“山口芳広”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果10个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]激光照射装置、激光照射方法以及半导体器件制造方法-CN201880054960.2有效
发明人：铃木祐辉;藤贵洋;三上贵弘;山口芳広;清水良 -专利权人： JSW阿克迪纳系统有限公司
申请日： 2018-02-16 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：根据一种实施方式的激光照射装置(1)包括用于产生激光的激光生成装置(14)以及用于浮起待施加所述激光的处理对象(16)的浮起单元(10)。所述浮起单元(10)包括第一区域和第二区域，所述第一和第二区域设置为使得在平面视角下，所述激光的焦点与所述第一区域重叠，且所述激光的焦点与所述第二区域不重叠。所述第二区域的表面部分由金属构件形成。
激光照射装置方法以及半导体器件制造

[发明专利]激光照射装置、激光照射方法以及半导体器件制造方法-CN201780053043.8有效
发明人：藤贵洋;铃木祐辉;三上贵弘;山口芳広 -专利权人： JSW阿克迪纳系统有限公司
申请日： 2017-06-02 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：一种实施方式的激光照射装置(1)在通过使用浮起单元(10)使工件(16)浮起的状态下传送该工件(16)的同时，以激光束(15)照射该工件(16)。该浮起单元(10)包括高精度浮起区域(11a，11b)和低精度浮起区域(13a～13j)。所述高精度浮起区域(11a，11b)设置为通过喷气和吸气使所述工件(16)浮起，而所述低精度浮起区域设置为通过喷气但不吸气的方式使所述工件(16)浮起。
激光照射装置方法以及半导体器件制造

[发明专利]激光照射装置-CN202210054870.1在审
发明人：今村博亮;藤贵洋;山口芳広 -专利权人：株式会社日本制钢所
申请日： 2017-08-18 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： B23K26/00 文献下载
摘要：本发明公开一种激光照射装置，包括：一激光生成装置，用于生成待施加于处理对象的激光；一浮起单元，用于浮起所述处理对象；一保持机构，用于通过将所述处理对象吸附于一吸附表面上而保持所述处理对象；以及一移动机构，用于移动所述保持机构，其中，所述保持机构的所述吸附表面由在一平面视角下具有相同形状的多个吸附区域形成，所述多个吸附区域中的每一个包括：在所述平面视角下具有直线形状的第一凹槽以及与所述第一凹槽交叉的第二凹槽；第三凹槽，所述第三凹槽连接所述第一和第二凹槽中的每一个的一端并且在所述平面视角下具有直线形状；以及第四凹槽，所述第四凹槽连接所述第一和第二凹槽中的每一个的另一端并且在所述平面视角下具有直线形状。
激光照射装置

[发明专利]激光照射装置、激光照射方法以及半导体器件制造方法-CN201780088210.2有效
发明人：今村博亮;藤贵洋;山口芳広 -专利权人：株式会社日本制钢所
申请日： 2017-08-18 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：根据一种实施方式的激光照射装置(1)包括：用于生成激光的激光生成装置(14)；用于浮起待施加激光的处理对象(16)的浮起单元(10)；以及用于传送已浮起的所述处理对象(16)的传送单元(11)。所述传送单元(11)包括：通过吸附所述处理对象(16)而保持该处理对象(16)的保持机构(12)；以及用于沿传送方向移动所述保持机构(12)的移动机构(13)。所述保持机构(12)包括：含多个通孔(152)的底座(153)；分别与所述多个通孔(152)连接的多条管道(145)；用于排空所述多条管道(145)的真空生成装置(144)；以及分别设于所述多条管道(145)中央的多个吸附辅助阀(150)，每个该吸附辅助阀(150)均设置为当经相应通孔(152)流入相应管道(145)内的气体流量大于或等于阈值时关闭。
激光照射装置方法以及半导体器件制造

[发明专利]悬浮运输设备和激光处理设备-CN202110174295.4在审
发明人：藤贵洋;山口芳広 -专利权人：株式会社日本制钢所
申请日： 2021-02-07 - 公布日： 2021-08-27 - 主分类号： B65G54/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种悬浮运输设备和激光处理设备。根据一实施方式的悬浮运输设备包括悬浮单元，该悬浮单元用于通过将气体喷射到基板的下表面来悬浮基板。悬浮单元包括：多个喷射口，设置在面对基板的表面上并被构造成喷射气体；以及狭缝，沿竖直方向穿透悬浮单元。悬浮运输设备被构造成使得滞留在悬浮单元的面对基板的表面与基板之间的气体经由狭缝被排放到悬浮单元的下表面侧。
悬浮运输设备激光处理设备

