专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]摄像装置-CN201710075462.3有效
  • 平濑顺司;佐藤好弘;高见义则;高濑雅之;村上雅史 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2017-02-13 - 2023-10-03 - H01L27/146
  • 提供一种抑制了暗电流的摄像装置。本发明的摄像装置具备半导体层和像素单元。像素单元具备:第1导电型的杂质区域,位于半导体层内;光电变换部,位于半导体层的上方,电连接于杂质区域;第1晶体管,具有第1源极、第1漏极及第1栅极电极,第1源极及第1漏极的一方与杂质区域电连接;第2晶体管,具有第2源极、第2漏极及第2导电型的第2栅极电极,包含杂质区域作为第2源极及第2漏极的一方,第2栅极电极与杂质区域电连接;第3晶体管,具有第3源极、第3漏极及第3栅极电极,第3栅极电极与光电变换部电连接。
  • 摄像装置
  • [发明专利]摄像装置-CN202180087265.8在审
  • 平濑顺司;山田隆善;西村佳寿子 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2021-12-27 - 2023-09-15 - H01L27/146
  • 摄像装置具备:光电转换部,通过光电转换而生成电荷;电荷积蓄部,积蓄所述电荷;以及金属‑氧化物‑半导体电容,包括第1端子、第2端子、栅极、氧化物层以及至少1个半导体区域。在曝光中,所述第1端子与所述电荷积蓄部电连接,所述栅极与所述第1端子电连接,所述至少1个半导体区域与所述第2端子电连接,所述氧化物层位于所述栅极与所述至少1个半导体区域之间。
  • 摄像装置
  • [发明专利]摄像装置-CN202180071448.0在审
  • 太田宗吾;平濑顺司 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2021-11-04 - 2023-08-04 - H01L27/146
  • 摄像装置具备:第1光电转换部,将光转换为电荷;第1电荷积蓄部,积蓄所述电荷;第1电容器;输出电路,与所述第1电容器电连接;以及第1插入晶体管,具有栅极电极、源极及漏极。所述第1电荷积蓄部与所述栅极电极、以及所述源极及所述漏极中的一方电连接。通过所述第1插入晶体管成为导通,所述第1电荷积蓄部与所述第1电容器被电连接。
  • 摄像装置
  • [发明专利]摄像装置-CN202180076370.1在审
  • 津野盛和;平濑顺司 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2021-11-09 - 2023-07-14 - H01L27/146
  • 摄像装置具备:光电转换部,通过光电转换而生成信号电荷;半导体基板,包括第1半导体层,该第1半导体层包含第1导电型的杂质;电荷积蓄区域,是第1半导体层内的第2导电型的杂质区域,且积蓄信号电荷;晶体管,包括第1半导体层内的第2导电型的第1杂质区域作为源极及漏极中的一方;以及截断构造,位于电荷积蓄区域与第1杂质区域之间。截断构造包括:第1半导体层内的第1导电型的第2杂质区域、以及杂质浓度与第2杂质区域不同的第1半导体层内的第1导电型的第3杂质区域。
  • 摄像装置
  • [发明专利]摄像装置-CN201611006443.7有效
  • 佐藤好弘;平濑顺司 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2016-11-16 - 2020-11-17 - H04N5/361
  • 本发明目的在于减小漏电流而抑制画质的劣化。本申请的摄像装置,具有半导体基板和多个单位像素单元;多个单位像素单元分别具备:第1导电型的第1区域,位于半导体基板内,在半导体基板的表面的第1区中在半导体基板的表面上露出;与第1导电型不同的第2导电型的第2区域,在半导体基板内与第1区域直接邻接,在被第1区将周围包围的第2区中在半导体基板的表面上露出;光电变换部,位于半导体基板的表面的上方;接触插塞,位于半导体基板的表面与光电变换部之间,与第2区域连接;第1晶体管,包括将第1区内的第1部分覆盖的第1电极、和半导体基板与第1电极之间的第1绝缘层,将第2区域作为源极及漏极的一方;第2电极,将第1区内的与第1部分不同的第2部分覆盖;半导体基板与第2电极之间的第2绝缘层。当从与半导体基板的表面垂直的方向观察时,第2区域与接触插塞之间的连接部位于第1电极与第2电极之间。
  • 摄像装置
  • [发明专利]摄像装置-CN201510836849.7有效
  • 村上雅史;西村佳寿子;阿部豊;松长诚之;佐藤好弘;平濑顺司 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2015-11-26 - 2020-08-25 - H01L27/146
  • 一种摄像装置,具备:单位像素单元,包括对入射光进行光电变换并生成电信号的光电变换部、检测电信号的信号检测电路及将第1电容和电容值比其大的第2电容串联的电容电路;及反馈电路,形成使电信号负反馈的反馈路径;光电变换部具有光电变换膜、光电变换膜的受光面侧的第1电极及与第1电极相反侧的面的第2电极;信号检测电路包括栅极连接于第2电极、将与第2电极的电位相应的信号电压放大并输出的第1晶体管、和源极及漏极的一方连接于第2电极的第2晶体管;反馈电路在反馈路径的一部分中包含第1晶体管及反向放大器,使电信号经由第1晶体管及反向放大器向第2晶体管的源极及漏极的另一方负反馈;电容电路设置在第2电极与基准电位之间。
  • 摄像装置
  • [发明专利]摄像装置-CN201880057803.7在审
  • 平濑顺司;佐藤好弘;远藤康行;纲川裕之 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2018-11-06 - 2020-05-01 - H01L27/146
  • 一种摄像装置,具备:半导体基板,包括半导体区域、第1扩散区域以及第2扩散区域,上述半导体区域包含第1导电型的杂质,上述第1扩散区域与上述半导体区域相接,包含与上述第1导电型不同的第2导电型的杂质,并将入射光变换为电荷,上述第2扩散区域包含上述第2导电型的杂质,积蓄从上述第1扩散区域流入的上述电荷的至少一部分;第1晶体管,包括位于上述半导体基板上的第1栅极电极,包括上述第2扩散区域作为源极及漏极中的一方;接触插塞,与上述第2扩散区域电连接;电容元件,一端与上述接触插塞电连接;以及第2晶体管,包括位于上述半导体基板上的第2栅极电极,上述第2栅极电极与上述电容元件的上述一端电连接。
  • 摄像装置
  • [发明专利]摄像装置-CN201910624882.1在审
  • 平濑顺司;高见义则;佐藤好弘 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2019-07-11 - 2020-03-13 - H01L27/146
  • 本发明的一形态的摄像装置,具备:半导体层,包括第1导电型的第1区域、导电型与上述第1导电型相反的第2导电型的第2区域、以及上述第2导电型的第3区域;光电变换部,电连接于上述第1区域,将入射光变换为电荷;第1晶体管,包括第1源极、第1漏极及位于上述第2区域的上方的第1栅极,上述第1区域相当于上述第1源极或上述第1漏极;以及第2晶体管,包括第2源极、第2漏极及位于上述第3区域的上方的上述第2导电型的第2栅极,上述第1区域相当于上述第2源极或上述第2漏极,上述第2栅极电连接于上述第1区域。上述第3区域中的上述第2导电型的杂质的浓度比上述第2区域中的上述第2导电型的杂质的浓度高。
  • 摄像装置

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