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- [发明专利]液晶屏的清洗方法-CN201010232556.5有效
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刘玉岭;高宝红;檀柏梅;黄妍妍
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河北工业大学
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2010-07-21
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2010-11-10
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B08B3/08
- 本发明公开了一种液晶屏的清洗方法，旨在提供一种能够消除有机物及清洗剂残留，消除水基清洗的环保隐患，满足环保要求的清洗方法。在第一槽中放入液晶屏清洗剂，加热到50-60℃，将装有液晶屏的花篮浸泡在第一槽中，配合超声波或兆声作用清洗3-5分钟；在第二槽中放入电化学氧化液，加热到50-60℃，将装有液晶屏的花篮从第一槽中取出放入第二槽中，配合超声波或兆声作用清洗。之后进行三次去离子水配合超声波清洗，再喷淋、烘干。由于在使用清洗剂清洗后采用电化学氧化液配合超声波清洗，能够避免产生大量含有清洗剂的废水，消除了水基清洗的环保隐患，满足环保要求。
- 液晶屏清洗方法
- [发明专利]香菇栽培基质-CN200710190686.5无效
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刘玉岭;何宝富
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姜堰市现代农业科技实验场
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2007-11-29
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2009-06-10
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C05G3/00
- 本发明公开了一种香菇栽培基质，由固态物料和水组成，固态物料的组分和含量(重量)为：夏伐胡桑枝条碎屑35％～40％；棉花秸秆碎屑35％～40％；麦麩皮18％～20％；玉米粉2.5％～3％；蔗糖1％～1.2％；石膏粉1.5％～1.8％，固态物料与水的用量比(重量)为1∶(1.2～1.3)，所述基质为袋装，袋径为18～22cm。本发明用于栽培香菇，充分利用当地农作物废弃资源，因地制宜，不消耗木材，能降低成本，有效提高香菇品质和产量，经济效益比现有基质栽培香菇提高15～20％，有重要推广价值。
- 香菇栽培基质
- [发明专利]一种钨抛光液及其制备方法-CN200610014594.7无效
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仲跻和;刘玉岭
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天津晶岭电子材料科技有限公司
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2006-06-30
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2008-01-02
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C09G1/02
- 一种用于金属钨的抛光液，其特征在于它是由磨料、氧化剂、pH值调节剂、螯合剂和去离子水混合组成，其中磨料占总重量的10％～50％，氧化剂占总重量的0.01％～6％，pH值调节剂占总重量的1％～6％，螯合剂占总重量的0.01％～1％，去离子水占总重量的37％～88.98％，抛光液pH值范围为11～12，粒径为15nm～100nm。其制备方法为取料、过滤净化、搅拌、混合均匀即可。本发明的优越性在于：抛光液是碱性，不腐蚀污染设备，容易清洗；金属层钨抛光速率快，可控性好，抛光后平整性好；使用不含金属离子的螯合剂，对有害金属离子的螯合作用强；工艺简单，成本低。
- 一种抛光及其制备方法
- [实用新型]能消除硅气相外延层中滑移线与高应力区的装置-CN200620026268.3无效
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刘玉岭;张建新
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河北工业大学
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2006-06-02
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2007-08-08
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C30B25/12
- 本实用新型公开了一种能消除硅气相外延层中滑移线与高应力区的装置，旨在提供一种在降低热应力作用的同时还能消除机械应力的影响，以控制和消除外延生长中产生的滑移线和高应力集中区，而且工艺简单，生产效率高的能消除硅气相外延层中滑移线与高应力区的装置。包括基座本体，所述基座本体上设置有安放槽，与所述安放槽底部边缘的距离为1－5mm处设置有最外圈沟槽，最外圈沟槽内的安放槽内设置有互相连通的沟槽。使用本实用新型的装置，在消除热应力的同时还消除了机械应力的影响，其效果超过了SEMI国际标准，达到了控制和消除滑移线与高应力集中区的工艺目的，而且使得工艺简单，便于操作，生产效率高，成本低。
- 消除硅气相外延滑移应力装置
- [发明专利]液晶显示屏电化学清洗方法-CN200610014442.7无效
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刘玉岭;李薇薇;常明;潘鹏
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天津晶岭微电子材料有限公司
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2006-06-23
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2007-01-17
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B08B3/10
- 本发明公开了一种液晶显示屏电化学清洗方法，旨在提供一种利用金刚石膜与清洗剂相结合能够达到较好的清洗效果，而且工艺简单，操作方便，使用寿命长，满足环保要求的液晶显示屏的清洗方法。该方法包括下述步骤：金刚石膜配合清洗剂清洗；清洗剂清洗；金刚石膜清洗；两次水超声漂洗；喷淋；烘干得到高洁净的液晶显示屏。所述清洗剂按体积百分比由下述组分组成：胺碱30％～45％，非离子表面活性剂1％～5％，余量的水。该清洗方法中的金刚石膜结构，可以根据电流控制氧化强度，而且不依赖超声作用，不需要加温。清洗剂为水溶性清洗剂，不但能够去除残留在晶片表面上的有机污染物，还能够去除表面的颗粒或金属离子等污染物。
- 液晶显示屏电化学清洗方法
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