[发明专利]悬浮运输设备和激光处理设备-CN202110182770.2在审
发明人：藤贵洋;山口芳広 -专利权人：株式会社日本制钢所
申请日： 2021-02-07 - 公布日： 2021-08-27 - 主分类号： B65G54/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种悬浮运输设备和激光处理设备。根据一实施例的悬浮运输设备用于通过将气体喷射到基板的下表面来使基板漂浮的同时运输基板。悬浮运输设备包括：多个喷射口，构造成将气体喷射到基板；下游流路，构造成将气体供给到多个喷射口；上游流路，构造成将气体供给到下游流路；以及气体供给口，构造成将气体供给到下游流路。上游流路的截面积被构造成大于下游流路的截面积。
悬浮运输设备激光处理设备

[发明专利]悬浮运输装置和激光处理装置-CN202110046408.2在审
发明人：藤贵洋;山口芳広;永井岳志 -专利权人：株式会社日本制钢所
申请日： 2021-01-13 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： B65G49/06 文献下载
摘要：本发明涉及悬浮运输装置和激光处理装置，根据实施例的悬浮运输装置在将气体喷射到基板的下表面来使基板浮置的同时运输基板。悬浮运输装置包括设置在基板侧的上板，该上板包括用于喷射气体的多个喷射口，以及设置在上板下方的下板。在上板和下板中的至少一个上设置有用于向多个喷射口供应气体的流路。
悬浮运输装置激光处理

[发明专利]激光处理装置和半导体器件制造方法-CN201980016879.X在审
发明人：铃木祐辉;山口芳広;藤贵洋;三上贵弘 -专利权人：株式会社日本制钢所
申请日： 2019-03-25 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：根据一实施方式的激光处理装置(1)包括激光照射单元(20)和能够使基板(31)漂浮和运送的运送台(40)。运送台(40)包括：激光照射区域(50)，在该区域中，从激光照射单元(20)照射的激光(21)将基板(31)照射；基板运送区域(60)，其与激光照射区域(50)分开；其中，所述激光照射区域(50)的面对所述基板(31)的表面由第一部件构成，第一气体能够从所述第一部件喷出而使所述基板(31)漂浮；所述基板运送区域(60)的面对所述基板(31)的表面由多个第二部件构成，第二气体能够从所述第二部件喷出而使所述基板(31)漂浮；所述基板运送区域(60)中的所述多个第二部件彼此分开布置。
激光处理装置半导体器件制造方法

[发明专利]激光处理装置、激光处理方法和半导体器件制造方法-CN201880085876.7在审
发明人： 山口芳広;泽井美喜;谷川贞夫;佐塚祐贵;小林直之 -专利权人：株式会社日本制钢所
申请日： 2018-10-30 - 公布日： 2020-09-04 - 主分类号： H01L21/20 文献下载
摘要：根据本发明实施例的激光处理装置(1)包括：处理室(18)，用于对待处理物(40)执行激光处理；台架(10)，用于转移该待处理物(40)，且设置在处理室(18)内；以及控制单元(50)，将待处理物(40)在台架(10)上的放置位置指示给装载/卸载装置(30)，装载/卸载装置(30)被配置为将待处理物(40)装载入/卸载出处理室(18)。此外，处理室(18)包括用于装载待处理物(40)的装载门(17a)和用于卸载待处理物(40)的卸载门(17b)，并且待处理物(40)只在从装载门(17a)向卸载门(17b)的第一方向上被运送于台架(10)上。
激光处理装置方法半导体器件制造

[发明专利]激光照射装置、激光照射方法以及半导体器件制造方法-CN201780055165.0在审
发明人：三上贵弘;藤贵洋;铃木祐辉;山口芳広 -专利权人：株式会社日本制钢所
申请日： 2017-06-02 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：根据本发明一种实施方式的激光照射装置(1)具有：生成激光束的激光生成装置(14)；使待由所述激光束照射的工件(16)浮起的浮起单元(10)；以及对所述已浮起工件(16)进行传送的传送单元(11)。所述传送单元(11)在不与所述激光束的照射位置(15)交叠的位置处将所述工件(16)保持于其上的同时，对该工件(16)进行传送。采用本发明一种实施方式的激光照射装置(1)可减小激光束的不均匀照射。
激光照射装置激光束传送单元浮起传送半导体器件制造激光生成装置激光束照射浮起单元激光照射照射位置不均匀位置处减小交叠照射

1
共 10 条