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[发明专利]丙烯酸树脂组合物、其成型体、制膜方法及丙烯酸树脂膜-CN201280036146.0无效
发明人： 山口优子;大姶良和哉;阿部纯一 -专利权人：三菱丽阳株式会社
申请日： 2012-05-31 - 公布日： 2014-04-02 - 主分类号： C08L51/00 文献下载
摘要：一种包含含有橡胶的多段聚合物(I)100质量份和热塑性聚合物(II)0～10质量份的丙烯酸树脂组合物，特征在于，满足(1)基于ISO178，在温度23℃、试验速度2mm/min下测定的成型体的弯曲弹性模量的值为400MPa以下，(2)在动态粘弹性测定装置的拉伸模式下测定的、在80℃以上的区域出现的峰的值为85℃以上，(3)毛细管直径φ=1mm、L/D=16、温度230℃的条件下，以固定速度(1.57cm3/min)挤出丙烯酸树脂组合物，以固定速度(10m/min)牵拉其线料时的熔体张力的值为0.03N以上的、具有高耐候性、柔软性、耐热性的丙烯酸树脂组合物。
丙烯酸树脂组合成型方法

[发明专利]丙烯酸树脂组合物以及丙烯酸树脂成型体-CN201080061888.X有效
发明人： 山口优子;阿部纯一;末村贤二 -专利权人：三菱丽阳株式会社
申请日： 2010-12-27 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： C08F265/06 文献下载
摘要：本发明提供一种丙烯酸树脂组合物及其成型体，该丙烯酸树脂组合物的流动性高，熔融粘度低，不在成型机内滞留，能够以高速长时间地连续成型，另外能够得到不损害外观、机械强度等本来的性质且抑制了白化的发生的成型体。本发明的丙烯酸树脂组合物是在弹性聚合物的存在下，将含有具有碳原子数为1～4的烷基的甲基丙烯酸烷基酯的单体进行聚合而得到的丙烯酸树脂组合物，其满足特定的流动性和拉伸强度试验后的光的透射率，所述弹性聚合物是将从具有碳原子数为1～8的烷基的丙烯酸烷基酯和具有碳原子数为1～4的烷基的甲基丙烯酸烷基酯中选择的任意1种或2种以上与接枝交叉剂进行聚合而得到的。
丙烯酸树脂组合以及成型

[发明专利]对丙烯酸树脂膜赋予压凸印形状的方法-CN201080056611.8有效
发明人：阿部纯一;末村贤二;山口优子 -专利权人：三菱丽阳株式会社
申请日： 2010-12-15 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： B29C59/02 文献下载
摘要：本发明公开了在下式(1)表示的温度T[℃]下用凹凸模具对丙烯酸树脂膜赋予压凸印形状的方法，温度T[℃]下的丙烯酸树脂膜在测定频率0.1Hz下的储能模量（E'）为0.20～0.36MPa，在下述评价方法中的断裂伸长率为100%以上，该方法压凸印形状赋予性、膜的处理性、从模具的剥离性良好。＜式(1)＞TD＋25℃≤T≤TD＋50℃(TD：丙烯酸树脂膜的热变形温度)＜断裂伸长率的评价方法＞试验片：厚度50μm、宽15mm的膜状物，拉伸试验条件：初期的夹具间距50mm、拉伸速度500mm/分钟、温度23℃。
丙烯酸树脂赋予压凸印形状方法

[发明专利]抗反射膜和曝光方法-CN200610073937.7无效
发明人：松泽伸行;渡辺阳子;布恩塔里卡·桑纳卡特;小泽谦;山口优子 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2006-02-28 - 公布日： 2006-09-06 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：一种抗反射膜，其中，在浸液式平版印刷技术中，即使在曝光光线倾斜进入的地方，也能够在抗蚀剂层和硅衬底之间的界面处获得充分降低的反射率。两层抗反射膜用在通过波长为190－195nm并且数值孔径为1.0或更小的曝光系统的曝光中，并且形成于抗蚀剂层与硅衬底之间。抗反射膜的上层和下层的复折射率N₁和N₂以及膜厚度分别是由n₁－k₁i，n₂－k₂i和d₁，d₂表示的，并且选择值[n₁₀，k₁₀，d₁₀，n₂₀，k₂₀，d₂₀]的预定组合，n₁，k₁，d₁，n₂，k₂和d₂满足{(n₁－n₁₀)/(n_1m－n₁₀)}²+{(k₁－k₁₀)/(k_1m－k₁₀)}²+{(d₁－d₁₀)/(d_1m－d₁₀)}²+{(n₂－n₂₀)/(n_2m－n₂₀)}²+{(k₂－k₂₀)/(k_2m－k₂₀)}²+{(d₂－d₂₀)/(d_2m－d₂₀)}²≤1。
反射曝光方法

[发明专利]形成图形的方法-CN200510134618.8有效
发明人：下村幸司;木下义章;船户觉;山口优子 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社
申请日： 1999-04-05 - 公布日： 2006-08-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种形成具有高分辨率和高精确度的蚀刻图形的方法，该方法防止在有机抗反射膜和光敏感材料膜之间的界面中形成反应产物，并在蚀刻后减少了已蚀刻膜的残余物。在半导体基质10上形成由多晶硅组成的可蚀刻膜11，有机抗反射膜12，和由化学放大抗蚀剂制成的光敏材料膜13，该抗蚀剂含有(a)一种鎓盐化合物和(b)至少一种磺酸酯化合物。通过掩模14对光敏材料膜13曝光并显影以形成已摹制的光敏材料膜13b 。其后用SO₂－O₂混合气体干法蚀刻抗反射膜，并且干法蚀刻已蚀刻的膜以形成蚀刻膜的图形。
形成图形方法

[发明专利]含有鎓盐型光敏酸发生剂的化学增强辐射敏感组合物-CN99801309.9有效
发明人：格奥尔格·帕夫洛夫斯基;冈崎博;木下义章;津釜奈保子;菱田有高;马晓明;山口优子 -专利权人：克拉瑞特金融（BVI）有限公司
申请日： 1999-08-09 - 公布日： 2004-07-28 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种化学增强辐射敏感组合物，通过一种成膜的羟基苯乙烯基树脂与产生氟化链烷磺酸的鎓盐前体(光敏酸发生剂)混合，提供了该组合物。该组合物不会由于除气引起设备的腐蚀，也没有T形顶图案轮廓，也没有因加工时间延迟产生显著的线宽变化，另一方面，它具有高灵敏性和分辨率，和良好的图形轮廓及稳定性。
含有鎓盐型光敏发生化学增强辐射敏感组合