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[实用新型]一种粗糙度测量平台工装-CN202320689811.1有效
发明人：周毅;贺贤汉 -专利权人： 安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2023-03-31 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G01B21/30 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种粗糙度测量平台工装，涉及到半导体部件测量技术领域，包括剪式升降台，所述剪式升降台的上顶板底部固定有U形容纳板，且所述U形容纳板的容纳腔与所述顶板上设有U形开口腔相通，所述U形开口腔的内腔转动设置有安装板，且所述安装板安装有粗糙度检测器，所述安装板通过两侧设有的转轴与所述顶板转动连接，两个所述转轴上均安装有弹性阻尼垫。本实用新型结构合理，本工装通过剪式升降台改变粗糙度检测器的高度以适应对不同高度的检测需求，且不使用时竖直占用空间小，并可将粗糙度检测器旋至剪式升降台顶板与底板之间的收纳空间内进行收纳保护，且不对剪式升降台的竖直占用空间造成影响。
一种粗糙测量平台工装

[发明专利]一种含氟耐腐蚀涂层的制备工艺-CN202310623986.7在审
发明人：何伟;贺贤汉;张继月 -专利权人： 安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2023-05-30 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： C23C4/134 文献下载
摘要：本发明公开了一种含氟耐腐蚀涂层的制备工艺，步骤包括受入、遮蔽、喷砂、熔射、去遮蔽和清洗包装。通过开发大气等离子喷涂的工艺参数，制备的含氟耐腐蚀涂层具有涂层孔隙低（2%）、结合力高（12Mpa）、硬度大（480HV）、含氧量低等优势，在刻蚀腔体核心设备表面（主要是铝制品）与卤素特别是含有氟基的等离子体反应，表面生成AlF‑、AlF2‑、AlF3等副产物，复合涂层表面的氟化铝可以更好的起到反应阻挡，因此具有更好的耐等离子性，本次使用氟化铝粉末，氟化铝难溶于水、酸及碱溶液，不溶于大部分有机溶剂，也不溶于氢氟酸及液体氟化氢，性质非常稳定，与液氨、甚至浓硫酸加热至发烟仍不起反应，与氢氧化钾共熔无变化，也不被氢气还原，加热不分解，但升华。
一种含氟耐腐蚀涂层制备工艺

[发明专利]一种等离子刻蚀设备熔射部件的清洗方法-CN202310623981.4在审
发明人：王圣福;贺贤汉;张继月;黄景 -专利权人： 安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2023-05-30 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了本发明的一种干刻设备熔射部品的清洗方法，包括纯水浸泡、化学清洗、纯水浸泡、喷砂、高压水洗、超声清洗、干燥步骤。通过无尘布覆盖药液和选用低硬度砂材喷砂相结合的方式，在不伤及原熔射涂层的前提下有效去除熔射涂层表面刻蚀副产物。本申请清洗后部品无需重新等离子喷涂，降低刻蚀机台维护成本，且清洗所需工艺设备简单易操作，清洗速度快，所需时间周期短。
一种等离子刻蚀设备部件清洗方法

[发明专利]一种Open Mask清洗装置-CN202211128247.2有效
发明人：王圣福;贺贤汉;张正伟;周毅;阮安俊 -专利权人： 安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2022-09-16 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本发明涉及Open Mask清洗领域，具体为一种Open Mask清洗装置，包括清洗箱和密封盖，所述清洗箱外侧壁固定联通有导入管，所述清洗箱侧壁转动连接有密封门，所述清洗箱内固定连接有超声波振板，所述清洗箱内设置有循环机构，所述循环机构包括四个存储箱，所述存储箱对称固定连接在清洗箱内侧壁上，所述清洗箱内侧内槽中对称固定连接有第一滑杆。本发明通过设置循环机构和推动机构，可以不断循环过滤清洗箱内的药水，将药水进行过滤，将药水中的镀膜从药水中进行去除，从而提高药水的清洗能力，提高清洗效果，同时当药水进行过滤后，可自上而下对open mask部件表面进行冲洗，将open mask部件表面粘附的镀膜冲洗干净，从而提高open mask部件质量。
一种 open mask 清洗装置

[发明专利]一种复合陶瓷涂层制备方法及喷涂加工装置-CN202310338014.3在审
发明人：阮安俊;贺贤汉;王烁 -专利权人： 安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2023-03-31 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C4/134 文献下载
摘要：本发明提供一种复合陶瓷涂层制备方法及喷涂加工装置，通过第一次喷涂能够形成氧化铝、氧化硅涂层，通过第二次喷涂能够形成氟化铝涂层，通过第三次喷涂能够形成氟化钇涂层；三层涂层从内向外依次分布，形成具有多层复合结构的耐等离子陶瓷涂层，丰富了复合陶瓷涂层结构，整体耐等离子蚀刻的防护能力，避免安全意外发生。该发明解决了传统复合陶瓷涂层结构单一，防护能力差的问题。
一种复合陶瓷涂层制备方法喷涂加工装置

