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[发明专利]紫外线照射装置及紫外线照射方法-CN201610622675.9有效
发明人：稻尾吉浩;小西清孝;佐藤晶彦;细田浩 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2016-08-01 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及紫外线照射装置及紫外线照射方法。本发明的课题在于提供一种可抑制在收容部内产生粒子、保持基板清洁的紫外线照射装置。本发明的紫外线照射装置包括：收容部，所述收容部可在密闭空间内收容基板；照射部，所述照射部被设置于上述收容部的外部，可向上述基板照射紫外线；和移动部，所述移动部被设置于上述收容部的外部，使上述照射部在上述收容部的外部移动，以使得从上述收容部的外部向被收容在上述收容部的内部的上述基板照射上述紫外线。
紫外线照射装置方法

[发明专利]紫外线照射装置、抗蚀剂图案形成装置、紫外线照射方法及抗蚀剂图案形成方法-CN201610643283.0有效
发明人：稻尾吉浩;小西清孝;佐藤晶彦;细田浩 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2016-08-08 - 公布日： 2020-09-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及紫外线照射装置、抗蚀剂图案形成装置、紫外线照射方法及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供可得到同时实现透光性及耐热性的可靠性高的图案的紫外线照射装置、抗蚀剂图案形成装置、紫外线照射方法及抗蚀剂图案形成方法。本发明涉及紫外线照射装置，其具有：收容部，可在密闭空间内收容基板；照射部，向基板照射紫外线；加热部，被设置在收容部内，对基板进行加热；和升降部，可使基板相对于加热部升降，照射部实施第1照射动作和第2照射动作，所述第1照射动作向未经加热的状态的基板照射紫外线，所述第2照射动作在第1照射动作后、向已被加热的状态的基板照射紫外线，在第1照射动作中，升降部使基板从加热部退避至上方。
紫外线照射装置抗蚀剂图案形成方法

[发明专利]紫外线照射装置及紫外线照射方法-CN201710035291.1有效
发明人：稻尾吉浩;佐藤晶彦;小针伦;小西清孝;细田浩 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2017-01-17 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及紫外线照射装置及紫外线照射方法。本发明的课题是提高将照射部的热排出的配管的寿命。实施方式的紫外线照射装置包括：照射部，所述照射部能向基板照射紫外线；排气部，所述排气部具有能排出所述照射部的热的配管；和移动部，所述移动部能使所述照射部及所述配管同步移动。
紫外线照射装置方法

[发明专利]粘贴装置-CN201380007025.8有效
发明人：岛井太;佐藤晶彦;丸山健治;细田浩;千叶正树 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2013-02-28 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：通过在一条流水线上进行向薄膜涂敷粘接剂以及向基板粘贴薄膜而高效率地进行粘贴作业。粘贴装置(100)具备用于输送薄膜(60)的输送部(104)、将涂敷液(N)涂敷于薄膜的涂敷部(106)、将涂敷有涂敷液的薄膜切断为规定长度的切割器(48)以及将薄膜粘贴于基板(1)的粘贴部(105)。
粘贴装置

[发明专利]粘贴装置-CN201610374204.0在审
发明人：岛井太;佐藤晶彦;丸山健治;细田浩;千叶正树 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2013-02-28 - 公布日： 2016-08-31 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种粘贴装置。通过在一条流水线上进行向薄膜涂敷粘接剂以及向基板粘贴薄膜而高效率地进行粘贴作业。粘贴装置(100)具备用于输送薄膜(60)的输送部(104)、将涂敷液(N)涂敷于薄膜的涂敷部(106)、将涂敷有涂敷液的薄膜切断为规定长度的切割器(48)以及将薄膜粘贴于基板(1)的粘贴部(105)。
粘贴装置

[发明专利]涂布装置以及涂布方法-CN201410060035.4在审
发明人：岛井太;佐藤晶彦;丸山健治;细田浩;千叶正树 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2014-02-21 - 公布日： 2014-08-27 - 主分类号： B05B5/04 文献下载
摘要：本发明提供一种涂布装置，其中，具备：涂布喷嘴，其向基板涂布涂布液；气体供给部，其供给对涂布液向基板的喷出方向进行控制的调温气体。
装置以及方法

[发明专利]涂敷装置-CN201210580019.9无效
发明人：佐保田勉;岛井太;佐藤晶彦 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2009-08-25 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种基板处理系统，具备：处理单元，其对基板进行涂敷处理；基板送入单元，其被供给收容有涂敷处理前的所述基板的送入用容器，且回收空的所述送入用容器；基板送出单元，其回收收容有所述涂敷处理后的所述基板的送出用容器，且被供给空的所述送出用容器；输送单元，其具有输送机构，该输送机构在所述处理单元内的装载位置和所述基板送入单元之间输送所述送入用容器，并在所述处理单元内的卸载位置和所述基板送出单元之间输送所述送出用容器。吸引基板并将其保持的吸引部设置为能够相对于在基部设置的臂部旋转，能够在利用保持部保持了基板的状态使其旋转的输送装置。利用喷嘴从以竖立的状态使其旋转的基板的两面喷出液状体地构成的涂敷装置。
装置

[发明专利]输送装置-CN201210580318.2无效
发明人：佐保田勉;岛井太;佐藤晶彦 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2009-08-25 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：一种基板处理系统，具备：处理单元，其对基板进行涂敷处理；基板送入单元，其被供给收容有涂敷处理前的所述基板的送入用容器，且回收空的所述送入用容器；基板送出单元，其回收收容有所述涂敷处理后的所述基板的送出用容器，且被供给空的所述送出用容器；输送单元，其具有输送机构，该输送机构在所述处理单元内的装载位置和所述基板送入单元之间输送所述送入用容器，并在所述处理单元内的卸载位置和所述基板送出单元之间输送所述送出用容器。吸引基板并将其保持的吸引部设置为能够相对于在基部设置的臂部旋转，能够在利用保持部保持了基板的状态使其旋转的输送装置。利用喷嘴从以竖立的状态使其旋转的基板的两面喷出液状体地构成的涂敷装置。
输送装置

[发明专利]基板处理系统、输送装置及涂敷装置-CN200910167447.7无效
发明人：佐保田勉;岛井太;佐藤晶彦 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2009-08-25 - 公布日： 2010-03-03 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种基板处理系统，具备：处理单元，其对基板进行涂敷处理；基板送入单元，其被供给收容有涂敷处理前的所述基板的送入用容器，且回收空的所述送入用容器；基板送出单元，其回收收容有所述涂敷处理后的所述基板的送出用容器，且被供给空的所述送出用容器；输送单元，其具有输送机构，该输送机构在所述处理单元内的装载位置和所述基板送入单元之间输送所述送入用容器，并在所述处理单元内的卸载位置和所述基板送出单元之间输送所述送出用容器。吸引基板并将其保持的吸引部设置为能够相对于在基部设置的臂部旋转，能够在利用保持部保持了基板的状态使其旋转的输送装置。利用喷嘴从以竖立的状态使其旋转的基板的两面喷出液状体地构成的涂敷装置。
处理系统输送装置

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