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[发明专利]稀溶液制造装置-CN202080060382.0在审
发明人： 小川祐一 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2020-09-15 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： B01F23/40 文献下载
摘要：本发明提供一种稀溶液制造装置，向超纯水等第一液体中微量添加含导电性赋予物质或氧化还原电位调整物质的第二液体，能够稳定制造规定浓度的稀溶液。稀溶液制造装置通过向第一液体添加含导电性赋予物质和氧化还原电位调整物质中的至少一方的第二液体来制造该第二液体的稀溶液，其中，具备：第一配管(1)，流过所述第一液体；泵(6)，经由第二配管(5)向所述第一配管(1)内添加所述第二液体；脱气配管(8)，从该泵(6)脱气；水质传感器(11)，由导电率计、电阻率计或氧化还原电位计构成；以及控制装置(12)，在该水质传感器(11)的水质检测值变动规定值以上时打开脱气阀(9)。
溶液制造装置

[发明专利]稀药液制造装置-CN202080020215.3在审
发明人：杉田航;小川祐一 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2020-02-18 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： B01F1/00 文献下载
摘要：稀药液制造装置(1)具有从药液储槽供给药液(S)的柱塞泵以及药液供给管(3)。药液供给管(3)的末端为药液(S)的注入点(11)。该药液供给管(3)经由穿孔接头(13)插入到作为第一配管的超纯水流路(12)的径向的大致中央。而且，在比作为注入点(11)的穿孔接头(13)更靠下游侧设有作为电导率测量机构的电导率计(14)，其与前述控制机构(图中未示出)连接，根据电导率计(14)的测定值，能够控制柱塞泵(4)。只要是这种稀药液制造装置，能够以简单的结构稳定地制造极低酸、碱等浓度的稀药液。
药液制造装置

[发明专利]过硫酸溶液制造供给装置及方法-CN201780010114.6有效
发明人： 小川祐一 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2017-03-07 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： C25B15/08 文献下载
摘要：本发明提供一种过硫酸溶液制造供给装置及方法，其能缩短半导体晶片清洗装置中的过硫酸溶液的更换时间。在通过第1电解系统(20)向清洗槽(11)循环供给过硫酸溶液的期间，水和硫酸导入第2电解系统的贮存槽(41)，并且通过泵(44)、配管(45)、电解单元(50)、气液分离器(52)、配管(53)而循环，由此生成过硫酸。在进行化学变化时，在从第1电解系统(20)排液之后，将贮存槽(41)内的过硫酸溶液移送至贮存槽(22)。
硫酸溶液制造供给装置方法

[发明专利]导电性水溶液的制造装置和导电性水溶液的制造方法-CN201780084670.8在审
发明人： 小川祐一 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2017-03-09 - 公布日： 2019-09-13 - 主分类号： C02F1/68 文献下载
摘要：导电性水溶液制造装置(1)具有在供给作为原料水的超纯水(W)的主配管(11)的中途上设置的离子交换装置(2)、在该主配管(11)的离子交换装置(2)的下游侧合流的供给管(12)、以及导电性赋予物质供给装置(3)。对于离子交换装置(2)中填充的离子交换体而言，例如，在导电性赋予物质是氨的情况下，上述离子是阳离子，也就是说，是铵离子(NH₄⁺)，因此，优选填充阳离子交换树脂。此外，在导电性赋予物质是二氧化碳的情况下，上述离子是阴离子，也就是说，是碳酸氢离子(HCO₃^‑)或碳酸离子(CO₃^2‑)，因此，优选填充阴离子交换树脂。所述导电性水溶液制造装置能够以稳定的浓度制造导电性水溶液，对于浓度的变更追随性优异。
导电性离子交换装置制造装置填充主配管优选离子赋予阳离子交换树脂阴离子交换树脂物质供给装置离子交换体碳酸氢离子碳酸离子超纯水供给管阳离子阴离子原料水追随性铵离子二氧化碳合流制造变更

[发明专利]氨水溶液的制造装置及氨水溶液的制造方法-CN201780084672.7在审
发明人： 小川祐一 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2017-03-09 - 公布日： 2019-09-10 - 主分类号： C02F1/68 文献下载
摘要：本发明的氨水溶液制造装置，通过从氨供给装置向从超纯水制造装置供给的超纯水中供给氨并使氨溶解来制造稀氨水溶液，并将该稀氨水溶液供给至使用点。在此，超纯水制造装置具有供给电阻值为18MΩcm以上、金属离子浓度为1ng/L以下、尤其是0.1ng/L以下的超纯水W的能力。然后，从氨供给装置向超纯水W中添加氨来制造稀氨水。该氨水溶液制造装置，适合于制造氨(铵离子)浓度为100mg/L以下、尤其是50mg/L以下的稀氨水。这种氨水溶液制造装置，能够以稳定的浓度制造氨水溶液，对浓度的改变的追随性优异。
氨水溶液制造装置制造超纯水制造装置稀氨水溶液供给装置超纯水稀氨水金属离子氨溶解使用点追随性铵离子电阻水中

