专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果16个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]基于波长调制的傅里叶域OCT系统色散补偿方法及系统-CN202310536217.3有效
  • 罗松杰;王孝艳;陈子阳;季长胜;陈垲全;蒲继雄 - 华侨大学
  • 2023-05-12 - 2023-08-29 - G01B9/02091
  • 本发明公开了基于波长调制的傅里叶域OCT系统色散补偿方法及系统,包括:S1,获取最佳调制系数C0;S2,进行色散补偿;所述S1包括:S11,采集八组干涉信号Si(λ);S12,对八组干涉信号中的任一组干涉信号求得相位,对相位分布进行解包裹和相位线性拟合后,得到相位的非线性部分,即色散相位中的高阶分量e(λ);S13,对八组干涉信号作波长调制,记录下波长调制后的八组干涉信号对应的八组振幅分布Ai(z),求得Ai(z)的半高宽FWHM的平均值和均方差的乘积AVE×STD;S14,采用不同的调制系数重复进行S13,直到AVE×STD最小值出现,选择最小值对应的调制系数作为最佳调制系数C0。本发明色散补偿效果好,运算量少,减小了计算机的压力,保证了成像的实时性。
  • 基于波长调制傅里叶域oct系统色散补偿方法
  • [发明专利]相敏光学相干断层成像测量前段的光学像差-CN201880062994.6有效
  • M·阿尔-贾兹 - 爱尔康公司
  • 2018-10-02 - 2023-08-22 - G01B9/02091
  • 披露了用于测量眼睛的光学像差的技术。一种示例性方法包括将所述眼睛定位在光学相干断层成像(OCT)干涉仪设备的测量臂附近的测量位置,使得来自所述测量臂的源光进入到所述眼睛前段中;以及检测干涉图样,所述干涉图样是由从所述眼睛反射的光和从所述OCT干涉仪设备的参考臂反射的光的组合产生的。基于所述干涉图样来计算所述眼睛前段中的参考表面与所述眼睛中的测量表面之间的光学延迟,所述参考表面是角膜或晶状体的前表面,其中,所述计算包括基于所述检测到的干涉图样来测量所述参考表面与所述测量表面之间的光学相移。
  • 光学相干断层成像测量前段
  • [发明专利]一种基于并行探测的光学图像层析显微镜及其成像方法-CN202011015203.X有效
  • 王笑梅;朱媛媛 - 上海师范大学
  • 2020-09-24 - 2023-04-07 - G01B9/02091
  • 本发明涉及一种基于并行探测的光学图像层析显微镜及其成像方法,光学图像层析显微镜包括光源、光学分束器、成像臂、参考臂、探测端、干涉信号获取单元和相位调制单元;光源发出的光经过光学分束器分为第一光束和第二光束,第一光束依次经过成像臂聚焦到被测物品上,并形成第一反射光原路返回探测端,第二光束经过参考臂反射,然后经过光学分束器到达探测端,相位调制单元设置在所述第一光束或所述第二光束的光束线路中,第一反射光和第二光束在探测端中发生干涉,并照射在干涉信号获取单元上,干涉信号获取单元用于从干涉光的每个像素中探测调幅干涉信号。与现有技术相比,本发明可以大幅度的提高信噪比。
  • 一种基于并行探测光学图像层析显微镜及其成像方法
  • [发明专利]确定激光加工头与工件距离的测量设备、激光加工系统和确定激光加工头与工件距离的方法-CN201980050647.6有效
  • M·斯特雷贝尔 - 普雷茨特两合公司
  • 2019-06-06 - 2022-08-23 - G01B9/02091
  • 本发明涉及一种用于确定用于激光加工系统(100)的加工头(101)与工件之间(1)的距离的测量装置,加工头(101)设置用于借助激光束(10)加工工件(1)。测量设备包括一个光学相干断层仪(120),光学相干断层仪设置用于测量加工头(101)和工件(1)之间的距离,其中,由测量光源在光学相干断层仪(120)中产生并从工件(1)反射的测量光(13)与具有两个或更多的参考级的参考臂(200,300)中反射的测量光干涉。两个或更多的参考级包括第一参考级(210),第一参考级设置成,在第一参考级(210)中反射的测量经过第一光学路径长度,以及第二参考级(220),第二参考级设置成,在第二参考级(220)中反射的测量光经过与第一光学路径长度不同的第二光学路径长度,其中,从工件(1)反射的测量光与第一参考级(210)的反射测量光以及与第二参考级(220)的反射测量光干涉。
  • 确定激光工头工件距离测量设备加工系统方法
  • [发明专利]基于马赫曾德尔干涉仪的高速谱域光学相干层析成像系统-CN202110837363.0有效
  • 徐菊;张浩;尹志豪 - 中国科学院电工研究所
  • 2021-07-23 - 2022-07-12 - G01B9/02091
  • 本发明公开了一种基于马赫曾德尔干涉仪的高速谱域光学相干层析成像系统。宽带光源发出的光经由1×2光纤耦合器分为两束光,分别进入样品臂和参考臂,以获取样品臂输出的被测样品产生的后向散射光和参考臂输出的反射光;后向散射光和反射光经由光束合并单元合并后形成合并光束;当合并光束进入1×N光开关时,信号处理和系统控制模块控制1×N光开关的光信号传输通道按照设定模式开通,同时控制雪崩光电二极管探测器阵列中的与1×N光开关中开通的光信号传输通道相对应的雪崩光电二极管处于雪崩模式;同时基于获取的雪崩光电二极管探测到的光信号重构被测样品的图像。本发明能够达到成像速度快、成像质量高和成像深度深的目的。
  • 基于马赫曾德尔干涉仪高速光学相干层析成像系统

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top