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[发明专利]用于带电粒子束检查的样本预充电方法和设备-CN202311033092.9在审
发明人：刘学东;席庆坡;蒋友飞;任伟明;胡学让;陈仲玮 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-09-25 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01J37/12 文献下载
摘要：本文涉及一种用于带电粒子束检查的样本预充电方法、设备和计算机可读介质。设备包括：带电粒子源，被配置为沿设备的主束轴发射带电粒子束；聚束透镜，被配置为使得束围绕主束轴集中；孔径；第一多极透镜；第二多极透镜；其中第一多极透镜相对于聚束透镜处于下游、并且相对于第二多极透镜处于上游；其中第二多极透镜相对于第一多极透镜处于下游、并且相对于孔径处于上游。
用于带电粒子束检查样本充电方法设备

[发明专利]用于带电粒子束检查的样本预充电方法和设备-CN201880063509.7有效
发明人：刘学东;席庆坡;蒋友飞;任伟明;胡学让;陈仲玮 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-09-25 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本文公开了一种设备，该设备包括：带电粒子源，被配置为沿设备的主束轴发射带电粒子束；聚束透镜，被配置为使得束围绕主束轴集中；开孔；第一多极透镜；第二多极透镜；其中第一多极透镜相对于聚束透镜处于下游、并且相对于第二多极透镜处于上游；其中第二多极透镜相对于第一多极透镜处于下游、并且相对于开孔处于上游。
用于带电粒子束检查样本充电方法设备

[发明专利]包括电磁屏蔽件的电子光学组件-CN202180054736.5在审
发明人： D·F·瓦尔沃特;D·姆德雷托索夫;胡学让;席庆坡;J·范索伊斯特;M·J-J·维兰德 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-08-16 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01J37/09 文献下载
摘要：本文公开了一种用于电子光学装置列的电子光学组件，该电子光学装置列用于将带电粒子束沿着射束路径朝向目标投射，该电子光学组件包括：电磁屏蔽件，该电磁屏蔽件围绕带电粒子束路径并且被配置为将该带电粒子束与该电磁屏蔽件外部的电磁场屏蔽开；其中该电磁屏蔽件包括沿着射束路径的不同位置延伸的多个区段，每个区段围绕带电粒子束，其中区段是可分离的。
包括电磁屏蔽电子光学组件

[发明专利]带电粒子设备的可更换模块-CN202180042316.5在审
发明人： C·奥滕;P-P·克兰斯;M·斯米茨;L·德尔·廷;C·泰武尼森;Y-S·黄;S·W·H·K·斯蒂恩布林克;胡学让;席庆坡;罗希楠;刘学东 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-06-03 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本文所公开的是一种用于支撑被配置为操纵带电粒子设备中的带电粒子路径的装置的模块，该模块包括：被配置为支撑该装置的支撑布置，其中该装置被配置为操纵带电粒子设备内的带电粒子路径；以及被配置为在模块内移动支撑布置的支撑定位系统；其中模块被布置为在带电粒子设备中是现场可更换的。
带电粒子设备更换模块

[发明专利]具有低串扰的多带电粒子射束设备-CN202080039350.2在审
发明人：任伟明;胡学让;席庆坡;刘学东 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-05-18 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： H01J37/09 文献下载
摘要：公开了通过减少多射束设备中的二次带电粒子检测器的检测元件之间的串扰，来增强成像分辨率的系统和方法。多射束设备包括用于将来自样品的多个二次带电粒子射束投射到带电粒子检测器(140)上的电光系统。该电光系统包括第一预限制孔径板(155P)和射束限制孔径阵列(155)，第一预限制孔径板(155P)包括被配置为阻挡多个二次带电粒子射束的外围带电粒子的第一孔径；射束限制孔径阵列(155)包括被配置为修整多个二次带电粒子射束的第二孔径。带电粒子检测器可以包括多个检测元件(140_1、140_2、140_3)，其中多个检测元件中的一个检测元件与多个二次带电粒子射束中的对应修整后的射束相关联。
具有低串扰带电粒子设备

[发明专利]用于多射束检查装置中的次级射束的对准的系统和方法-CN202080024585.4在审
发明人： 席庆坡;胡学让;刘学东;任伟明;陈仲玮 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-03-06 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： H01J37/05 文献下载
摘要：公开了一种包括可调射束分离器的多射束检查装置。可调射束分离器被配置为改变次级粒子射束的路径。可调射束分离器包括第一维恩过滤器和第二维恩过滤器。两个维恩过滤器都与初级光学轴线对准。第一维恩过滤器和第二维恩过滤器是分别经由第一激励输入和第二激励输入而独立可控的。可调射束分离器被配置为基于第一激励输入和第二激励输入，沿着初级光学轴线来移动可调射束分离器的有效弯曲点。
用于多射束检查装置中的次级对准系统方法

[发明专利]用于对准多束检查装置中的电子束的系统和方法-CN201980068721.7在审
发明人：胡学让;罗希楠;席庆坡;刘学东;任伟明 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-09-20 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： H01J37/28 文献下载
摘要：公开了一种改进的带电粒子束检查装置，并且更具体地，公开了一种包括改进的对准机制的粒子束检查装置。一种改进的带电粒子束检查装置可以包括第二电子检测器件，该第二电子检测器件用以在该对准模式期间生成多个次级电子束中的一个或多个束斑点的一个或多个图像。该束斑点图像可以被用来确定该多个次级电子束中的一个或多个次级电子束的对准特性，并且调节次级电子投影系统的配置。
用于对准检查装置中的电子束系统方法

[发明专利]一种直齿圆柱齿轮冷精密成形工艺及其装置-CN03126356.9无效
发明人：刘华;霍艳军;张燮昌;孙红星;刘百宣;郝盛纲;席庆坡 -专利权人：郑州机械研究所
申请日： 2003-09-11 - 公布日： 2005-03-16 - 主分类号： B21H5/02 文献下载
摘要：一种直齿圆柱齿轮冷精密成形工艺及其装置，其特征在于：采用浮动凹模双向镦挤的冷精密成形工艺，使直齿圆柱齿轮在冷作模具材料强度允许应力范围内一步成形出齿形充满的齿轮。其专用装置的模架是上、下两部分，上半部分内有上油缸、滑块、上压板、上冲头，下半部分内有凹模、下压板、下油缸、下冲头。当压力机下行，滑块、上压板和上冲头受上油缸压力下行时，下冲头不动，凹模、下压板由下油缸压力顶住，凹模有相对速度向下浮动，对凹模内坯料实现双向镦挤成形，上、下冲头端面设有凸块，双向镦挤时，凹模内坯料先镦挤出孔，然后上、下冲头再继续双向镦挤直至最终成形。本发明的优点是：一步成形，工艺简单流程短，达到冷精密镦挤的高效、节能、节材的目的。
一种圆柱齿轮精密成形工艺及其装置