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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]抗蚀剂组合物-CN200810002256.0有效
发明人： 堀口明;赤井泰之;片山彻 -专利权人：大赛璐化学工业株式会社
申请日： 2008-01-08 - 公布日： 2009-07-15 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种不仅使抗蚀剂制备时的溶解性、显影时抗蚀膜粘附性的特性提高，还使抗蚀剂稳定性提高，且安全性优异的抗蚀剂组合物。该抗蚀剂组合物含有抗蚀剂成分和有机溶剂，所述有机溶剂含有选自(a)由羧酸部分的碳原子数为2～6的羟基多元羧酸酯构成的羟基多元羧酸酯化合物组、(b)由羧酸部分的碳原子数为2～6的乙酰氧基羧酸酯构成的乙酰氧基羧酸酯化合物组以及(c)由羧酸部分的碳原子数为2～6的烷氧基羧酸酯构成的烷氧基羧酸酯化合物组之中的至少1种有机溶剂。
抗蚀剂组合

[发明专利]用于制造叠层电容器的溶剂组合物-CN200810184392.6无效
发明人： 堀口明;赤井泰之;肥后彻;佐佐木晃 -专利权人：大赛璐化学工业株式会社;日新化成株式会社
申请日： 2008-12-10 - 公布日： 2009-06-24 - 主分类号： H01G4/12 文献下载
摘要：本发明提供一种用于制造叠层电容器的溶剂组合物，其和生片的粘合性优良，干燥步骤时不耗费时间，且不易产生片浸蚀现象。一种含有60～95重量％的三乙酸甘油酯的用于制造叠层电容器的溶剂组合物。优选的所述溶剂组合物含有5～40重量％的选自乙酸环烷基酯、一缩二烷撑二醇烷基醚、一缩二烷撑二醇单烷基醚乙酸酯、烷撑二醇芳基醚和萜品醇中的至少一种物质。
用于制造电容器溶剂组合

[发明专利]颜料分散液-CN200810002255.6无效
发明人： 堀口明;赤井泰之;片山彻 -专利权人：大赛璐化学工业株式会社
申请日： 2008-01-08 - 公布日： 2008-07-16 - 主分类号： C09D17/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种颜料分散性和分散用树脂的溶解性优异、涂布性高、能形成透明性和对比度更高的涂膜的颜料分散液。该颜料分散液含有颜料和有机溶剂，该有机溶剂含有选自(a)由羧酸部分的碳原子数为2～6的羟基羧酸酯构成的羟基羧酸酯化合物组、(b)由羧酸部分的碳原子数为2～6的乙酰氧基羧酸酯构成的乙酰氧基羧酸酯化合物组以及(c)由羧酸部分的碳原子数为2～6的烷氧基羧酸酯构成的烷氧基羧酸酯化合物组之中的至少1种有机溶剂。
颜料分散

[发明专利]光刻用清洗剂或冲洗剂-CN200710088926.0无效
发明人： 堀口明;片山彻 -专利权人：大赛璐化学工业株式会社
申请日： 2007-03-26 - 公布日： 2007-10-03 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供对由有机溶剂溶液形成的抗蚀剂、防反射膜或隔光膜等具有良好的溶解性、剥离性的光刻用清洗剂或冲洗剂。该光刻用清洗剂或冲洗剂的特征在于，含有可以具有取代基的乙酸环烷醇酯。还可以含有单丙二醇烷基醚、一缩二丙二醇烷基醚、二缩三丙二醇烷基醚、单丙二醇烷基醚乙酸酯、一缩二丙二醇烷基醚乙酸酯、二缩三丙二醇烷基醚乙酸酯、1，3－丁二醇烷基醚、1，3－丁二醇烷基醚乙酸酯、甘油烷基醚和甘油烷基醚乙酸酯作为有机溶剂。
光刻洗剂

[发明专利]光刻用清洗剂或冲洗剂-CN200610126759.X无效
发明人： 堀口明;片山彻 -专利权人：大赛璐化学工业株式会社
申请日： 2006-09-06 - 公布日： 2007-03-14 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供对抗蚀剂、防反射膜等的溶解性、剥离性好的光刻用清洗剂或冲洗剂。光刻用清洗剂或冲洗剂包含：溶剂A和溶剂B，其中，溶剂A选自(a1)丙二醇－1－烷基醚乙酸酯、(a2)1，3－丁二醇－3－烷基醚乙酸酯及(a3)乙酸烷基酯中的至少1种，溶剂B选自(b1)丙二醇－1－烷基醚及(b2)1，3－丁二醇－3－烷基醚中的至少1种，该清洗剂或冲洗剂与等体积的水混合时可形成均质溶液。
光刻洗剂

