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[发明专利]一种半导体清洗装置-CN202111062550.2有效
发明人： 廖宗洁;贺贤汉;张正伟;周伯成 -专利权人：安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： B08B3/14 文献下载
摘要：本发明公开了半导体领域的一种半导体清洗装置，包括安装箱，所述安装箱外侧壁固定连接有安装架，所述安装架顶端固定连接有气缸，所述气缸的伸缩杆底端固定连接有半导体安装盒，所述安装箱在安装箱的正上方，所述安装箱底端固定连接有第一滑杆，所述第一滑杆表面滑动连接有中空安装板，所述第一滑杆顶端固定连接有固定块。本发明通过通过设置循环清理机构，能够将多次使用的清洗液通过过滤板和流通管道注入到清洗箱内，并对着承载半导体的安装盒进行清洗，使得能够自动过滤多次使用的清洗液，保证清洗液的干净整洁，去除污渍，提高对半导体的清洗效果，同时无需人工对清洗液进行多次更换，降低劳动力，提高工作效率。
一种半导体清洗装置

[发明专利]一种铝合金阳极氧化电解液和阳极氧化系统工艺-CN202111062547.0在审
发明人：张正伟;贺贤汉;廖宗洁;周伯成 -专利权人：安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： C25D11/08 文献下载
摘要：本发明涉及铝材氧化技术领域，且公开了一种铝合金阳极氧化电解液和阳极氧化系统工艺，包括一种铝合金阳极氧化电解液和一种铝合金阳极氧化系统工艺，本发明通过阳极氧化前必须检查导电铜座、导电铜铝块、挂具与导电梁接触处的导电状况，并经常打磨，阳极氧化前必须打开导电铜座的冷却水，并检查导电梁是否弯曲，弯曲的导电梁必须更换，氧化结束电后，行车挂钩才能挂上导电梁挂钩，中和时，型材应上下反倾斜移动，充分中和型材内孔中的残留碱液和去除表面挂灰，中和后的型材必须经二级水洗后,才能进入阳极氧化槽，中和后的型材应加强表面质量的检查，检查型材表面的砂面状况，是否有挂灰、毛刺、花斑、焊合线等表面缺陷，以便及时处理和返工。
一种铝合金阳极氧化电解液系统工艺

[发明专利]半导体高阶制程APC装置的石英部件再生清洗方法-CN202010691293.8有效
发明人： 廖宗洁;贺贤汉;杨炜 -专利权人：上海富乐德智能科技发展有限公司
申请日： 2020-07-17 - 公布日： 2022-01-21 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本发明涉及半导体技术领域。半导体高阶制程APC装置的石英部件再生清洗方法，包括如下步骤：步骤一，微粉喷砂；步骤二，物理抛光研磨；步骤三，火焰抛光；步骤四，高温退火；步骤五，化学清洗；首先、使用氨水双氧水溶液,溶液温度20‑40℃，浸泡10min；然后、使用硝氟酸溶液浸泡5‑20min；最后、使用硝氟酸溶液浸泡5‑20min；步骤六，超声波清洗；步骤七，冲洗、干燥。本发明降低了成本和达到避免化学去膜存在的腐蚀问题目的。
半导体高阶制程 apc 装置石英部件再生清洗方法

[发明专利]一种液晶面板显示器自动清洗烘干设备-CN202111062986.1在审
发明人： 廖宗洁;贺贤汉;张正伟;周伯成 -专利权人：安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： B08B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种液晶面板显示器自动清洗烘干设备，涉及面板显示器清洗技术领域，包括箱体，箱体上连接有托板，托板设有放置槽，箱体设有挡板，箱体连接有第一电机，第一电机连接有转轴，转轴设有活塞柱，活塞柱连接有活塞杆，活塞杆连接有电控吸盘，箱体设有输水管，输水管设有喷淋头，箱体连接有第二电机，箱体设有固定室，第二电机连接有驱动轴，固定室设有移动槽，驱动轴连接有传送带，箱体设有烘干箱，烘干箱设有加热棒，烘干箱连接有第三电机，第三电机连接有主动齿轮，主动齿轮连接旋转柱，旋转柱外设有清洗棉柱。本发明可对液晶面板显示器实现自动化清洗流程，可实现多个面板显示器同时清洗，工作效率高，且在清洗后对面板显示器进行擦拭烘干，简化设备的结构，适合推广。
一种液晶面板显示器自动清洗烘干设备

[发明专利]一种晶片清洗槽及晶片清洗方法-CN202111062548.5在审
发明人：张正伟;贺贤汉;廖宗洁;周伯成 -专利权人：安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及半导体材料技术领域，具体是一种晶片清洗槽，包括清洗槽，所述清洗槽的上方设置有夹持臂，夹持臂镜像对称设置有2排，每排等距分布有若干个夹持臂，且每排中夹持臂相靠近的一侧分别设置有调距推拉座，并且每排所述夹持臂的中部和上端分别活动连接有限位支撑杆和夹持控制同步杆，所述夹持臂的下端上下间隔设置有主动支撑轮和被动支撑轮，本发明能通过2排若干个夹持臂批量的对晶片自动夹持，且夹持臂上的主动支撑轮和被动支撑轮能够让晶片的边沿与夹持臂之间滚动连接，使得晶片被夹起后还能够自转，而且通过取放架和喷洗组合管与夹持臂的配合，不仅能够让晶片自动的被取出和放回花篮中，且能够自动的在浸泡洗后进行连续的冲洗清洁。
一种晶片清洗方法

