专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种无机电致变色成膜材料及其制备方法-CN202310813285.X在审
  • 储茂友;张碧田;孙静;白雪;刘宇阳;韩沧;孙悦 - 有研资源环境技术研究院(北京)有限公司
  • 2023-07-04 - 2023-09-29 - C04B35/495
  • 本发明提供一种无机电致变色成膜材料及其制备方法,制备方法包括如下制备步骤:S1、对WO3粉体或NiO粉体在400‑500℃下进行煅烧预处理;S2、对煅烧预处理后的WO3粉体或NiO粉体进行冷等静压处理,然后经破碎、球磨造粒处理,形成粒径为45‑55um的造粒粉体;S3、将造粒粉体装入石墨模具中进行冷压,然后转移至真空热压炉内,进行两阶段真空热压烧结并随炉冷却,得到烧结坯体;S4、对烧结坯体进行外形加工、真空退火处理以及表面精磨加工后,获得无机电致变色成膜材料。本发明通过模压成型结合两阶段真空热压烧结工艺,解决WO3或NiO在烧结和加工过程中存在的组分稳定性差以及易出现裂纹和坍塌问题,制备出具有高纯度、高密度的无机电致变色镀膜材料。
  • 一种机电变色材料及其制备方法
  • [发明专利]一种含锂SiOx-CN202010629154.2有效
  • 王星明;刘宇阳;桂涛;王武育;韩沧;白雪;储茂友;段华英 - 有研资源环境技术研究院(北京)有限公司
  • 2020-07-02 - 2023-01-06 - H01M4/38
  • 本发明公开了一种含锂SiOx粉体的制备方法。所述含锂SiOx粉体中的x为0.9<x<1.1,主要成分为SiO、Si、SiO2和含锂化合物,该制备方法包括以下步骤:(1)原料的混合:将高纯Si粉和SiO2粉按一定配比称量,添加一定量的金属锂或者含锂化合物,采用球磨的方法进行混合;(2)含锂SiOx的制备:采用单源蒸发或双源蒸发化学气相沉积法制备含锂SiOx块体;(3)粉体整形:将含锂SiOx块体通过球磨或者气流破碎法进行粉体整形,得到目标含锂SiOx粉体。采用该方法制备SiOx粉体能够有效的实现SiOx材料的预锂化,并能够有效的避免SiOx材料在预锂化过程中的歧化反应。
  • 一种siobasesub
  • [发明专利]一种镀膜用氧化铈颗粒的制备方法-CN202010234167.X有效
  • 白雪;刘宇阳;桂涛;杨磊;王星明;储茂友;韩沧;段华英 - 有研资源环境技术研究院(北京)有限公司
  • 2020-03-27 - 2022-04-15 - C04B35/50
  • 本发明公开了一种镀膜用氧化铈颗粒的制备方法,包括以下步骤:(1)以高纯氧化铈粉体为原料,向其中添加去离子水并进行造粒处理,得到结合紧密的氧化铈片状物;(2)将得到的片状物研磨破碎,并筛分出<0.1mm的预处理粉体;(3)将所得预处理粉体装入胶套中进行冷等静压成型为坯体。(4)将所得坯体按照如下烧结工艺进行烧结:2‑3小时升温到300‑400℃保温1h‑2h,2小时升到600℃‑800℃保温1h‑2h,4小时升温到1000℃‑1200℃保温1h‑2h,4小时升温到1300℃保温1h‑2h,2小时升温至1400℃保温1‑2h,1小时升温到1450‑1550℃保温3h‑5h;(5)冷却得到氧化铈烧结坯料,将坯料进行破碎和筛分得到镀膜用氧化铈颗粒。该方法生产的氧化铈颗粒具有高纯度、高密度、低喷溅等优点。
  • 一种镀膜氧化颗粒制备方法
  • [发明专利]一种碳硅陶瓷靶材的制备方法-CN202010234099.7有效
  • 白雪;刘宇阳;王星奇;杨磊;桂涛;王星明;储茂友;韩沧 - 有研资源环境技术研究院(北京)有限公司;有研科技集团有限公司
  • 2020-03-27 - 2022-02-11 - C04B35/575
  • 本发明公开了一种碳硅陶瓷靶材的制备方法。该制备方法包括以下步骤:(1)根据要制备的靶材的碳硅比,称量石墨粉体、单质硅粉体、SiC粉体,其中单质硅粉体占三者总量的5at%‑15at%;(2)将石墨粉体与单质硅粉体采用卧轴球磨法破碎和混合,得到碳硅预球磨粉体;(3)在碳硅预球磨粉体中添加已称量好的SiC粉体,并置于卧轴球磨罐内球磨混合2小时,得到复合原料粉体;(4)将复合原料粉体筛分后,装入石墨模具中,将模具放在热压炉中,抽真空<500pa时充入氩气,采用前段快速升温、中段液相烧结和高温氩气保护烧结;(5)冷却得到碳硅陶瓷靶材坯料,经加工、清洗、烘干得到碳硅陶瓷靶材。本发明制备的碳硅陶瓷靶材的相对密度大于90%,硅掺杂含量误差+/‑1at%,电阻率低于0.05Ω·cm,适用于溅射制备DLC薄膜。
  • 一种陶瓷制备方法
  • [发明专利]一种高致密度ZrB2-CN201710647330.3有效
  • 王星明;杨磊;桂涛;白雪;刘宇阳;储茂友;彭程 - 北京有色金属研究总院
  • 2017-08-01 - 2020-09-15 - C04B35/58
  • 本发明属于超高温陶瓷材料制备技术领域,提供了一种高致密度ZrB2陶瓷的制备方法。该方法具体步骤为:首先采用碳热还原法和自蔓延法分别制备ZrB2粉体,再将自蔓延法制备的ZrB2粉体作为添加剂按一定比例与碳热还原法制备的ZrB2粉体均匀混合作为原料粉体,最后将该原料粉体装入高强石墨模具中,真空热压烧结实现ZrB2陶瓷的深度致密化。本发明提供的制备方法工艺简单,成本低,可操作性强,易于实现工业化生产,热压烧结过程无须添加烧结助剂,得到的ZrB2陶瓷相结构单一、纯度高、致密度高。
  • 一种致密zrbbasesub

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