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[发明专利]批次型衬底处理装置-CN202310086403.1在审
发明人： 姜盛晧;金苍乭;金濬;柳锡范;郑春植 -专利权人：株式会社尤金科技
申请日： 2023-02-09 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：提供一种通过多个电极产生等离子体以对衬底执行处理工艺的批次型衬底处理装置。批次型衬底处理装置包括反应管、设置成彼此间隔开的多个电极及配置成保护多个电极的电极保护部。多个电极包括彼此间隔开的第一及第二电力供应电极及设置在第一及第二电力供应电极之间的接地电极。电极保护部包括分别设置在第一及第二电力供应电极中的多个第一电极保护管、设置在接地电极中的第二电极保护管以及配置成将多个第一电极保护管中的每一者连接到第二电极保护管的多个连接管以使多个第一电极保护管中的每一者与第二电极保护管彼此连通。
批次衬底处理装置

[发明专利]衬底处理系统-CN201910260988.8有效
发明人： 姜盛晧;金苍乭;崔圭镐 -专利权人：株式会社尤金科技
申请日： 2019-04-02 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本公开提供一种衬底处理系统，包含：第一处理管道和第二处理管道，在第一轴的方向上彼此间隔开以提供彼此独立的处理空间；衬底舟，所述衬底舟上多重地堆叠多个衬底，且所述衬底舟提供到第一处理管道和第二处理管道的处理空间中的每一个；以及第一舟升降单元和第二舟升降单元，分别提供到第一处理管道和第二处理管道以提升衬底舟，其中第一舟升降单元和第二舟升降单元中的每一个包含安置在第一处理管道与第二处理管道之间的空间中的升降轴构件。本公开的衬底处理系统能够在减小其占地面积的同时通过包含多个处理管道来增加衬底处理量。
衬底处理系统

[发明专利]衬底处理设备和衬底处理方法-CN201910226229.X有效
发明人： 姜盛晧;金苍乭;韩星珉;金锡允;崔圣厦 -专利权人：株式会社尤金科技
申请日： 2019-03-25 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开涉及一种衬底处理设备和衬底处理方法，且更确切地说涉及一种配置成在衬底上沉积均一薄膜的衬底处理设备和衬底处理方法。根据示范性实施例的衬底处理设备包含：反应管，具有形成于其中的内部空间；衬底舟，配置成装载多个载台中的多个衬底，且定位于内部空间中以分隔成在其中分别处理多个衬底的多个处理空间；工艺气体供应部件，配置成将工艺气体供应到多个处理空间；以及稀释气体供应部件，配置成供应用于稀释多个处理空间内的工艺气体的稀释气体。本公开可提供一种可使得分别沉积于衬底舟上所装载的多个衬底上的薄膜的厚度均一的衬底处理设备和衬底处理方法。
衬底处理设备方法

[发明专利]用于处理衬底的装置-CN201810423887.3有效
发明人： 姜盛晧;金苍乭;李相敦 -专利权人：株式会社尤金科技
申请日： 2018-05-04 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开涉及一种用于处理衬底的装置，且更具体来说涉及一种能够允许衬底处理气体在衬底上顺畅地流动的用于处理衬底的装置。根据示例性实施例的用于处理衬底的装置可通过设置在内部反应管的一侧上的气体供应单元及设置在内部反应管的面对气体供应单元的另一侧上以一直延伸到内部反应管的容置空间中基座的容置区外部的排放管道来形成层流，且控制被供应到衬底上的衬底处理气体的流动。
用于处理衬底装置

[发明专利]批量型等离子体衬底处理设备-CN201810811958.7有效
发明人：赵政熙;李弘源;姜盛晧;金苍乭;崔圭镐 -专利权人：株式会社尤金科技
申请日： 2018-07-23 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种根据示范性实施例的批量型等离子衬底处理设备，包含：第一管件，配置成提供在其中处理多个衬底的处理空间；衬底支撑部件，配置成在处理空间中的第一方向上负载多个衬底；多个气体供应部件，设置有用于供应处理衬底的过程所需的处理气体的供应端口；排气部件，配置成与第一管件连通且将处理空间内部的处理残余物排出到外部；以及等离子体反应部件，设置于第一管件外部，且配置成利用等离子体来分解由气体供应部件供应的处理气体并将分解的处理气体提供到处理空间。
批量等离子体衬底处理设备

