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[发明专利]曝光方法及其装置-CN201210224380.8有效
发明人：根本佳奈;高桥聪;吉武康裕;丸山重信;吉水惠子 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2012-06-28 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及曝光装置以及其方法。曝光装置的曝光机构，具备：光学积分器，将从光源发射的曝光光转换为多个点光源；准直镜，将透射光学积分器后的曝光光转换为平行光；及反射镜单元，将由准直镜转换为平行光后的曝光光用反射镜反射并照射到掩模上，反射镜单元以二维状排列地装备驱动器，该驱动器推压平面镜的与反射曝光光的面相反一侧的面，控制机构基于反射镜单元的各个驱动器的驱动量控制该驱动器，上述各个驱动器的驱动量是使用与光学积分器的点光源相关的信息而算出的，与光学积分器的点光源相关的信息是从照射到与载置于平台机构的基板的表面相当的位置上的曝光光获得的。
曝光方法及其装置

[发明专利]多晶硅薄膜检查方法及其装置-CN201210156664.8无效
发明人： 吉武康裕;山口清美;岩井进 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2012-05-18 - 公布日： 2012-11-21 - 主分类号： G01N21/896 文献下载
摘要：本发明提供多晶硅薄膜检查方法及其装置。能够光学观察多晶硅薄膜的表面的状态，来检查多晶硅薄膜的结晶状态。多晶硅薄膜检查装置的基板检查部具有：对在表面上形成了多晶硅薄膜的基板照射光的照明单元；拍摄从通过照明单元被照射了光的基板在第一方向上产生的第一一次衍射光的光学图像的第一摄像单元；拍摄从通过照明单元被照射了光的基板在第二方向上产生的第二一次衍射光的光学图像的第二摄像单元；对第一摄像单元拍摄第一一次衍射光的光学图像得到的信号和第二摄像单元拍摄第二一次衍射光的光学图像得到的信号进行处理，来判定在基板上形成的多晶硅膜的结晶状态的信号处理/判定单元。
多晶薄膜检查方法及其装置

[发明专利]基板的品质评价方法及其装置-CN201110393732.8无效
发明人：酒井薰;丸山重信;吉武康裕;山口清美 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2011-12-01 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供基板的品质评价方法及其装置，其在ELA工序中，高速并且与目视检查员的品质评价值或最终画质相匹配。一边使成为评价对象的基板在一个方向上连续地移动，一边拍摄向基板从倾斜方向照射光后由于在基板上形成的多晶硅薄膜而产生的一次衍射光所形成的像来取得一次衍射光像，并且拍摄来自基板的正反射光或透射光的光轴附近的散射光的像来取得光轴附近的散射光像，对该取得的一次衍射光像的图像和光轴附近的散射光像的图像进行处理，提取多个特征，使用该提取的多个特征中的至少一个以上的特征，按照事先设定的评价基准，计算在基板上形成的多晶硅薄膜的品质评价值，来评价在基板上形成的多晶硅薄膜的品质。
品质评价方法及其装置

[发明专利]液晶用取向膜曝光方法及其装置-CN201110193716.4无效
发明人： 吉武康裕;片冈文雄;根本亮二 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2011-07-05 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：一种液晶用取向膜曝光方法及其装置。在对液晶基板的取向膜照射细小间距的线形光图案并沿一个方向扫描时，对取向膜赋予与该扫描方向相应的同样的取向特性，但在现有的透过掩膜照射光图案来进行曝光的方式中曝光时间长，在实用上有瓶颈。本发明中，在对从光源发射的曝光光赋予偏振光特性并使其入射到具有大量微小可动镜面的微镜器件，把通过由微镜器件的微小可动镜面形成的反射图案反射的曝光光的图案经投影光学系统投影到载置在载台上的在表面上形成取向膜的基板上，对取向膜进行曝光的液晶用取向膜曝光方法中，在通过使载台在一个方向上连续移动而在一个方向上连续移动的基板上，曝光的图案以比载台的移动速度慢的速度移动来对取向膜进行曝光。
液晶取向曝光方法及其装置