[发明专利]一种半导体清洗装置-CN202111062550.2有效
发明人：廖宗洁;贺贤汉;张正伟;周伯成 -专利权人： 安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： B08B3/14 文献下载
摘要：本发明公开了半导体领域的一种半导体清洗装置，包括安装箱，所述安装箱外侧壁固定连接有安装架，所述安装架顶端固定连接有气缸，所述气缸的伸缩杆底端固定连接有半导体安装盒，所述安装箱在安装箱的正上方，所述安装箱底端固定连接有第一滑杆，所述第一滑杆表面滑动连接有中空安装板，所述第一滑杆顶端固定连接有固定块。本发明通过通过设置循环清理机构，能够将多次使用的清洗液通过过滤板和流通管道注入到清洗箱内，并对着承载半导体的安装盒进行清洗，使得能够自动过滤多次使用的清洗液，保证清洗液的干净整洁，去除污渍，提高对半导体的清洗效果，同时无需人工对清洗液进行多次更换，降低劳动力，提高工作效率。
一种半导体清洗装置

[发明专利]高反射率陶瓷涂层的制备工艺-CN202211516997.7在审
发明人：阮安俊;贺贤汉;王烁 -专利权人： 安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： C23C4/134 文献下载
摘要：本发明公开了一种高反射率陶瓷涂层的制备工艺，采用不同粒径粉末进行混合级配，利用等离子喷涂方式制备涂层。首先降低了涂层孔隙率（2.0%左右），增大了表面反射面积，提高了反射率，500～2500nm波长范围可高于85%。其次低热膨胀率和小粒径的粉末加入，可以进一步降低涂层的热敏感程度，提高涂层的热震稳定性。
反射率陶瓷涂层制备工艺

[发明专利]一种快速退火炉内壁陶瓷涂层的制备方法-CN202211444295.2在审
发明人：阮安俊;贺贤汉;王烁 -专利权人： 安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2022-11-18 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C09D183/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种快速退火炉内壁陶瓷涂层的制备方法，采用无色透明的硅烷偶联剂与铝粉的制备涂层，首先降低了涂层孔隙率（2.0%左右），增大了表面反射面积，提高了反射率，500～2500nm波长范围可高于95%。其次低热膨胀率和小粒径的粉末加入，可以进一步降低涂层的热敏感程度，提高涂层的热震稳定性。
一种快速退火炉内壁陶瓷涂层制备方法

[发明专利]一种OLED蒸镀工艺Open Mask部件清洗设备-CN202211147758.9在审
发明人：王圣福;贺贤汉;张正伟;李帅雨;刘宇航 -专利权人： 安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2022-09-19 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C23G5/00 文献下载
摘要：本发明涉及Open Mask清洗领域，具体为一种OLED蒸镀工艺Open Mask部件清洗设备，包括清洗箱，所述清洗箱内设置有超声波振板。本发明通过设置承载机构、升降机构、循环管、除垢箱和过滤箱，药水通过承载箱上的过滤网进入到承载箱内，与Open Mask接触，使得open mask部件表面的镀膜脱离，随后通过升降机构，将承载箱向上运动，进入到除垢箱内，在驱动电机的作用下，驱动承载箱进行旋转，在离心力的作用下，使得承载箱内脱离的镀膜通过排水孔排出，由于设置过滤网，使得脱离的镀膜无法穿过承载箱进入到清洗箱内与药水进行混合，而清洗箱内的药水可以自由通过过滤网，避免浸泡时镀膜对药水的污染，从而提高了药水对Open Mask的清洗效果，并且能延长药水的使用周期，节约药水量。
一种 oled 工艺 open mask 部件清洗设备

[实用新型]一种OLED掩膜版Open Mask表面处理用烘干箱-CN202222295918.6有效
发明人：王圣福;贺贤汉;张正伟;刘宇航;束磊 -专利权人： 安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2022-08-31 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： F26B9/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种OLED掩膜版Open Mask表面处理用烘干箱，涉及到掩膜版Open Mask烘干技术领域，包括烘干箱，所述烘干箱的烘干腔内呈上下排列安装有若干个用于放置掩膜版的承载单元，所述承载单元包括呈对称设置的两个承载板和两个U形杆，每个所述承载板均包括等间距排列的若干个阶梯式承载条，且若干个所述阶梯式承载条均通过若干个连接杆固定在一起，两个所述U形杆与所述烘干箱的内壁固定连接。本实用新型结构合理，利用由阶梯式承载条构成的两个承载板对掩膜版进行承载，人员将手伸入两个承载板之间形成的空隙内推动阶梯面上的掩膜版横向移动并进行堆叠操作，方便一次将成排设置的掩膜版一次性取下，提高卸料效率。
一种 oled 掩膜版 open mask 表面处理烘干

