专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种垂直单分子膜忆阻器及其制备方法-CN202310511920.9在审
  • 贾传成;杨澜;张恩予;句宏宇;郭雪峰 - 南开大学
  • 2023-05-08 - 2023-08-04 - H10K10/50
  • 本申请提供了一种垂直单分子膜忆阻器及其制备方法,其中,垂直单分子膜忆阻器包括衬底、依次设置在衬底上的源极、自组装单分子膜、漏极和栅极;自组装单分子膜包括柱芳烃分子体系,柱芳烃分子的结构式如式A所示。本申请的自组装单分子膜包括具有双稳态的柱芳烃分子体系,柱芳烃分子体系由柱芳烃分子和银离子组成。柱芳烃分子具有空腔,空腔中可以容纳银离子。将柱芳烃分子体系应用于垂直单分子膜忆阻器,通过调控源漏电压或栅压可以实现银离子在柱芳烃分子的空腔内移动,实现高阻值与低阻值之间的转换调控,获得结构稳定、高效、可调控的垂直单分子膜忆阻器。
  • 一种垂直分子膜忆阻器及其制备方法
  • [发明专利]一种贝塞尔光阵列光束并行光刻机-CN202310121671.2在审
  • 匡登峰;高兴亮;张恩予 - 南开大学
  • 2023-02-16 - 2023-06-23 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种贝塞尔光阵列光束并行光刻机,贝塞尔光阵列光束并行光刻机包括:光源,准直器,微轴锥镜阵列,样品台,运动平台,控制器。其中,准直器选用与光源波长相匹配的,用于准直光束;微轴锥镜阵列用于出射贝塞尔光阵列光束;样品台用于搭载样品;通过控制运动平台改变微轴锥镜阵列与样品台的Z向距离可以调节样品的曝光强度;控制器控制运动平台的工作参数,可向XYZ三个方向移动样品,在XY平面进行一维运动,可以在样品上实现阵列光的线性曝光,可用于光栅加工。本发明最大的特点在于创新地在引入了微轴锥镜阵列,利用贝塞尔光阵列光束实现快速、有效的并行光刻,具有轻小型化、并行度高、加工速度快、高稳定性等优点。
  • 一种贝塞尔光阵列光束并行光刻

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