[发明专利]多晶硅薄膜检查方法及其装置-CN201110040969.8无效
发明人：岩井进;吉武康裕;村松刚 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2011-02-17 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： G01N21/84 文献下载
摘要：本发明提供一种多晶硅薄膜检查方法及其装置。本发明为了能够在光学上观察多晶硅薄膜的表面状态，检查多晶硅薄膜的结晶状态，向在表面上形成了多晶硅薄膜的基板照射光，拍摄从被照射光的多晶硅薄膜的表面产生的一阶衍射光的像，对拍摄到的一阶衍射光的像的图像进行处理，检查多晶硅薄膜的结晶状态，进行图像处理，将检查到的一阶衍射光的像与检查的结果的信息一同显示在画面上。
多晶薄膜检查方法及其装置

[发明专利]有机EL显示器基板的点灯检查设备及其方法-CN201010611724.1无效
发明人：片冈文雄;松浦宏育;吉武康裕 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2010-12-21 - 公布日： 2011-08-31 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明提供一种有机EL显示器基板的点灯检查设备及其方法，即使最终的面板形式是树脂密封结构也能修复像素缺陷，缺陷修复后的像素的可靠性高，或检查修正的处理时间短、或缺陷修正的成功率高，能够实现自动化且生产率高。在本发明中，向具有使有机EL元件的各像素点灯的点灯检查用专用配线以及专用电极极板的主基板的所述专用电极极板供电，使所述各像素点灯，根据所述点灯结果检测所述各像素中未点灯的缺陷像素及其位置。并且，在密封前对所述缺陷像素的异物照射激光来修复缺陷时，根据所述缺陷的位置信息和大小，经由具有使所述激光透过的透光图案的光掩模照射所述缺陷的位置。
有机 el 显示器点灯检查设备及其方法

[发明专利]微镜器件的筛选方法、微镜器件筛选装置以及无掩膜曝光装置-CN201110021679.9无效
发明人： 吉武康裕;根本亮二;上野刚渡 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2011-01-14 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种微镜器件的筛选方法、微镜器件筛选装置以及无掩膜曝光装置。该微镜器件筛选装置用于在无掩膜曝光装置中获得在宽度方向和厚度方向上都无凹陷的线性良好的描画图案。在该微镜器件筛选装置中具备：将照明光照射到微镜器件(2)的微镜(21)的照明系统；使通过微镜(21)产生的衍射光入射到摄像元件(79)的光学系统；以及对通过摄像元件(79)拍摄到的衍射光分布图像进行处理，进行微镜器件(2)为合格品或不合格品的判定的处理系统(9)。
器件筛选方法装置以及无掩膜曝光

[发明专利]邻近曝光装置、其曝光光束形成方法及面板基板制造方法-CN201010215353.5无效
发明人：手塚秀和;土井秀明;根本亮二;吉武康裕;针山达雄 -专利权人：株式会社日立高科技
申请日： 2010-06-25 - 公布日： 2011-01-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明是有关于一种邻近曝光装置、其曝光光束形成方法及面板基板制造方法。本发明围绕着从多个放大透镜(43)到蝇眼透镜(45)为止的光路而设置反射构件(50)。将搭载于底层基板(51)的外周部的半导体发光元件(42)以及与这些半导体发光元件对应的放大透镜(43)配置成，从该半导体发光元件(42)产生并经对应的放大透镜(43)而放大后的光的其中一端在不偏离蝇眼透镜(45)的照射面的规定角度以内而入射至蝇眼透镜(45)。并且，将反射构件(50)配置成，从搭载于底层基板(41)的外周部的半导体发光元件(42)产生并经对应的放大透镜(43)而放大后的光的另一端由该反射构件(50)而反射后，在不偏离蝇眼透镜(45)的照射面的规定角度以内而入射至蝇眼透镜(45)。
邻近曝光装置光束形成方法面板制造

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