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[发明专利]表面测量方法、零件的制造方法、零件的检查方法以及零件的测量装置-CN201980057651.5在审
发明人： J.钟;宫田一史;丸山重信 -专利权人：日立安斯泰莫株式会社
申请日： 2019-08-14 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： G01N21/952 文献下载
摘要：该表面测量方法向被测量面(100d)照射相干光束(10)，将由被测量面(100d)反射的反射光投射至屏幕(102)而形成光学像(280)，在由光学传感器(107)对光学像(280)进行拍摄时，在使屏幕(102)向一个方向连续移动的状态下实施由该光学传感器(107)进行的拍摄。
表面测量方法零件制造方法检查以及测量装置

[发明专利]形状检查方法及其装置-CN201280052260.2有效
发明人：谷口敦史;酒井薰;丸山重信;前田俊二 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2012-10-24 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： G01B21/20 文献下载
摘要：本发明提供一种三维形状检查方法及其装置，通过互补地组合多种三维形状计测法、表面计测方法，不受测定对象的形状影响地确保高的计测精度。本发明提供一种三维形状检查装置，其特征在于，具备取得检查对象的第一形状数据的第一三维形状传感器；取得上述检查对象的与上述第一形状数据不同的第二形状数据的第二三维形状传感器；和对上述第一形状数据和上述第二形状数据进行校正、整合的互补整合部。
形状检查方法及其装置

[发明专利]曝光方法及其装置-CN201210224380.8有效
发明人：根本佳奈;高桥聪;吉武康裕;丸山重信;吉水惠子 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2012-06-28 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及曝光装置以及其方法。曝光装置的曝光机构，具备：光学积分器，将从光源发射的曝光光转换为多个点光源；准直镜，将透射光学积分器后的曝光光转换为平行光；及反射镜单元，将由准直镜转换为平行光后的曝光光用反射镜反射并照射到掩模上，反射镜单元以二维状排列地装备驱动器，该驱动器推压平面镜的与反射曝光光的面相反一侧的面，控制机构基于反射镜单元的各个驱动器的驱动量控制该驱动器，上述各个驱动器的驱动量是使用与光学积分器的点光源相关的信息而算出的，与光学积分器的点光源相关的信息是从照射到与载置于平台机构的基板的表面相当的位置上的曝光光获得的。
曝光方法及其装置

[发明专利]薄膜显示元件的检查修正方法以及检查修正装置-CN201110410205.3无效
发明人：中尾敏之;丸山重信;片冈文雄 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2011-12-09 - 公布日： 2012-07-18 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明提供一种薄膜显示元件的检查修正方法以及检查修正装置，其即使是在彩色滤器方式的OLED面板的情况下，也可以以单一波长、高可靠性地进行检查、修正，能够提高成品率。对具有在发光层形成的金属电极膜和在发光层的与金属电极膜相反的一侧形成的透明电极膜的薄膜显示元件的发光装置进行检查，修正不良部位的方法及其装置被构成为：对金属电极和透明电极施加电力来使发光层发光，相对金属电极从透明电极侧观察该发光层的发光装置，检测发光层中不发光的位置，根据该检测出的发光层中不发光的位置的信息，从与透明电极相反的一侧对金属电极照射激光，去除发光层中不发光的位置的上方的金属电极膜。
薄膜显示元件检查修正方法以及装置

[发明专利]基板的品质评价方法及其装置-CN201110393732.8无效
发明人：酒井薰;丸山重信;吉武康裕;山口清美 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2011-12-01 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供基板的品质评价方法及其装置，其在ELA工序中，高速并且与目视检查员的品质评价值或最终画质相匹配。一边使成为评价对象的基板在一个方向上连续地移动，一边拍摄向基板从倾斜方向照射光后由于在基板上形成的多晶硅薄膜而产生的一次衍射光所形成的像来取得一次衍射光像，并且拍摄来自基板的正反射光或透射光的光轴附近的散射光的像来取得光轴附近的散射光像，对该取得的一次衍射光像的图像和光轴附近的散射光像的图像进行处理，提取多个特征，使用该提取的多个特征中的至少一个以上的特征，按照事先设定的评价基准，计算在基板上形成的多晶硅薄膜的品质评价值，来评价在基板上形成的多晶硅薄膜的品质。
品质评价方法及其装置

[发明专利]印制电路板的激光加工方法-CN200810009214.X无效
发明人：大前吾一;青山博志;志贺正幸;丸山重信 -专利权人：日立比亚机械股份有限公司
申请日： 2008-01-29 - 公布日： 2008-10-01 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本发明提供能够使重复照射激光的重复区域的槽底的深度与其它区域的槽底的深度大约一致的印制电路板的激光加工方法。在预先固定将与中心轴成直角的方向的截面做成一边比另一边足够大的矩形的激光(4)，重复进行在沿与激光(4)的短边平行的方向(X方向)使掩模(1)和印制电路板(6)沿互相相反的方向进行扫描而将印制电路板(6)的某一区域加工成带状后，使掩模(1)和印制电路板(6)沿与扫描方向成直角的Y方向相对地移动而加工新区域的操作，从而在印制电路板(6)上加工槽的印制电路板的激光加工方法中，在重复照射区域的场合，利用将重复照射的区域的一侧的激光(4)的短边一侧形成为斜边的激光(4)进行加工。
印制电路板激光加工方法

