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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]晶片处理设备和用于减少处理液的散射的方法-CN202211353004.9在审
发明人：金永珍;崔恩赫;崔叡珍 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-10-31 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供了一种晶片处理设备，包括：晶片支撑装置，用于支撑晶片并且被提供以可旋转；液体排放器，用于将用于处理的液体排放到晶片的正面和背面；处理室，用于提供包围晶片支撑装置的至少一个流入空间，并且被形成在竖直方向上以接收液体；以及控制器，用于将从晶片到流入空间的上端的高度控制为，在将液体排放到晶片的面向所述晶片支撑装置的所述背面的过程中比在将液体排放到晶片的正面的过程中高。
晶片处理设备用于减少散射方法

[发明专利]用于处理基板的设备及方法-CN202211678153.2在审
发明人：朴建熙;韩泳遵;郑喆焕;金大勋;尹盛炫;崔叡珍;崔恩赫;姜兑昊;金永珍 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的用于处理基板的设备包括缓冲单元、反向单元、第一转移腔室、第二转移腔室、第一清洗腔室、及第二清洗腔室。第一转移腔室、反向单元、及第二转移腔室在一个方向上依序配置。第一清洗腔室布置于第一转移腔室的一侧处，且第二清洗腔室布置于第二转移腔室的一侧处。设置于第一转移腔室中的第一主转移机械手在缓冲单元、反向单元、及第一清洗腔室之间直接转移基板。设置于第二转移腔室中的第二主转移机械手在缓冲单元、反向单元、及第二清洗腔室之间直接转移基板。
用于处理设备方法

[发明专利]基板处理液回收单元及具有该单元的基板处理装置-CN202111062729.8在审
发明人： 崔叡珍;方炳善;姜兑昊;文钟元 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明提供清洗效率提高的基板处理液回收单元及具有基板处理液回收单元的基板处理装置。所述基板处理装置包括：基板支承单元，支承基板；以及基板处理液回收单元，围绕基板支承单元，并且回收向基板喷出的基板处理液，并且具有第一回收桶，其中，第一回收桶包括：第一基底，通过第一回收线将基板处理液排出到外部，并且包括设置在基板支承单元的一侧的第三部分和设置在基板支承单元的另一侧的第四部分；第一侧壁，从第一基底的一端向上延伸；第一上板，从第一侧壁的端部向上倾斜地延伸；以及第一内壁，从第一基底的另一端向上延伸，其中，第三部分和第四部分具有不同的高度。
处理回收单元具有装置

[发明专利]支撑单元、包括其的衬底处理装置以及衬底处理方法-CN202011073898.7在审
发明人： 崔叡珍;金大勋;尹嫝燮 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-10-09 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种用于支撑衬底的支撑单元。支撑单元可包括：具有内部空间的支撑板；加热构件，其布置在内部空间中并发射用于加热由支撑单元支撑的衬底的光；以及反射构件，其设置在支撑板的边缘区域处并且将光所具有的热能反射到由支撑单元支撑的衬底的边缘区域。
支撑单元包括衬底处理装置以及方法

[发明专利]基板处理装置-CN202010700754.3在审
发明人：李茂贤;朴贵秀;方炳善;崔重奉;李映一;尹嫝燮;罗丞殷;崔叡珍;金坰焕 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-07-20 - 公布日： 2021-01-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：用于处理基板的装置包括：处理腔室，在处理腔室中限定有处理空间；用于在处理空间中支撑基板的支撑单元；用于将处理液供应至支撑在支撑单元上的基板的液体供应单元；以及加热单元，其设置在支撑单元中用于加热支撑在支撑单元上的基板，其中加热单元包括：用于加热基板的多个灯；以及设置在灯上方以透射从灯发出的光的窗口，其中该窗口包括：板状的基座；和光调节装置，其形成在基座上以扩散或会聚从灯发出的光。
处理装置

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