[实用新型]一种气体分配盘喷砂保护装置-CN202021560426.X有效
发明人： 廖宗洁;贺贤汉;杨炜 -专利权人：上海富乐德智能科技发展有限公司
申请日： 2020-07-31 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： B24C9/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种气体分配盘喷砂保护装置，在气体分配盘再生清洗过程中，对其除最外圈大孔外的气孔进行充气保护。该保护装置具有底座，包括下凸的圆形槽、设置在该圆形槽顶端的环形边沿、设置在环形边沿上的多个上盖连接凸块。圆形槽的底边上设置有进气孔，气体分配盘的外圈大孔与环形边沿相对应；上盖，安装在底座上并对外圈大孔进行封堵，自外向内依次设置凸块安装槽、气孔压块以及喷砂孔。通气组件，包括安装在进气孔内的通气管、设置在通气管上的调压阀以及压力表。其中，上盖连接凸块和气孔压块上均设置有密封条。本实用新型有效实现了气体分配盘中较小孔径气孔的同时喷砂保护，在孔的范围形成保护气幕，达到对产品孔洞喷砂保护的目的。
一种气体分配喷砂保护装置

[发明专利]半导体高阶制程蚀刻装置硅部件的再生清洗和返修方法-CN202010685534.8在审
发明人： 廖宗洁;贺贤汉;王云鹏;汤高 -专利权人：上海富乐德智能科技发展有限公司
申请日： 2020-07-16 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体高阶制程蚀刻装置硅部件的再生清洗和返修方法，通过预处理，即氨水双氧水、氢氟酸刻蚀去除硅部件表面沉积膜层，刻蚀裸露的硅基材表面少量的二氧化硅，使得在物理抛光前，硅部件表面洁净，不会在物理抛光时候对硅部件产生划伤；然后通过物理抛光改善硅部件的表面，使之光亮并去除等离子刻蚀产生破损层；再使用化学清洗抛光硅部件，刻蚀掉物理抛光过程中产生的浅破损层，并对硅表面进行化学清洗，去除硅部件表面颗粒和金属离子，达到类似新品性能的光洁度和清洁度，使得硅部件完成再生清洗或返修。
半导体高阶制程蚀刻装置部件再生清洗返修方法

[发明专利]一种缓蚀剂、清洗液及其应用-CN201110376957.2有效
发明人：何桥;贺贤汉;尚玉帝;廖宗洁 -专利权人：上海申和热磁电子有限公司
申请日： 2011-11-23 - 公布日： 2012-03-28 - 主分类号： C23G1/06 文献下载
摘要：本发明涉及缓蚀剂技术领域，公开了一种缓蚀剂、清洗液及其应用。缓蚀剂按照重量百分比计，包括以下组份：改性咪唑啉衍生物37～60％，有机醇20～30％，有机胺10～20％，炔醇及其衍生物5～10％，非离子表面活性剂1～3％。将该缓蚀剂添加至清洗液浸泡清洗不锈钢。清洗液为12％盐酸与3％氟酸的混酸液，每升酸液中加入3g缓蚀剂。本发明具有清洗效果好、低腐蚀、生产成本低、工艺简单且对环境无污染的优点，可作为不锈钢精密零件酸洗缓蚀剂。
一种缓蚀剂清洗及其应用

[发明专利]Encore Ta装置部件清洗再生保护治具及相关清洗再生方法-CN201010531856.3无效
发明人： 廖宗洁;蒋立峰;卢国云 -专利权人：上海申和热磁电子有限公司
申请日： 2010-11-04 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种Encore Ta装置部件清洗再生保护治具，其是用于覆盖住Encore Ta装置的内屏蔽体(Inner shield)的cup装配区域的覆盖物，还提供了一种Encore Ta装置部件清洗再生保护治具，其是用于覆盖住Encore Ta装置的沉积支撑环部件的工作面内圈非溶射区域的覆盖物，还提供了一种Encore Ta装置部件清洗再生保护治具，其是用于覆盖住Encore Ta装置的沉积支撑环部件的底部的覆盖物，还提供了一种Encore Ta装置部件清洗再生保护治具，其是用于覆盖住Encore Ta装置的沉积支撑环部件的工作面溶射区域的覆盖物，还提供了相关的清洗再生方法，本发明设计独特巧妙，从而能够减少部件在清洗再生过程中产生的腐蚀，增加部件的使用寿命，增加部件表面film吸附能力，解决产生film脱落问题，开拓新的清洗市场，适于大规模推广应用。
encore ta 装置部件清洗再生保护相关方法

[发明专利]压紧环清洗保护及测量治具-CN200910200093.1有效
发明人： 廖宗洁;卢国云 -专利权人：上海申和热磁电子有限公司
申请日： 2009-12-08 - 公布日： 2010-07-21 - 主分类号： B24C1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种压紧环清洗底部保护治具，包括夹面支撑部，夹面支撑部具有支撑压紧环的夹面底部的顶部表面，较佳地，夹面支撑部为夹面支撑环，还包括底座，夹面支撑部设置在底座上；本发明还涉及一种压紧环清洗上部保护治具，包括遮盖压紧环的夹面上部的遮盖面，本发明还涉及一种压紧环夹面高度检测治具，包括底板和设置在底板上的夹面支承部，夹面支承部具有支承压紧环的夹面底部的上部表面，底板的上表面平行于上部表面，本发明设计巧妙，能大大减少夹面高度在再生过程中的损耗，显著提高压紧环清洗次数，延长客户部件更换周期，解决夹面高度测量效率低、测量治具比较昂贵的问题，大大降低用户使用维护成本，适于大规模推广应用。
压紧清洗保护测量

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