[发明专利]激光加工装置-CN200810005535.2无效
发明人： 丸山重信;青山博志;志贺正幸;大前吾一 -专利权人：日立比亚机械股份有限公司
申请日： 2008-02-15 - 公布日： 2008-09-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及激光加工装置。本发明提供一种可高精度地将掩模图案投影在被加工件上且加工精度优良的激光加工装置。本发明的激光加工装置设有内装有观察形成于被加工件(320)表面的对准标记的电视摄像机(351)，并能测定投影透镜(310)的焦距的自动聚焦单元(340)；求出相对被加工件(320)的主扫描方向的设计值的伸缩量(Ex)及相对副扫描方向的设计值的伸缩量(Ey)；关于伸缩量Ex，通过对投影透镜(310)的成像倍率(M)进行修正，从而关于伸缩量Ey，考虑投影透镜的成像倍率(M)，对掩模(330)或/及被加工件(320)的移动速度进行修正。
激光加工装置

[发明专利]光束的轴间间距转换装置及基板曝光装置-CN200710104673.1有效
发明人：押田良忠;内藤芳达;铃木光弘;山口刚;丸山重信 -专利权人：日立比亚机械股份有限公司
申请日： 2007-05-28 - 公布日： 2007-12-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种加工及使用容易且可使光束的平行度优良的光束的轴间间距转换装置及曝光位置精度优良的基板曝光装置。本发明的技术方案是，使xy方向的断面为平行四边形的四角柱的平行玻璃(1418)和xy方向的断面为平行四边形的四角柱且在与xy方向成直角的z方向的一个表面上具有槽(G)的平行玻璃(1411～1417)以槽(G)为内侧的方式贴紧重叠，使要进入槽(G)内的光全反射，从而将以13mm的间距(Px)入射的平行光束(10A)的光轴为以1mm的间距(Px′)射出的平行光束(10)。
光束间间转换装置曝光

[发明专利]调制器-CN200710112121.5无效
发明人：押田良忠;丸山重信;小林和夫;内藤芳达;大坂义久 -专利权人：日立比亚机械股份有限公司
申请日： 2003-07-02 - 公布日： 2007-11-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光装置，特征在于包括照明光学系统和投影光学系统，该照明光学系统具有：把分开的多个光源以一维或二维排列的光源阵列；使从该光源阵列的各光源射出的光聚光的聚光光学系统；在空间上分解由该聚光光学系统聚光的光来生成多个疑似二次光源的、由棒状透镜的排列构成且各棒状透镜的垂直于光轴的剖面形状的纵横比r₁与上述被照明区域的纵横比r₀之比r₁/r₀为大于或等于0.8且小于或等于1.2的光学积分器；以及使来自利用该光学积分器生成的多个疑似二次光源的光叠加在一起来照明具有应该曝光的图形的被照明区域的聚光透镜；该投影光学系统把透射或反射了由该照明光学系统照明的应该曝光的图形的光投影、曝光到被曝光物上的被曝光区上。
调制器

[发明专利]图形曝光方法及装置-CN200610008345.7无效
发明人：押田良忠;内藤芳达;铃木光弘;山口刚;丸山重信 -专利权人：日立比亚机械股份有限公司
申请日： 2006-02-17 - 公布日： 2006-09-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种通过方向性高的照明光可高效进行无掩模曝光的无掩模曝光方法及无掩模曝光装置，同时，提供一种可使阻焊膜的曝光效率提高的无掩模曝光方法及无掩模曝光装置。设有出射波长为405nm的激光(1a)的蓝紫半导体激光器(12A)和出射波长为375nm的激光(1b)的紫外线半导体激光器(12B)，使激光(1a)、(1b)的光轴同轴，照射到基板(8)上。这时，用激光(1a)、(1b)多次照射基板(8)上的同一地点，使激光(1a)、(1b)的强度偏差平均化。
图形曝光方法装置

[发明专利]照明方法和曝光方法及其装置-CN03805595.3有效
发明人：押田良忠;丸山重信;小林和夫;内藤芳达;大坂义久 -专利权人：日立比亚机械股份有限公司
申请日： 2003-07-02 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种曝光装置，特征在于包括照明光学系统和投影光学系统，该明光学系统具有：把分开的多个光源以一维或二维排列的光源阵列；使从该光源阵列的各光源射出的光聚光的聚光光学系统；在空间上分解由该聚光光学系统聚光的光来生成多个疑似二次光源的、由棒状透镜的排列构成且各棒状透镜的垂直于光轴的剖面形状的纵横比r₁与上述被照明区域的纵横比r₀之比r₁/r₀为大于或等于0.8且小于或等于1.2的光学积分器；以及使来自利用该光学积分器生成的多个疑似二次光源的光叠加在一起来照明具有应该曝光的图形的被照明区域的聚光透镜；该投影光学系统把透射或反射了由该照明光学系统照明的应该曝光的图形的光投影、曝光到被曝光物上的被曝光区上。
照明方法曝光及其装置

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