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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体元件的图案转移的方法-CN02103086.3有效
  • 洪齐元;吴义镳 - 旺宏电子股份有限公司
  • 2002-02-08 - 2003-08-20 - G03F7/20
  • 本发明揭示一种新的半导体元件的图案转移的方法。首先，进行一校调步骤以调整所需的第一光学参数与一第二光学参数，以改变主特征的曝光波峰的两侧峰的位置并使得主特征的曝光波峰与其相邻侧峰相互部分重叠。然后，借助一具有半透光特性的光罩进行一微影工艺步骤以便于图案转移半导体元件，其中，具有半透光特性的光罩能使得侧峰强度约等于主特征的曝光波峰的强度。借此，本发明可缩小解析周期以形成具有较小的临界尺寸(CD)的半导体元件。
  • 半导体元件图案转移方法
  • [发明专利]一种只读码掩模及其应用方法-CN01130309.3有效
  • 张庆裕;吴义镳;洪齐元 - 旺宏电子股份有限公司
  • 2001-11-20 - 2003-05-28 - H01L21/027
  • 本发明提供一种于一光阻层上形成一只读码布植图案的方法，该方法包含有下列步骤提供一表面覆有一光阻层的芯片；提供一投影透镜设于该芯片正上方；提供一预定波长曝光光源，以产生一偶极光线；以及提供一只读码布植掩模，设于该投影透镜与该曝光光源之间，其中该掩模上包含有多个成不规则排列的只读码开口，以及多个辅助开口穿插设置于该多个成不规则排列的只读码开口之间，以使该多个只读码开口以及该多个辅助开口在一x方向上呈现周期性的图案。
  • 一种只读码掩模及其应用方法
  •  1 
  • 共 4 条
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