研究院有限公司
申请日： 2021-06-23 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： H05K5/00 文献下载
摘要：本发明涉及终端技术领域，特别涉及一种中框组件及终端设备。该中框组件包括前壳和安装支架；前壳具有用于安装显示屏的第一表面和用于对接后盖的第二表面，前壳具有开口位于所述第二表面的安装槽；安装支架用于承载功能器件，且安装支架用于与前壳配合以将功能器件固定于安装槽内。通过前壳和安装支架将功能器件固定，可以起到良好的固定作用，优化功能器件组装和整机可靠性，提升用户体验和降低售后风险；而功能器件具体位于前壳朝向后盖的第二表面，可以实现背面组装，防止功能器件碰撞到位于前壳第一表面一侧的显示屏。
一种组件终端设备

[发明专利]微同轴传输结构及其制备方法、电子设备-CN202111199559.8有效
发明人：王荣栋;杨云春;郭鹏飞;陆原;张拴;梁骥 -专利权人：赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司
申请日： 2021-10-14 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： H01P3/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种微同轴传输结构及其制备方法，其中的微同轴传输结构包括：衬底；金属导体，沿厚度方向贯穿所述衬底设置；绝缘层，环绕所述金属导体设置；金属屏蔽层，环绕所述绝缘层设置；阻挡层，环绕所述金属屏蔽层设置。上述微同轴传输结构能够减少高频信号的传输耗散和辐射损失，从而提高传输带宽。
同轴传输结构及其制备方法电子设备

[发明专利]微同轴传输结构及其制备方法、电子设备-CN202111199542.2有效
发明人：王荣栋;杨云春;郭鹏飞;陆原;张拴;梁骥 -专利权人：赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司
申请日： 2021-10-14 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： H01P3/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种微同轴传输结构及其制备方法，传输结构包括衬底；金属导体，沿厚度方向贯穿所述衬底设置；填充层，沿厚度方向贯穿所述衬底，并环绕所述金属导体设置；第一阻挡层，位于所述金属导体与第一衬底区之间；所述第一衬底区为所述金属导体和所述填充层之间的衬底区域；第一金属层，位于所述填充层与第二衬底区之间；所述第二衬底区为环绕所述填充层的衬底区域；第二阻挡层，位于所述第一金属层与第二衬底区之间。上述结构中的填充层在形成金属导体的过程中起到应力缓冲的作用，第一金属层作为信号屏蔽层能够减少金属导体在传输高频信号时的耗散和辐射损失，从而提高微同轴传输结构的传输带宽。
同轴传输结构及其制备方法电子设备

[发明专利]一种晶圆的键合方法-CN202210617812.5在审
发明人：王荣栋;杨云春;陆原;张拴 -专利权人：北京海创微芯科技有限公司
申请日： 2022-06-01 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： B81C3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆的键合方法，通过将第一晶圆的电极端面上喷涂含有导电粒子的胶剂，再将第一晶圆和第二晶圆粘合紧固，使第一晶圆和第二晶圆在被粘合紧固后，晶圆上器件的键合面能够通过导电粒子电性导通，与硅‑硅键合和共晶键合相比整体过程更简单快捷，整个键合过程无需对晶圆进行抛光处理，也无需在键合的过程中进行高温退火处理，进而提高了晶圆键合的工艺质量。
一种方法

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