[实用新型]一种OLED掩膜版Open Mask转运装置-CN202222295994.7有效
发明人：王圣福;贺贤汉;张正伟;李帅雨;刘宇航 -专利权人： 安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2022-08-31 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： B62B3/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种OLED掩膜版Open Mask转运装置，涉及到掩膜版转运技术领域，包括小推车，所述小推车上安装有用于排列放置金属掩膜版的承载箱，还包括用于对所述承载箱进行支撑和缓冲减震的磁悬浮单元，所述磁悬浮单元包括固定连接在所述小推车上的若干个安装架和一端与所述承载箱外壁固定连接的安装杆，且每个所述安装架上均固定连接有轴承座，所述轴承座内安装有磁悬浮轴承，所述安装杆的另一端延伸至所述磁悬浮轴承的内腔，所述安装杆上固定套接有限制所述安装杆横向移动的限位板。本实用新型结构合理，通过磁悬浮轴承使得承载箱进行整体悬空设置，提高承载箱的碰撞缓冲效果，提高其稳定性，可有效防止掩膜版被磕坏。
一种 oled 掩膜版 open mask 转运装置

[发明专利]治具保护下真空提拉泵辅助清洗喷淋头孔洞的方法-CN202210365872.2在审
发明人：高敏刚;贺贤汉;陈日升 -专利权人： 安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2022-04-08 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明公开了治具保护下真空提拉pump（泵）辅助清洗shower head（喷淋头孔洞），通过真空提拉pump（泵）反复抽吸药液对shower head（喷淋头孔洞）每个孔洞的均匀冲洗，真空提拉起到面板每个孔洞沉积物彻底去除，也使面板表面通过真空提拉的推动更加均匀，使面板孔径最小的变异改变，以来面板延长清洗次数，同时也大量的降低客户库存需求和买进新品的成本。
保护真空提拉泵辅助清洗喷淋孔洞方法

[实用新型]一种OLED掩膜版Open Mask表面清洗装置-CN202222295993.2有效
发明人：王圣福;贺贤汉;张正伟;李帅雨;束磊 -专利权人： 安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2022-08-31 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种OLED掩膜版Open Mask表面清洗装置，涉及到掩膜版Open Mask部件清洗技术领域，包括清洗桶以及安装于所述清洗桶排料管上的阀门，所述清洗桶上固定连接有安装架，且所述安装架上固定连接有动力缸，还包括用于承载掩膜版的若干个放置单元、与若干个所述放置单元对应设置的若干个顶起单元和同时带动若干个所述顶起单元上下运动的驱动单元。本实用新型结构合理，设置放置单元、驱动单元和顶起单元，可通过驱动单元和顶起单元的配合带动安装在放置单元上的掩膜版进行低速上下运动，可使得掩膜版Open Mask部件外表面能够与清洗液全面接触，可避免对掩膜版Open Mask部件产生清洗死角，有利于对掩膜版的Open Mask部件的彻底清洗。
一种 oled 掩膜版 open mask 表面清洗装置

[发明专利]一种环保型铝合金阳极氧化膜的制备方法-CN202210574180.9在审
发明人：黄景;贺贤汉;王圣福 -专利权人： 安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2022-05-25 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： C25D11/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种环保型铝合金阳极氧化膜的制备方法，工艺流程为水洗—钝化(无铬电化学氧化)—水洗；与传统铝及铝合金前处理工艺相比，这种阳极氧化的铝合金处理工艺，将传统的脱脂到水洗再到钝化等几道工序合并为一道工序来完成，大幅度简化了生产工艺，提高了生产效率，减少了用水量以及废水的排放量，节能环保，具有很好的应用前景。
一种环保铝合金阳极氧化制备方法

[实用新型]一种阳极氧化电极装置-CN202221266811.2有效
发明人：阮安俊;贺贤汉;周毅 -专利权人： 安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请日： 2022-05-25 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： C25D11/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种阳极氧化电极装置，包括传动装置、阴极笼和阳极支撑，所述的传动装置设置在阴极笼上方，本装置通过部件挂具作为阳极，使阴极围绕部件旋转，保证部件各面均匀反应，形成均质氧化膜；阳极与阴极形成类模块化结构，阳极氧化结束或过程中，可以一同从氧化槽中取出，对电极进行实时在线检查；通过阴极旋转扰动电解液，达到对部件表面散热目的，避免充气方式对阳极氧化效果的影响；因阴极不需固定与氧化槽，装置的可移动性增强，对场地和设备的要求降低，节约了生产成本。
一种阳极氧化电极装置

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