[发明专利]批次型等离子体衬底处理装置-CN201811062609.6有效
发明人： 姜盛晧;赵政熙;崔圭镐;李弘源;金苍乭 -专利权人：株式会社尤金科技
申请日： 2018-09-12 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种将在单独的空间中分解的工艺气体供应到处理空间中的批次型衬底处理装置。所述衬底处理装置包括：管材；衬底支撑部件；气体供应管道；排气部件；以及等离子体反应部件，其中所述等离子体反应部件可包括多个电源供应电极部件及接地电极部件。
批次等离子体衬底处理装置

[发明专利]执行深度神经网络学习的方法及其装置-CN201980014452.6在审
发明人： 姜盛晧;权亨达;李天;林润斋 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2019-02-20 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： G06N3/08 文献下载
摘要：编码装置连接至深度神经网络的处理学习的学习电路，并且编码装置配置为执行编码以用于使用边缘序列重新配置深度神经网络的层中的多个边缘的连接或断开连接，其中边缘序列基于随机数序列和丢弃信息生成，丢弃信息指示包括在深度神经网络的层中的多个边缘中的连接边缘与断开连接边缘之间的比率。
执行深度神经网络学习方法及其装置

[发明专利]用于恢复数据的装置、数据收发系统和数据解扰方法-CN201910480298.3在审
发明人：崔东哲;姜盛晧;李俊熙;林韩洁;赵炳旭 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2019-06-04 - 公布日： 2019-12-10 - 主分类号： H04L9/06 文献下载
摘要：公开一种用于恢复数据的装置、数据收发系统和数据解扰方法。一种用于通过对加扰数据进行解扰来生成恢复数据的装置包括：线性反馈移位寄存器，被配置为：接收包括多个边沿的第一时钟并顺序地生成多个种子，其中，所述多个种子包括分别与所述多个边沿中的第一边沿至第N‑1边沿相应的第一种子至第N‑1种子(其中，N是2或大于2的自然数)；种子计算器，被配置为：通过使用第一种子计算与所述多个边沿中的第N边沿相应的第N种子；解扰器，被配置为：通过使用由线性反馈移位寄存器生成的所述多个种子和由种子计算器计算的第N种子，对加扰数据进行解扰。线性反馈移位寄存器还被配置为：通过使用第N种子生成第N+1种子。
线性反馈移位寄存器恢复数据加扰数据配置解扰数据收发系统计算器计算数据解扰种子生成计算器解扰器

[发明专利]进行表面处理工艺的方法和半导体器件及其制造方法-CN201410685562.4有效
发明人：朴栽永;姜盛晧;金基哲;李善英;李汉基;具本荣 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2014-11-25 - 公布日： 2019-07-30 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供进行表面处理工艺的方法和半导体器件及其制造方法。半导体器件的制造方法包括：在基板中形成多个第一凹进区，该基板具有在多个第一凹进区之间的突出的有源区，该突出的有源区具有上表面和侧壁；在多个第一凹进区中形成器件隔离膜，该器件隔离膜暴露出突出的有源区的侧壁的上部分和上表面；以及在突出的有源区的暴露表面上进行第一等离子体处理，其中该等离子体处理利用包含惰性气体和氢气中至少一个的等离子体气体在小于或等于大约700℃的温度下进行。
进行表面处理工艺方法半导体器件及其制造

[发明专利]共享时钟的差分信令接口和相关方法-CN200910170981.3有效
发明人：金年泰;郑地云;姜盛晧;郑顺美 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2009-08-31 - 公布日： 2010-05-26 - 主分类号： G09G3/28 文献下载
摘要：本发明提供了一种共享时钟的差分信令接口、以及将输出数据驱动到显示面板的方法。所述设备包括多个驱动器电路，其中所述多个驱动器电路中的每个驱动器电路分别提供输出数据。所述设备还包括定时控制器，经由多点连接向所述多个驱动器电路提供第一时钟信号，并且经由相应的点到点连接向每个驱动器电路提供相应的差分数据信号。
共享时钟差分信令接口相关方法

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