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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种掩膜板的修复方法-CN201910143194.3有效
发明人：张健澄;吴苇 -专利权人：中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2019-02-26 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种掩膜板的修复方法。本发明实施例通过在掩膜板的缺陷上形成堆积结构，以增加缺陷体积，由此，能够增加在清洗过程中缺陷受到的冲击力，并通过清洗所述掩膜板，以移除所述缺陷。可以提高掩膜板的精度。
一种掩膜板修复方法

[发明专利]光刻板及掩模修正方法-CN201711292209.X有效
发明人：张健澄;吴苇;张晨波 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2017-12-08 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻板及掩模修正方法，涉及半导体技术领域。其中在掩模修正方法中，在基底上形成图案化的掩模，根据掩模确定在基底上嵌入散射条的位置，在确定的位置上设置开口，以便将散射条嵌入到开口中。通过将散射条嵌入光刻板的基底中，从而可有效避免散射条对掩模图案的影响，降低沉积损失，提高修正效果，并缩短修正时间。
刻板修正方法

[发明专利]一种光罩的缺陷修复方法及光罩-CN201810779833.0在审
发明人：林大伟;张健澄;吴苇 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2018-07-16 - 公布日： 2020-01-24 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明提供一种光罩的缺陷修复方法及光罩，所述方法包括：提供待修复光罩，所述待修复光罩包括遮光层以及形成在所述遮光层中的透光图案，所述透光图案包括具有缺陷的待修复图案；在所述待修复图案的外侧形成透光的若干散射条，以对所述待修复图案进行光补偿。本发明的方法过程更加容易控制，降低产生二次损伤缺陷的风险，可以提高修复合格率，降低修复循环次数。
光罩修复图案修复透光图案遮光层二次损伤缺陷修复光补偿散射条透光合格率

[实用新型]喷吐装置-CN201520684721.9有效
发明人：张义学;钱芳;吴苇 -专利权人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2015-09-06 - 公布日： 2016-02-03 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种喷吐装置，包括用于输送试剂的横臂、与所述横臂连接用于向待清洗基板喷吐试剂的喷嘴主体以及喷嘴主体驱动装置，清洗待清洗基板时，所述喷嘴主体驱动装置驱动喷嘴主体自转，以使试剂从自转的喷嘴主体中喷出，并在离心力的作用下向外甩，从而扩大试剂喷吐至待清洗基板上的覆盖面，进而实现更易清洗的目的，提高待清洗基板的清洗效果。此外，所述喷嘴主体包括设置在横臂上的喷管以及与喷管连接的喷嘴，其中，所述喷嘴与待清洗基板之间的角度可以调节，同时所述喷嘴上还设置有多个喷孔，进一步扩大了试剂喷吐的覆盖面，从而实现更快速清洗以及试剂喷型可调节的目的，较大地提高了待清洗基板的清洗效果和洁净度。
喷吐装置

[发明专利]一种光掩模图案的修复方法-CN201410222368.2在审
发明人：吴苇;王云海 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2014-05-23 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩模图案的修复方法，所述修复方法包括步骤：提供光掩模，所述光掩模包括透明基板和位于所述透明基板上且具有掩模图案的遮光层，所述掩模图案具有待修复部分；刻蚀所述透明基板，在与所述待修复部分对应的位置形成与待修复部分图案相同的沟槽；沉积修复材料至所述沟槽中，修复所述光掩模图案。本发明通过在所述透明基板中制作沟槽并将修复材料填充在沟槽中，确保修复完成后，修复材料与透明基板稳定结合，使之可以经受高强度的清洗工艺，避免修复材料再次缺损，保证光掩模的可靠性，提高光掩模的产率。
一种光掩模图案修复方法

[实用新型]光罩传送夹具-CN201320878776.4有效
发明人：吴苇 -专利权人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2013-12-27 - 公布日： 2014-06-11 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型揭示了一种光罩传送夹具，用于光罩的转移，包括手柄，一对内手臂及一对外手臂，所述外手臂包围所述内手臂，所述一对内手臂与一对外手臂皆设置于所述手柄的同一端两侧。在移动光罩时，由于具有更多的夹持点，能够有效的保持光罩的稳定性，防止光罩受到损坏。
传送夹具

[发明专利]一种掩膜版修复方法-CN201210413900.X在审
发明人：吴苇 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2012-10-25 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜版修复方法，采用紫外光处理掩膜版的图形缺失修复后产生的halo残余缺陷，利用短波长高能量的紫外光，激发残余缺陷，使其短时间内分解，从而使得halo残余缺陷消失。并且，采用紫外光处理不会对掩膜版的相位层造成损坏，也就降低了处理的风险，同时能够避免残余缺陷在经过实际生产的大量过货使用而变得糟糕，大大延长了使用寿命，节省了生产成本。
一种掩膜版修复方法

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