[发明专利]一种摄像头镜片加工工艺

权利要求书

1.一种摄像头镜片加工工艺，其特征在于：包括以下步骤：

步骤1，丝印加工：选择玻璃面板，采用印刷机在玻璃面板表面涂刷耐氢氟酸碱褪油墨，然后进行烘烤，使玻璃面板表面形成油墨保护层；

步骤2，清洗烘干：在超声波清洗机内添加清洗液，将玻璃面板置于清洗液中进行清洗，祛除玻璃面板表面残留的杂质，清洗后进行烘干；

步骤3，蒙砂处理：将蒙砂粉加水调配成蒙砂液，往AG设备内加入蒙砂液，将烘干的玻璃面板放置于蒙砂液中进行粗化加工；

步骤4，褪墨处理：在超声波清洗机内添加褪墨液，将玻璃面板置于褪墨液中进行清洗，以洗去玻璃面板上的油墨保护层；

步骤5，清洗烘干：在超声波清洗机内添加清洗液，将去除油墨保护层的玻璃面板置于清洗液中进行清洗，祛除玻璃面板表面残留的杂质和碱液，清洗后进行烘干；

步骤6，激光处理：根据摄像头的大小和外形轮廓预设激光切割轨迹，以在玻璃面板上切割出多组摄像头的轮廓线；

步骤7，清洗浸泡：在超声波清洗机内添加清洗液，将玻璃面板置于清洗液中进行清洗，然后使用清水浸泡，保持玻璃面板表面湿润；

步骤8，蚀刻处理，将浸泡后的玻璃面板置入蚀刻酸液中进行浸泡蚀刻，以使玻璃面板上的轮廓线蚀刻倒角；

步骤9，清洗烘干：在超声波清洗机内添加清洗液，将玻璃面板置于清洗液中进行清洗，清洗后进行烘干。

2.根据权利要求1所述的一种摄像头镜片加工工艺，其特征在于，所述步骤1中，选择的玻璃面板的厚度为0.55±0.005mm；使用热炉设备对涂刷有耐氢氟酸碱褪油墨的玻璃进行烘烤，烘烤温度为150℃，烘烤时间为20-30min，从而在玻璃面板上形成厚度为20um-34um的油墨保护层。

3.根据权利要求2所述的一种摄像头镜片加工工艺，其特征在于，所述步骤3中，蒙砂粉型号为QY-801；蒙砂粉调配成成蒙砂液后熟化72h，再加入AG设备内，蒙砂处理过程中后，蒙砂液温度为30℃，蒙砂液的走速为1.6m/min。

4.根据权利要求3所述的一种摄像头镜片加工工艺，其特征在于，所述步骤3中，玻璃面板放入AG治具前需要使用前处理液进行浸泡，前处理液包括12重量份数的的氢氟酸和5重量份数的硫酸。

5.根据权利要求1所述的一种摄像头镜片加工工艺，其特征在于，所述步骤4中的褪墨液为NaOH溶液，NaOH溶液包括10-15重量份数的NaOH和100重量份数的水，清洗温度为80-90℃，清洗时长为5-10min。

6.根据权利要求2所述的一种摄像头镜片加工工艺，其特征在于，所述步骤6中，激光切割的采用的激光切割机的激光波长为355nm，激光点距为3.0um，最大功率为20～21W,重复频率为40～120KHZ,激光走线速度不小于150mm/s。

7.根据权利要求6所述的一种摄像头镜片加工工艺，其特征在于，所述步骤8中，蚀刻酸液包括20重量份数的氢氟酸，7.5重量份数的硫酸和600重量份数的水。

8.根据权利要求7所述的一种摄像头镜片加工工艺，其特征在于，所述步骤8中，蚀刻酸液的温度为25-30℃，浸泡时间为3-5min；使得玻璃面板整体的蚀刻深度为H1，40≤H1≤60um；而玻璃面板上的轮廓线的蚀刻深度则均为H2，70um≤H2≤80um。

9.根据权利要求1所述的一种摄像头镜片加工工艺，其特征在于，所述步骤2、步骤5、步骤7和步骤9中的清洗液包括2-5重量份数的非离子型表面活性剂、5-10重量份数的氢氧化钾水溶液、1-5重量份数的葡萄糖酸钠溶液、1-5重量份数的四乙酸乙烯二胺溶液和70-85重量份数的水；清洗液的温度为50±5℃，清洗时间为2-3min。

10.根据权利要求1所述的一种摄像头镜片加工工艺，其特征在于，所述步骤9中的超声波清洗机的水槽内的超声波电流为1.1-1.2A，以使玻璃面板发生震动，以震落玻璃面板上的碎屑。