[发明专利]用于维持传感器准确度的设备、系统和方法

说明书

公开了用于维持传感器准确度的设备、系统和方法，特别是公开维持工业水系统中的工业水的一个或多个参数的测量准确度的方法。所述方法包括使用物理和化学手段来防止和/或移除用于测量所述一个或多个参数的一个或多个表面上的沉积。所述沉积可例如由腐蚀、积垢或微生物生长引起。

相关申请的交叉引用

本申请是申请日为2016年1月12日、申请号为201680010052.4、发明名称为“用于维持传感器准确度的设备、系统和方法”之申请的分案申请。

母案申请主张2015年1月12日提交的第14/594,589号美国专利申请的优先权，所述申请的揭示内容以全文引用的方式并入本文中。

背景技术

许多工业水系统需要精确化学处理以实现以下中的任一个或其组合：维持优良的能量转移、减少废弃物、保护资产，以及改善产品质量。可通过监测特征性变量将精确化学处理施予工业水系统，所述特征性变量例如电导率、pH值、氧化还原电位、微生物浓度、碱度和硬度。

所测得的这些变量中的任一个的改变可提供到控制过程操作的输入。举例来说，测量的在冷却塔操作中循环的冷却水的电导率的增大可触发操作的排污，随后添加补给水，由此降低冷却水的电导率。维持工业水系统(尤其是冷却水系统)的特征性变量的准确、精确测量是其高效处理和操作的关键。

对于工业水系统(特别是冷却水系统)，通常通过处理操作解决三个问题：1)抑制由矿物沉积(例如，碳酸钙和/或硅酸镁)引起的结垢；2)抑制由悬浮沉积物的沉积引起的积垢，悬浮沉积物例如由腐蚀引起；以及3)抑制由例如细菌、藻类及/或真菌引起的微生物污染。这些条件中的任一个可能会使得沉积物形成于润湿表面上，尤其是用来测量工业水系统的参数的表面。这些中的任一个沉积到测量表面上都特别令人担忧，因为沉积物可能会引入由例如延迟的测量响应时间、测量漂移(例如，不断改变的偏移)或测量不稳定性引起的测量误差(不准确性、不精确性，或两者)。

若干传感器探头清洁装置和方法可用。举例来说，对于包括溶解气体的液体系统，存在超声清洁技术。在一些应用中已实施机械擦拭系统。也已经使用气刀、水刀和离线化学处理。

发明内容

提供维持工业水系统的参数的测量准确度的方法。在一方面中，所述方法包括使处于液流压力下的液流与用于利用传感器测量参数的表面接触。将气流引入到所述液流中，由此使得组合的气流与液流接触所述表面。所述气流是在比所述液流压力大约10psi到约100psi的气压下引入到所述液流中。

在另一方面中，所述方法包括使处于工业水流压力下的工业水流与pH值传感器的润湿表面和氧化还原电位传感器的润湿表面中的至少一个接触。测量所述工业水流的pH值和/或氧化还原电位。使包括盐酸脲的清洁溶液以足以清洁所述润湿表面中的至少一个的浓度与所述润湿表面中的所述至少一个接触第一时间段。使处于所述工业水流压力下的所述工业水流与经清洁的所述润湿表面中的至少一个重新接触第二时间段，由此使用清洁的pH值和/或氧化还原电位传感器测量所述工业水流的pH值和/或氧化还原电位。产生与使用所述清洁的pH值和/或氧化还原电位传感器测量的pH值和/或测量的氧化还原电位相关的恢复曲线。重复前述步骤。比较相应恢复曲线。如果所述相应恢复曲线的比较表明可接受的传感器劣化，那么相应传感器可保持运行。然而，如果相应传感器表明不可接受的传感器劣化，那么使相应传感器不再运行。

在又另一方面中，所述方法包括使处于工业水流压力下的工业水流与pH值传感器的润湿表面和氧化还原电位传感器的润湿表面中的至少一个接触。使清洁溶液与所述pH值传感器的所述润湿表面和所述氧化还原电位传感器的所述润湿表面中的至少一个接触。使处于所述工业水流压力下的所述工业水流与所述pH值传感器的所述润湿表面和所述氧化还原电位传感器的所述润湿表面中的至少一个重新接触。将气流在比所述工业水流压力大大约10psi到约100psi的气流压力下且在所述重新接触开始之后引入到所述工业水流中。