[发明专利]生产羧酸的方法和生产羧酸的系统-CN200380101007.2无效
发明人： 堀口明;伊奈智秀;三浦裕幸 -专利权人：大赛璐化学工业株式会社
申请日： 2003-10-03 - 公布日： 2005-12-14 - 主分类号： C07C51/12 文献下载
摘要：在催化体系的存在下，允许含有“n”个碳原子的醇或其衍生物与一氧化碳在反应器3中连续反应，将高bp催化剂组分从获得的反应混合物由催化剂分离塔5分离以得到粗混合物，将粗混合物送到高bp组分分离塔8以分离塔顶馏分和至少包含如下物质的底部馏分：含有“n+2”个碳原子的羧酸，将塔顶馏分送到羧酸分离塔11，和至少在水和羧酸与醇的酯存在下蒸馏以分离至少包含酯和水的塔顶馏分和包含如下物质的底部馏分：含有“n+1”个碳原子的羧酸。将来自羧酸分离塔的塔顶馏分送到醛分离塔14以除去包含醛的塔顶馏分。这样的方法保证通过醇的羰基化从反应混合物有效分离杂质，并容易在更低成本下精制羧酸。
生产羧酸方法系统

[发明专利]抗蚀剂组合物-CN200510055829.2有效
发明人：松田洋和;堀口明;大谷浩司;高桥一史 -专利权人：大赛璐化学工业株式会社
申请日： 2005-03-15 - 公布日： 2005-09-21 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供一种在调制抗蚀剂时的溶解性、抗蚀剂稳定性和安全性都优异的抗蚀剂组合物。所述抗蚀剂组合物包括抗蚀剂成分与有机溶剂，所述有机溶剂是从(a1)烷基碳原子数为2或2以上的一丙二醇烷基醚、(a2)二或三丙二醇烷基醚、(a3)一、二或三丙二醇芳基醚、(a4)1，3－丁二醇或甘油的烷基醚、(b1)烷基碳原子数为3或3以上的乙酸一丙二醇烷基醚酯、(b2)乙酸二或三丙二醇烷基醚酯、(b3)乙酸一、二或三丙二醇芳基醚酯、(b4)乙酸1，3－丁二醇或甘油的烷基醚酯以及(b5)乙酸C_3－4链烷多醇酯中选出的至少1种。
抗蚀剂组合

[发明专利]平版印刷术用洗涤剂及冲洗液-CN200510052666.2无效
发明人：松田洋和;堀口明;大谷浩司;高桥一史 -专利权人：大赛璐化学工业株式会社
申请日： 2005-03-03 - 公布日： 2005-09-07 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：提供一种抗蚀剂等溶解性、剥离性优良的平版印刷术用洗涤剂。该平版印刷术用洗涤剂的主要成分含有：(a1)烷基的碳数为2或2以上的一丙二醇一烷基醚、(a2)一丙二醇二烷基醚、(a3)二或三丙二醇烷基醚、(a4)一、二或三丙二醇芳基醚、(a5)1，3－丁二醇或丙三醇的烷基醚、(b1)烷基的碳数为2或2以上的α型一丙二醇烷基醚乙酸酯、(b2)二或三丙二醇烷基醚乙酸酯、(b3)一、二或三丙二醇芳基醚乙酸酯、(b4)1，3－丁二醇或丙三醇的烷基醚乙酸酯、及(b5)C_3－4链烷多元醇乙酸酯。
平版印刷术洗涤剂冲洗

[发明专利]碳酸二酯的制造方法-CN93118111.9无效
发明人： 堀口明;小田慎吾 -专利权人：大世吕化学工业株式会社
申请日： 1993-08-26 - 公布日： 1998-10-14 - 主分类号： C07C68/00 文献下载
摘要：将甲醇等的醇、一氧化碳和氧，在含有氯化亚铜等的卤原子和铜原子催化剂活性成分载持在活性碳等上的固催化剂存在下，在气相中进行反应。本发明方法的特征是，将供给反应系统气体中的醇含量设定为１—２０容量％，将一氧化碳含量设定为７０—９５容量％。由于醇和一氧化碳含量设定在特定范围内，所以，可以显著地抑制付反应，由醇、一氧化碳和氧高选择率地制成碳酸二酯。
碳酸制造方法

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