[发明专利]用于维持传感器准确度的设备、系统和方法

权利要求书

1.一种方法，包括：

使处于工业水流压力下的工业水流与用于测量工业水系统中的工业水的多个参数的多个表面接触；

使所述表面的第一子集与所述工业水流隔离，而所述表面的第二子集维持与所述工业水流接触；

清洁所述表面的所述第一子集的至少一个表面，而所述表面的所述第二子集维持与所述工业水流接触；

恢复所述工业水流与所述表面的所述第一子集的接触；

其中所述表面的所述第一子集包括以下中的至少一个：pH值传感器的润湿表面，氧化还原电位传感器的润湿表面和光传递介质的润湿表面；以及

其中所述表面的所述第二子集包括以下中的至少一个：腐蚀检测传感器的润湿表面和电导率传感器的润湿表面。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述清洁包括使组合的气流与液流接触所述第一子集的所述至少一个表面。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述组合的气流与液流包括清洁溶液。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述清洁溶液包括水性盐酸脲。

5.根据权利要求3所述的方法，其中所述清洁溶液包括选自以下的成分：盐酸脲，磷酸，硫酸，硝酸，过氧酸，清洁剂，乳化剂，及其组合。

6.根据权利要求2所述的方法，其中具有气流压力的气流被引入处于液流压力下的液流中以形成所述组合的气流与液流。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述气流压力比所述液流压力大10psi到100psi。

8.根据权利要求6所述的方法，其中所述气流在垂直于所述液流的方向上引入。

9.根据权利要求6所述的方法，其中所述气流包括选自以下的酸性气体：含碳的酸性气体，含硫的酸性气体，含氮的酸性气体，含氯的酸性气体，及其组合。

10.根据权利要求6所述的方法，其中二氧化碳丸粒随所述气流引入到所述液流中。

11.根据权利要求6所述的方法，其中所述气流间歇性地引入到所述液流中。

12.根据权利要求2所述的方法，其中所述组合的气流与液流包括选自以下的气态物质：空气，氮气，氧气，酸性气体，及其组合。

13.根据权利要求2所述的方法，其中所述表面的所述第一子集包括光传递介质的润湿表面。

14.根据权利要求13所述的方法，还包括在所述组合的气流与液流朝向所述光传递介质的所述润湿表面流动时使其展成扇形。

15.根据权利要求1所述的方法，其中所述清洁包括使清洁溶液与所述第一子集的所述至少一个表面接触。

16.根据权利要求15所述的方法，其中所述清洁溶液包括水性盐酸脲。

17.根据权利要求15所述的方法，其中所述清洁溶液包括选自以下的成分：盐酸脲，磷酸，硫酸，硝酸，过氧酸，清洁剂，乳化剂，及其组合。

18.根据权利要求1所述的方法，其中所述工业水系统选自冷却水系统、加热水系统、造纸系统、精炼系统、化学处理系统、粗油萃取系统和天然气萃取系统。

19.根据权利要求1所述的方法，其中所述工业水系统是冷却水系统。

20.根据权利要求1所述的方法，其中至少一个所述表面位于所述工业水流的窄化部分中。