[发明专利]介质输送装置、介质处理装置以及记录系统有效
申请号: | 202110373334.3 | 申请日: | 2019-09-25 |
公开(公告)号: | CN113086730B | 公开(公告)日: | 2023-03-24 |
发明(设计)人: | 近藤胜行 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B65H29/40 | 分类号: | B65H29/40;B65H31/36 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 李丹 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 介质 输送 装置 处理 以及 记录 系统 | ||
1.一种介质输送装置,其特征在于,具备:
介质托盘,载置由排出介质的排出部所排出的所述介质,并且具有在所述排出部的排出方向的上游使所述介质的端部对齐的对齐部;以及
桨叶,与排出到所述介质托盘的所述介质接触,并通过以第一旋转轴为中心进行旋转而使所述介质朝向所述对齐部移动,
所述介质输送装置具有低摩擦阻力部件,所述低摩擦阻力部件能够通过以第二旋转轴为中心进行旋转而切换进入状态和退避状态,所述进入状态为如下状态:从所述介质托盘的介质载置区域之外向所述介质载置区域进入,所述退避状态为如下状态:从所述介质载置区域向所述介质载置区域之外退避,
所述低摩擦阻力部件在使第一介质载置于所述介质托盘之后从所述退避状态切换到所述进入状态且在所述第一介质的排出后通过所述桨叶使从所述排出部排出的第二介质朝向所述对齐部移动的情况下,介于所述第一介质与所述第二介质之间,
在通过所述桨叶以所述第一旋转轴为中心进行旋转而使所述第二介质移动之后,所述低摩擦阻力部件通过以所述第二旋转轴为中心进行旋转而从所述进入状态切换到所述退避状态,
所述第一旋转轴和所述第二旋转轴的轴线不同。
2.根据权利要求1所述的介质输送装置,其特征在于,
所述低摩擦阻力部件在所述桨叶移动所述第二介质之后从所述进入状态暂时切换到所述退避状态之后,切换到位于所述第二介质之上的所述进入状态。
3.根据权利要求2所述的介质输送装置,其特征在于,
所述低摩擦阻力部件在所述进入状态下向所述介质载置区域中的第一区域进入,
所述第一区域包括如下位置:在从所述排出部排出所述第二介质时,所述第二介质的所述排出方向上的前端最初与所述第一介质接触的位置。
4.根据权利要求3所述的介质输送装置,其特征在于,
所述第一区域配置于所述介质载置区域中与所述排出方向交叉的宽度方向的两侧的端部。
5.根据权利要求4所述的介质输送装置,其特征在于,
所述低摩擦阻力部件形成为片材状。
6.根据权利要求5所述的介质输送装置,其特征在于,
所述低摩擦阻力部件相对于配置在所述介质载置区域之外的所述第二旋转轴固定,通过使所述第二旋转轴旋转而切换所述进入状态和所述退避状态。
7.根据权利要求6所述的介质输送装置,其特征在于,
所述低摩擦阻力部件在所述进入状态下以从由固定于所述第二旋转轴的固定端朝向所述介质载置区域之外延伸设置的状态弯曲而自由端侧向所述第一区域进入的形状配置。
8.根据权利要求7所述的介质输送装置,其特征在于,
所述介质输送装置具备控制所述第二旋转轴的旋转的控制部,
所述控制部构成为能够控制所述进入状态下的所述第二旋转轴的旋转的相位。
9.根据权利要求8所述的介质输送装置,其特征在于,
所述控制部根据所述介质托盘中的所述介质的层叠张数来控制所述相位。
10.根据权利要求9所述的介质输送装置,其特征在于,
所述第二旋转轴配置在沿所述排出方向的方向上。
11.根据权利要求10所述的介质输送装置,其特征在于,
所述介质输送装置具备宽度方向对齐部件,所述宽度方向对齐部件具有第一对齐部和第二对齐部,所述第一对齐部在相对于所述介质托盘与所述排出方向交叉的宽度方向上的第一方向上设置,所述第二对齐部在相对于所述介质托盘在与所述第一方向反向的第二方向上设置,在使所述介质载置于所述第一对齐部与所述第二对齐部之间之后,所述第一对齐部和所述第二对齐部相互靠近而与所述介质的所述宽度方向的端部接触,从而使所述介质的所述宽度方向的所述端部对齐,
所述第二旋转轴安装于所述第一对齐部以及所述第二对齐部。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110373334.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种芯片高效输送装置
- 下一篇:一种促进氧化铜矿浮选的方法