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[发明专利]光记录介质-CN201210120616.3无效
发明人： 伊藤英一;尾留川正博 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2009-02-24 - 公布日： 2012-08-22 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：若使用将记录再生光并用于倾斜伺服的SIL光学系统，则在倾斜伺服开始前SIL和光记录介质碰撞的可能性高。如下可避免该碰撞。光记录再生方法实施以下伺服，即，间隙伺服，利用由来自SIL的底面的光在光记录介质反射所得到的反射光，对光记录介质的表面和SIL的底面之间的间隙进行控制；聚焦伺服，对光的焦点和SIL的底面之间的距离进行控制；倾斜伺服，利用所述反射光控制所述SIL的底面相对于所述光记录介质的表面的倾斜。并且，光记录再生方法顺次进行以下工序。(A)在间隙比进行光记录再生时要大的状态下开始间隙伺服，并且使焦点从SIL的底面向光记录介质侧移动的工序；(B)倾斜伺服的开始的工序；(C)通过将间隙缩小而将所述SIL在既定的位置配置的工序。
记录介质

[发明专利]光学信息记录再生装置、光学信息记录再生方法、光学信息记录介质以及固体浸没透镜-CN200980118612.8有效
发明人：鸣海建治;尾留川正博;儿岛理惠;伊藤英一 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2009-05-18 - 公布日： 2011-04-27 - 主分类号： G11B7/095 文献下载
摘要：本发明的光学信息记录再生装置包括：将产生的近场光聚光于光盘(1)的聚光部(11)、接收由光盘(1)反射的光并输出与所接收到的光的光量相对应的电信号的第一检测器(17)、以及利用从第一检测器(17)输出的电信号控制聚光部(11)与光盘(1)的光入射面的距离的距离控制电路(22)，其中，光盘(1)具有至少N(N为2以上的整数)层信息层，从光入射面到距离光入射面最远的第一信息层的距离d0与从光入射面到最接近光入射面的第N信息层的距离dn之间满足dn≥d0×(1/25)的关系。由此，在具有多层信息层的光盘的任意信息层上记录或再生信息时都能够正确地进行伺服控制。
光学信息记录再生装置方法介质以及固体浸没透镜

[发明专利]光记录再生方法、光记录再生装置、程序和光记录介质-CN200980109584.3有效
发明人： 伊藤英一;尾留川正博 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2009-02-24 - 公布日： 2011-02-16 - 主分类号： G11B7/085 文献下载
摘要：若使用将记录再生光并用于倾斜伺服的SIL光学系统，则在倾斜伺服开始前SIL和光记录介质碰撞的可能性高。如下可避免该碰撞。光记录再生方法实施以下伺服，即，间隙伺服，利用由来自SIL的底面的光在光记录介质反射所得到的反射光，对光记录介质的表面和SIL的底面之间的间隙进行控制；聚焦伺服，对光的焦点和SIL的底面之间的距离进行控制；倾斜伺服，利用所述反射光控制所述SIL的底面相对于所述光记录介质的表面的倾斜。并且，光记录再生方法顺次进行以下工序。(A)在间隙比进行光记录再生时要大的状态下开始间隙伺服，并且使焦点从SIL的底面向光记录介质侧移动的工序；(B)倾斜伺服的开始的工序；(C)通过将间隙缩小而将所述SIL在既定的位置配置的工序。
记录再生方法装置程序介质

[发明专利]多层信息记录介质及其制造装置以及制造方法-CN200680010481.8无效
发明人： 伊藤英一;留河优子;锦织圭史;富山盛央 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2006-03-29 - 公布日： 2008-03-26 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：本发明涉及一种多层信息记录介质的制造装置，是一种具有基板、设置在上述基板上的多个信息记录层、设置在上述各个信息记录层之间的树脂中间层、以及相对所有的上述信息记录层设置在上述基板的相反侧的树脂保护层的多层信息记录介质的制造装置，具有：喷出部，其包括在上述基板或上述信息记录层上，滴下微小树脂液滴的喷墨喷嘴、以及控制部，其控制上述喷出部；在上述基板或上述信息记录层上，形成成为上述树脂中间层或上述树脂保护层的树脂层。
多层信息记录介质及其制造装置以及方法

