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[发明专利]蒸镀装置-CN201811553630.6有效
发明人：吉田雄一;坂内雄也 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2018-12-18 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供一种能够将基板和掩模的相对位置的精度提高的蒸镀装置。具备：保持机构，其在收纳有蒸镀源(51)的蒸镀室(50)内以使非透射性的基板(W)的表面(WF)朝向蒸镀源(51)的状态保持基板(W)，并且在蒸镀源(51)与基板(W)之间保持蒸镀掩模(M)；拍摄部，其从基板(W)的与蒸镀掩模(M)侧相反的一侧对蒸镀室(50)内的基板(W)和蒸镀掩模(M)进行拍摄；上部结构体，其连接到保持机构及拍摄部；下部结构体，其支承上部结构体；以及连接部(59)，其被上部结构体和下部结构体夹着，对上部结构体和下部结构体进行连接，连接部(59)具备抑制振动从下部结构体向上部结构体传递的防振功能。
装置

[发明专利]位置检测装置及蒸镀装置-CN201811108141.X有效
发明人：吉田雄一;坂内雄也;柳堀文嗣;小川庆 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2018-09-21 - 公布日： 2020-09-22 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供一种能够对基板的位置提高检测精度的位置检测装置及蒸镀装置。位置检测装置(10)具备：拍摄部(11)，其拍摄第1像和第2像，该第1像基于由基板(W)的平坦部(Wp1)反射的光形成，该第2像基于由与平坦部(Wp1)连接的斜面部(Wp2)反射的光形成；以及图像处理部(12)，其基于第1像和第2像的对比度提取平坦部(Wp1)和斜面部(Wp2)的边界作为基板(W)的外形的一部分，根据该提取的外形的一部分来确定基板(W)的位置。
位置检测装置

[发明专利]位置检测装置、位置检测方法以及蒸镀装置-CN201810679701.0有效
发明人：吉田雄一;坂内雄也;柳堀文嗣 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2018-06-27 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供能够提高基板位置的检测精度的位置检测装置、位置检测方法以及蒸镀装置。图像处理部(20)根据正面摄像部的各照相机(11)对基板标记(Wm)进行摄像的结果算出正面摄像部的照相机(11)间的相对位置，并使用该照相机(11)间的相对位置和正面摄像部的各照相机(11)对处理基板(W)进行摄像的结果算出基于正面摄像的处理基板(W)的位置，并且根据背面摄像部的各照相机(12)对基板标记(Wm)的透射图像进行摄像的结果算出背面摄像部的照相机(12)间的相对位置，并使用该照相机(12)间的相对位置和背面摄像部的各照相机(12)对处理基板(W)进行摄像的结果算出基于背面摄像的处理基板(W)的位置。
位置检测装置方法以及

[发明专利]间隙计量方法-CN201711430447.2有效
发明人：朝比奈伸一;中尾裕利;吉田雄一;坂内雄也 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2017-12-26 - 公布日： 2019-03-05 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种间隙计量方法，包含：以从掩膜板向基板的方向为上，使基板和掩膜板上下对齐并重叠，并借助接触板将保持装置配置在基板上，从而以夹持该基板的方式将掩膜板保持在接触板上；以在基板的一面内彼此正交的两个方向为X轴方向和Y轴方向，将具有发光元件和受光元件的计量部隔开配置在计量对象物下方；以发光元件发出的光在基板下表面反射的位置为起点，从该起点开始使计量部对计量对象物在X向和Y向中的至少一个方向上相对进行扫描，在发光元件发出的光在掩膜板发生反射的计量位置从发光元件照射光并由受光元件接收该反射的光，从而取得掩膜板相对于计量部的位移量所对应的扫描数据；以及根据扫描数据和掩膜板的厚度计量基板和掩膜板间的间隙。
掩膜板基板发光元件计量部反射计量计量对象扫描数据受光元件接触板基板下表面保持装置计量位置上下对齐位移量照射光正交的隔开夹持配置扫描

[发明专利]对准装置和对准方法-CN201480004760.8有效
发明人：木村孔;中尾裕利;柴智志;坂内雄也 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2014-01-15 - 公布日： 2017-08-18 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明提供一种使加工掩模和基板位置对准并且精度高地紧贴的技术。在使在分离的状态下进行了位置对准的加工掩模（31）和基板（32）靠近移动来紧贴时，一边进行位置对准一边进行靠近移动。因此，即使在靠近移动中产生位置对准的误差，也能够消除该误差。即使基板（32）的垂下部分与加工掩模（31）接触，也一边进行位置对准一边进一步进行靠近移动。
对准装置方法

[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN201580015142.8在审
发明人：中尾裕利;佐藤诚一;柴智志;坂内雄也;木村孔 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2015-03-10 - 公布日： 2016-11-16 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种在使片状基材以规定速度移动的同时，隔着掩膜供给成膜材料并在基材的一面上以规定图案连续成膜时，可使片状基材的一部分和片状转印基板的一部分以高精度进行位置对准，并且，可降低装置成本和运营成本的成膜装置。具有：以从成膜设备(9)朝向片状基材(Sw)的方向为上，掩膜件移动装置(4)具有片状掩膜件(Sm)的一部分(Sm1)相对于朝一个方向移动的片状基材的一部分(Sw1)在上下方向上距离规定间隔平行移动的平行移动区域形成部(42a、42b)；以及使片状掩膜件与片状基材同步移动的驱动部(42d、DM2)，将平行移动区域形成部和驱动部设置在单一的支架(41)上。
装置方法