[发明专利]喷墨打印方法、显示面板的制作方法及显示面板在审

专利信息
申请号: 202110974767.4 申请日: 2021-08-24
公开(公告)号: CN113745443A 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 向昌明 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L27/32;G02F1/1333;B41M5/00;B41M7/00
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 马广旭
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 喷墨 打印 方法 显示 面板 制作方法
【说明书】:

发明涉及一种喷墨打印方法、显示面板的制作方法及显示面板,所述喷墨打印方法通过对喷墨打印形成的有机溶液层进行光照,并实现光照强度的分区控制,即对应有机溶液层的中间区的光照强度与对应有机溶液层的边缘区的光照强度实现差异化,从而降低咖啡环效应,达到固化后薄膜厚度均一的目的。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种喷墨打印方法、显示面板的制作方法及显示面板。

背景技术

在有机电致发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)显示领域和液晶显示(Liquid Crystal Display,LCD)领域,通常会用到喷墨打印等方式形成有机功能层或其它膜结构。喷墨打印需要真空干燥和烘烤干燥去除多余的溶剂形成干燥的薄膜,由于有机溶液形成的液滴张力等因素,导致液滴中体积和单位面积比较小的中心部分与体积和单位面积比较大的边缘位置的蒸发速率不同,在靠近中心的地方挥发出的气氛越浓,越接近于饱和态,其下面的溶液不容易干;越靠近边缘区域,上面的气氛越稀薄,溶剂越容易挥发。由于周边干燥的快,溶液在干燥的过程中会向外移动,结果干燥后像素单元内成膜不均匀,形成四周厚中间薄的咖啡环结构的薄膜形貌,薄膜的形貌比较差,薄膜厚度均一性比较差,对器件的寿命和显示效果有比较大的影响。

发明内容

本发明目的在于,解决现有喷墨打印形成的薄膜厚度均一性较差的问题。

为实现上述目的,本发明提供一种喷墨打印方法,包括:

提供基板;

向所述基板表面喷墨打印有机溶液,形成有机溶液层,所述有机溶液层包括中间区和围绕所述中间区的边缘区;

光照所述有机溶液层以固化形成有机膜层,对应所述边缘区的光照强度与对应所述中间区的光照强度相异,使得对应所述边缘区的所述有机膜层的平均厚度值与对应所述中间区的所述有机膜层的平均厚度值的差值的绝对值小于或者等于1。

可选的,所述光照所述有机溶液层以固化形成有机膜层的步骤中的所述光照所用光为紫外光,对应所述中间区的紫外光照强度大于对应所述边缘区的紫外光照强度。

可选的,基板上方设置有第一掩膜板以遮挡所述紫外光;所述第一掩膜板包括透光区和不透光区,所述透光区与所述有机溶液层相对应;所述透光区包括第一全透光区和围绕所述第一全透光区的第一半透光区,所述第一全透光区与所述中间区相对应,所述第一半透光区与所述边缘区相对应,所述第一半透光区的透光率小于所述第一全透光区的透光率,使得透过所述第一全透光区的紫外光照强度大于透过所述第一半透光区的紫外光照强度。

可选的,所述基板上形成有像素限定层,像素限定层上蚀刻有暴露至少部分所述基板的像素开口,有机溶液喷墨打印于所述像素开口内形成所述有机溶液层;所述第一掩膜板的不透光区与位于所述像素开口外侧的所述像素限定层相对应。

可选的,所述第一掩膜板的透光区的宽度与所述像素开口远离所述基板一端端口宽度相对应。

可选的,所述像素限定层包括层叠设置的第一限定层和第二限定层,所述第一限定层的截面形状为方形,所述第二限定层的截面形状为梯形,所述第二限定层的宽度由靠近所述基板一端向远离所述基板一端逐渐减小,相邻两所述第二限定层之间的间距由靠近所述基板一端向远离所述基板一端逐渐增加。

可选的,所述光照所述有机溶液层以固化形成有机膜层的步骤中的所述光照所用光为红外光,对应所述中间区的红外光照强度小于对应所述边缘区的红外光照强度;所述基板下方设置有加热板以加热所述有机溶液层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL华星光电技术有限公司,未经TCL华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110974767.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top