[发明专利]直接母模化的压模的制造方法、使用该方法制造的压模及光盘-CN200580000574.8无效
发明人：留河优子;伊藤英一 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2005-02-22 - 公布日： 2006-08-16 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：一种压模的制造方法，使压模直接母模化，包括：在基板上形成通过激光能够以负型作用的热敏性材料层的工序、在所述热敏性材料层的规定区域上照射激光而进行局部曝光的工序、对所述局部曝光的热敏性材料层进行湿式蚀刻而形成微细凹凸图案的工序。使用该方法获得的原盘用作为注塑成形机用的压模。由此提供形成比激光的光学界限的光点小的微小凹坑且缺陷少的压模。
直接母模化制造方法使用光盘

[发明专利]电子束曝光方法及电子束曝光装置-CN200380102314.2无效
发明人： 伊藤英一;佃雅彦 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2003-10-24 - 公布日： 2005-12-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在以连续的速度使被曝光物和电子束照射点相互相对地移动的电子束曝光方法中，通过使在所述被曝光物上形成所述电子束照射点的电子光学系统的透过率发生变化，使所述被曝光物以多个电子束照射强度曝光。
电子束曝光方法装置

[发明专利]光信息记录介质及其制造方法、制造装置-CN03823576.5无效
发明人：富山盛央;伊藤英一 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2003-09-29 - 公布日： 2005-10-26 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：本发明提供一种是由至少在单面上形成信号面并具有中心孔的信号基板、以与所述信号基板的所述信号面平坦化呈同一平面并且堵住所述中心孔的方式配置的中心基板、和在所述信号基板的信号面上至少包括所述中心基板的一部分形成的透明层构成的并以所述中心基板上具有用于夹持的机构为特征的光信息记录介质以及该光信息记录介质制造装置。
信息记录介质及其制造方法装置

[发明专利]光盘原盘曝光装置和光盘原盘曝光方法以及针孔机构-CN200510059440.5无效
发明人：佃雅彦;阿部伸也;富山盛央;佐藤秀二;伊藤英一 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2002-06-28 - 公布日： 2005-09-14 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：本发明揭示一种光盘原盘曝光装置，具有激光源，用于偏转从所述激光源的激光束得到的记录激光束的偏转调制器，和用于将所述记录激光束聚焦的光盘原盘的物镜，包括设置在所述的激光源和所述偏转调制器之间的透镜系统，具有用于聚焦所述激光束的第一透镜和用于调节所述聚焦的激光束到所需光束直径的第二透镜，以及设置在所述透镜系统实际焦点位置的针孔。
光盘曝光装置方法以及针孔机构

[发明专利]光盘原盘曝光装置和光盘原盘曝光方法以及针孔机构-CN200510059439.2无效
发明人：佃雅彦;阿部伸也;富山盛央;佐藤秀二;伊藤英一 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2002-06-28 - 公布日： 2005-09-14 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：本发明揭示一种光盘原盘曝光装置，具有激光源，用于偏转从所述激光源的激光束得到的记录激光束的偏转调制器，和用于将所述记录激光束聚焦的光盘原盘的物镜，包括设置在所述的激光源和所述偏转调制器之间的透镜系统，具有用于聚焦所述激光束的第一透镜和用于调节所述聚焦的激光束到所需光束直径的第二透镜，以及设置在所述透镜系统实际焦点位置的针孔。
光盘曝光装置方法以及针孔机构

[发明专利]光信息记录介质原盘和模的制造方法，原盘和模及介质-CN200410104962.8无效
发明人： 伊藤英一;川口优子 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2004-12-15 - 公布日： 2005-07-27 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种制造光信息记录介质的原盘的方法；制造光信息记录介质的模子的方法；光信息记录介质的原盘和模子；和光信息记录介质，其中当在模子的一侧上录制预定图案的凹坑和/或槽时，通过减少无机材料的状态改变，使凹坑和/或槽的图案保持高质量的形状，即使使用无机材料作为抗蚀剂。一种制造在光信息记录介质的模子上录制预定图案的凹坑和/或槽的光信息记录介质的原盘106的方法，包括在基板101上形成包括第一无机材料的抗蚀剂102，第一无机材料的状态而曝光而改变，通过曝光和显影在抗蚀剂102上形成凹坑和/或槽的图案，和在凹坑和/或槽的图案上形成无机隔离层107。
信息记录介质制造方法

