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- [发明专利]一种化学理论计算演示装置-CN202210182555.7在审
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周大刚
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西华师范大学
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2022-02-25
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2022-05-24
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B43L21/00
- 本发明提供一种化学理论计算演示装置,涉及化学研究领域。所述一种化学理论计算演示装置包括壳体,所述清洗液箱的下端固定连接有双出转换头;抽液清除机构,所述抽液清除机构设于取液腔上。本发明提供的一种化学理论计算演示装置通过升降板的往复移动带动两个第一磁性活塞在两个取液腔内部往复滑动,使清洗液箱内部的清洗液经过横置清理件自动排出,且内置液轮同时转动带动横置清理件往复移动,即可实现横置清理件自动对演示板进行清理;通过两个第一磁性活塞带动两个第二磁性活塞同时移动至换气腔底部,两个第二磁性活塞错位分离反向移动,即可带动空气经过风干件吹出,使演示板上的残余清洗液快速挥发。
- 一种化学理论计算演示装置
- [发明专利]一种计算机控制的化学机械抛光装置-CN202210181173.2在审
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周大刚
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西华师范大学
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2022-02-25
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2022-05-13
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B24B29/00
- 本发明公开了一种计算机控制的化学机械抛光装置,包括底座,所述底座上端固定连接有液压油缸,所述液压油缸活动端固定连接有安装板,所述安装板上端固定连接有抛光垫,所述底座上端固定连接有U型架,所述U型架内顶部固定连接有电机,所述电机输出端固定连接有圆盘,所述圆盘上安装有固定机构,所述固定机构包括对称固定连接在圆盘下端的多个固定轴,多个所述固定轴下端均固定连接有固定块,所述固定块下端开设有固定槽,所述固定槽内壁对称开设有两个滑槽,两个所述滑槽内壁滑动连接有两个固定杆。本发明中的清洁机构可以快速的将工件表面残留的抛光液和金属污染物清理掉,大大降低了工人的劳动的强度,提高的化学抛光的效率。
- 一种计算机控制化学机械抛光装置
- [发明专利]磨床冷却排屑装置-CN201710096123.3有效
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丛建臣;周大刚;于水鑫;邢军;李兆金;宋文友
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天润曲轴股份有限公司
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2017-02-22
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2019-01-18
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B24B55/03
- 本发明提供一种磨床冷却排屑装置,其解决了现有磨床的排屑一般采用磁性辊式分离排屑装置,主要用于冷却液中粉末状或细屑类的铁屑和钢屑的分离,排屑装置部分砂轮粉末粘附在铁屑上,在磁性作用下随铁屑被排出,但部分砂轮粉末不受磁力吸引仍保留在水箱底,不易清除干净,同时结构复杂,使用成本偏高的技术问题,其设有水箱,水箱内部设有摆动刮屑部件,摆动刮屑部件与驱动部件连接,水箱上还设有运动导轨部件,运动导轨部件能保证摆动刮屑部件在水箱内部沿着设定轨迹运动,摆动刮屑部件在水箱内部沿着设定轨迹运动时能够垂直水箱底部或者倾斜一定角度运动。本发明可广泛应用于金属加工机床的排屑。
- 磨床冷却装置
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