[发明专利]氧化剂浓度的测定方法及测定装置以及电子材料洗净装置-CN201680002983.X在审
发明人：森田博志;小川祐一;佐佐木友野 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2016-01-06 - 公布日： 2017-08-18 - 主分类号： G01N31/00 文献下载
摘要：不受金属等混入杂质影响，而简便且稳定地准确测定电子材料的洗净工序中使用的氧化性洗净液中的氧化剂浓度。一种氧化剂浓度的测定方法，其在测定用作电子材料洗净工序的洗净液的试样液中的氧化剂浓度时，使试样液中的氧化剂的至少一部分通过加热等而分解，测定因氧化剂的分解而产生的氧气的释放量，基于该测定值求出试样液的氧化剂浓度。
氧化剂浓度测定方法装置以及电子材料洗净

[发明专利]半导体基板清洗系统及半导体基板的清洗方法-CN201480011208.1有效
发明人： 小川祐一 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2014-02-28 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种从具有以Si为构成成分的层的半导体基板上除去铂和/或铂合金的半导体基板的清洗方法，该方法能够不损伤Al或硅化物膜、Si系绝缘膜、Si系基板等而进行有效的清洗。该方法是从具有以Si为构成成分的层的半导体基板上除去铂和/或铂合金的半导体基板的清洗方法，包括使含有以硝酸和/或过氧化氢为主要溶质的第1溶液与所述半导体基板接触而进行清洗的第1清洗工序，和使含有包含氧化剂的硫酸溶液和卤化物、且温度为25～100℃的第2溶液与经过第1清洗工序的所述半导体基板接触而进行清洗的第2清洗工序。
半导体清洗系统方法

[发明专利]半导体基板的清洗方法以及清洗系统-CN201380043869.8有效
发明人： 小川祐一;山川晴义 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2013-08-19 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：实现对于至少露出一部分TiN的经硅化处理后的半导体基板(100)进行有效的清洗，而不会损伤TiN或硅化层。对于至少露出一部分TiN的经硅化处理后的半导体基板进行清洗时，具有以下工序：过硫酸生成工序，该过硫酸生成工序将清洗用硫酸溶液流通至电解部(2)，并使之循环，通过在所述电解部(2)发生的电解反应，生成规定浓度的过硫酸；溶液混合工序，该溶液混合工序将过硫酸生成工序中获得的含有过硫酸的硫酸溶液和含有一种以上的卤化物离子的卤化物溶液在不流通至电解部(2)的状态下进行混合，混合后生成含有过硫酸的氧化剂浓度为0.001～2mol/L的混合溶液；加热工序，该加热工序对混合溶液进行加热；以及清洗工序，该清洗工序运送加热后的混合溶液，使之接触半导体基板(100)并进行清洗。
半导体清洗方法以及系统

[发明专利]帐票显示系统、帐票显示程序及注释显示方法-CN201080032336.6无效
发明人：弥生隆明;洲崎智子;小川祐一;三轮臣弘;新藤弘辅 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2010-09-10 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： G06Q10/10 文献下载
摘要：预先登记对帐票数据进行画面显示所用的版面信息来作为显示区域，比较光标的当前位置和显示区域之间的对应关系。按各帐票数据的每个预先登记注释格式，确定与光标位置所示的帐票数据对应的注释格式来制作注释显示数据，在光标位置的附近显示注释。其目的为，通过将表示当前显示的帐票数据之意思的注释显示于光标位置的附近，来提高由画面尺寸小的移动终端显示帐票等非固定类型式电子数据时的可视性。
显示系统程序注释方法

[发明专利]头戴-耳戴组件及其组装方法-CN201080027968.3有效
发明人：格伦·D·奥希玛;小川祐一;岛谷浩 -专利权人： 3M创新有限公司
申请日： 2010-04-01 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： A61F11/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种头戴-耳戴组件(100)及其组装方法。所述头戴-耳戴组件可包括适于联接到一起的耳戴件(104)和头戴件(102)。所述耳戴件可包括具有一定长度的诸如绳索的细长构件(106)和联接到所述细长构件的耳戴零件(108)。所述头戴件可包括主表面(112)和被取向为基本沿着所述头戴件的主表面的凹槽(120)。所述凹槽可被构造为可拆卸地容纳所述细长构件的至少一部分长度。所述方法可包括将所述细长构件的至少一部分布置在所述凹槽中，使得所述细长构件的至少一部分被可拆卸地容纳在所述凹槽中。
组件及其组装方法

[发明专利]聚合物纤维体、其制造方法及流体过滤用过滤器-CN200980111052.3无效
发明人：川胜孝博;小林秀树;小川祐一 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2009-03-25 - 公布日： 2011-02-23 - 主分类号： D04H1/72 文献下载
摘要：本发明涉及一种含有非电解质聚合物与电解质聚合物且兼具双方性质及优点的杂化聚合物纤维体及其制造方法、和包含该杂化聚合物纤维体的的过滤器。在喷出口(1)与靶(相反表面部)(3)之间，以喷出口(1)侧为正、靶(3)侧为负的方式，施加电压，自喷出口(1)使非电解质聚合物及电解质聚合物的混合溶液朝向靶(3)喷出，在靶(3)上聚集含有非电解质聚合物与电解质聚合物的杂化聚合物纤维体(2)。使用该杂化聚合物纤维体(2)用作流体过滤用的过滤器。
聚合物纤维制造方法流体过滤过滤器

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