[发明专利]光信息记录介质用母盘的制造方法、该母盘的圆盘-CN200410068340.4无效
发明人：富山盛央;伊藤英一;川口优子 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2004-08-31 - 公布日： 2005-03-09 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：一种光信息记录介质用母盘的制造方法，包括：通过曝光使具有蚀刻层(102)以及形成在蚀刻层(102)上的光致抗蚀剂层(103)的原盘的光致抗蚀剂层(103)的特定部分(104)的结晶状态发生变化的工序；去除特定部分(104)的工序；去除与在光致抗蚀剂层(103)的去除部分重叠的部分蚀刻层(102)的工序；去除光致抗蚀剂层(103)，形成导电膜(105)的工序；以导电膜(105)作为电极进行电铸的工序；从导电膜(105)剥离蚀刻层(102)的工序。
信息记录介质母盘制造方法圆盘

[发明专利]制造母板和形成图案的方法、母板、模板、光信息记录介质和抗蚀剂-CN200410057680.7无效
发明人： 伊藤英一;大野锐二;川口优子 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2004-08-23 - 公布日： 2005-03-09 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：一种制造光信息记录介质的母板的方法，包括：抗蚀层形成步骤，使用抗蚀剂在衬底的上表面形成抗蚀层；曝光步骤，有选择性地曝光抗蚀层，以使抗蚀层中的状态发生变化；以及显影步骤，在执行曝光步骤之后，在抗蚀层上执行碱性显影处理。抗蚀剂主要由无机材料组成，并且至少包括锑和氧，此外还含有在碱性环境中比TeO₂的溶解度更低的稳定化添加剂。
制造母板形成图案方法模板信息记录介质抗蚀剂

[发明专利]制造母盘、模板、记录介质的方法及母盘、模板和记录介质-CN200410057679.4无效
发明人：川口优子;大野锐二;伊藤英一 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2004-08-23 - 公布日： 2005-03-09 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：一种制造光盘110的母盘105的方法，包括：层形成步骤，用于在衬底101上形成热敏材料层102；曝光步骤，用于将所述热敏材料层102部分曝光于激光束；以及凹坑和槽脊图案形成步骤，利用所述热敏材料层102的曝光部分和未曝光部分之间的蚀刻率之间的差别来形成凹坑和槽脊的图案。所述热敏材料层102至少包括锑和氧。当将氧的成分比定义为x(原子百分比)时，x是3或更大且50或更小。
制造母盘模板记录介质方法

[发明专利]光信息存储媒体的原盘制造方法-CN200410047691.7无效
发明人： 伊藤英一;大野锐二 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2004-05-26 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：本发明涉及光信息存储媒体的原盘制造方法，它利用热模式记录法，使用由基板(101)、因曝光状态发生变化的感热材料层(102)以及与感热材料层相接触配置的至少有一层的记录辅助层(103)所构成的记录原盘，通过任意的选择记录辅助层的热传导率、光学常数以及厚度等，用热学或光学的方法来控制感热材料层的曝光状态，从而容易的控制形成在原盘上的凹凸图形的截面形状。
信息存储媒体制造方法

[发明专利]光信息记录介质的压模的制造方法-CN200410061636.3无效
发明人： 伊藤英一;大野锐二;富山盛央 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2004-06-23 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：一种光信息记录介质的压模的制造方法，在基板(1)上形成由无机材料构成的抗蚀剂(2)而成的记录原盘(3)上，进行曝光及显影，制作具有凹凸图形的原盘(6)。然后，在原盘(6)的凹凸图形上，利用旋转涂布法等形成有机层(7)。另外，在有机层(7)的上面形成导电膜(8)，通过在导电膜(8)的上面实施电镀，形成金属层(9)。之后，从原盘(6)只剥离金属层(9)或者剥离金属层(9)及导电膜(8)，制造具有形状与原盘(6)的凹凸图形相补的凹凸图形的压模(10a)或(10b)。本发明提供即使在采用无机材料作为抗蚀剂的情况下，在形成金属层时也能够防止无机材料与导电膜及金属层反应或电分解的光信息记录介质的压模的制造方法。
信息记录介质制造方法

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